JPH07225151A - レーザ出力測定装置 - Google Patents
レーザ出力測定装置Info
- Publication number
- JPH07225151A JPH07225151A JP1801994A JP1801994A JPH07225151A JP H07225151 A JPH07225151 A JP H07225151A JP 1801994 A JP1801994 A JP 1801994A JP 1801994 A JP1801994 A JP 1801994A JP H07225151 A JPH07225151 A JP H07225151A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- yag laser
- laser light
- laser output
- attenuating
- output
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 受光素子の破損を招くことなく、レーザ光の
出力値を正確に測定可能とし、装置全体の小型化を可能
とする。 【構成】 プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファイバ端
１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０１上に
適切な位置及び角度で配置されており、出力光路１０１
上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐する。フォ
トダイオード３及び減衰フィルタ５は夫々測定光路１０
２上に適切な位置及び角度で配置されている。プリズム
２で測定光路１０２上に分岐されたＹＡＧレーザ光は減
衰フィルタ５でその出力値が所定量だけ減衰された後に
フォトダイオード３に照射される。フォトダイオード３
は受光したＹＡＧレーザ光を電気信号に変換して測定機
に出力する。
出力値を正確に測定可能とし、装置全体の小型化を可能
とする。 【構成】 プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファイバ端
１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０１上に
適切な位置及び角度で配置されており、出力光路１０１
上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐する。フォ
トダイオード３及び減衰フィルタ５は夫々測定光路１０
２上に適切な位置及び角度で配置されている。プリズム
２で測定光路１０２上に分岐されたＹＡＧレーザ光は減
衰フィルタ５でその出力値が所定量だけ減衰された後に
フォトダイオード３に照射される。フォトダイオード３
は受光したＹＡＧレーザ光を電気信号に変換して測定機
に出力する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ出力測定装置に関
し、特に溶接等のレーザ加工に用いられるＹＡＧレーザ
光の出力測定方法に関する。
し、特に溶接等のレーザ加工に用いられるＹＡＧレーザ
光の出力測定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のＹＡＧレーザ光の出力測
定方法としては、図７に示すように、ＹＡＧレーザ光出
射ファイバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光をＹＡＧ
レーザ出力計２１に直接出射することで、作業前にＹＡ
Ｇレーザ光の出力測定を行う方法がある。
定方法としては、図７に示すように、ＹＡＧレーザ光出
射ファイバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光をＹＡＧ
レーザ出力計２１に直接出射することで、作業前にＹＡ
Ｇレーザ光の出力測定を行う方法がある。
【０００３】この方法ではＹＡＧレーザ光出射ファイバ
端１からのＹＡＧレーザ光の出力光路上にＹＡＧレーザ
出力計２１を置かなければならないため、ＹＡＧレーザ
光に対する出力測定を作業中にではなく、作業前あるい
は作業後にしか行えない。
端１からのＹＡＧレーザ光の出力光路上にＹＡＧレーザ
出力計２１を置かなければならないため、ＹＡＧレーザ
光に対する出力測定を作業中にではなく、作業前あるい
は作業後にしか行えない。
【０００４】また、ＹＡＧレーザ光出射ファイバ端１と
ＹＡＧレーザ出力計２１との間にある程度の距離を置か
なければならないので、測定値が安定しない。
ＹＡＧレーザ出力計２１との間にある程度の距離を置か
なければならないので、測定値が安定しない。
【０００５】これらの問題を解決するために、図８に示
すように、ＹＡＧレーザ光出射ファイバ端１からのＹＡ
Ｇレーザ光の出力光路上にプリズム２等の分岐手段を置
き、プリズム２等の分岐手段で分岐されたＹＡＧレーザ
の出力を受光素子２２で受光して測定する方法が提案さ
れている。
すように、ＹＡＧレーザ光出射ファイバ端１からのＹＡ
Ｇレーザ光の出力光路上にプリズム２等の分岐手段を置
き、プリズム２等の分岐手段で分岐されたＹＡＧレーザ
の出力を受光素子２２で受光して測定する方法が提案さ
れている。
【０００６】この方法を採用することで、ＹＡＧレーザ
光に対する出力測定が作業中でも可能となり、しかも安
定した測定値を得ることができる。尚、この方法につい
ては、特開昭５６−１６４９０４号公報に詳述されてい
る。
光に対する出力測定が作業中でも可能となり、しかも安
定した測定値を得ることができる。尚、この方法につい
ては、特開昭５６−１６４９０４号公報に詳述されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のＹＡＧ
レーザ光の出力測定方法では、ＹＡＧレーザ光の出力光
路上に分岐手段を置き、その分岐手段で分岐されたＹＡ
Ｇレーザの出力を受光素子で受光して測定している。
レーザ光の出力測定方法では、ＹＡＧレーザ光の出力光
路上に分岐手段を置き、その分岐手段で分岐されたＹＡ
Ｇレーザの出力を受光素子で受光して測定している。
【０００８】この場合、ＹＡＧレーザの出力は分岐手段
で分岐されてもかなりの出力値があるため、その出力値
に耐えられる大型の受光素子しか用いることができず、
ＹＡＧレーザの出射系そのものの小型化が難しい。
で分岐されてもかなりの出力値があるため、その出力値
に耐えられる大型の受光素子しか用いることができず、
ＹＡＧレーザの出射系そのものの小型化が難しい。
【０００９】例えば、フォトダイオード等の小型の受光
素子ではある一定量以上の光量を受光すると、正確な電
流が発生しなくなることが知られており、その光量を受
光素子の飽和状態以上に受光すると破損する恐れがあ
る。
素子ではある一定量以上の光量を受光すると、正確な電
流が発生しなくなることが知られており、その光量を受
光素子の飽和状態以上に受光すると破損する恐れがあ
る。
【００１０】そこで、本発明の目的は上記の問題点を解
消し、受光素子の破損を招くことなく、レーザ光の出力
値を正確に測定することができ、装置全体の小型化を可
能とすることができるレーザ出力測定装置を提供するこ
とにある。
消し、受光素子の破損を招くことなく、レーザ光の出力
値を正確に測定することができ、装置全体の小型化を可
能とすることができるレーザ出力測定装置を提供するこ
とにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明によるレーザ出力
測定装置は、レーザ出力を測定光路及び出力光路に分岐
する分岐手段と、前記測定光路に分岐されたレーザ出力
を減衰する減衰手段と、前記減衰手段で減衰されたレー
ザ出力を電気信号に変換するフォトダイオードとを備え
ている。
測定装置は、レーザ出力を測定光路及び出力光路に分岐
する分岐手段と、前記測定光路に分岐されたレーザ出力
を減衰する減衰手段と、前記減衰手段で減衰されたレー
ザ出力を電気信号に変換するフォトダイオードとを備え
ている。
【００１２】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１３】図１は本発明の第１の実施例の構成図であ
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上に適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上に適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
【００１４】また、フォトダイオード３は測定光路１０
２上に適切な位置及び角度で配置されており、プリズム
２で測定光路１０２上に分岐されたＹＡＧレーザ光を受
光し、そのＹＡＧレーザ光を電気信号に変換して図示せ
ぬ測定機に出力する。
２上に適切な位置及び角度で配置されており、プリズム
２で測定光路１０２上に分岐されたＹＡＧレーザ光を受
光し、そのＹＡＧレーザ光を電気信号に変換して図示せ
ぬ測定機に出力する。
【００１５】この場合、プリズム２のＹＡＧレーザ光の
入光面には反射防止膜４が施されているので、ＹＡＧレ
ーザ光の出力光路１０１への透過率が高められている。
したがって、プリズム２で分岐された測定光路１０２上
のＹＡＧレーザ光の出力値を小さくすることができるの
で、フォトダイオード３におけるＹＡＧレーザ光の受光
量を減らすことができる。
入光面には反射防止膜４が施されているので、ＹＡＧレ
ーザ光の出力光路１０１への透過率が高められている。
したがって、プリズム２で分岐された測定光路１０２上
のＹＡＧレーザ光の出力値を小さくすることができるの
で、フォトダイオード３におけるＹＡＧレーザ光の受光
量を減らすことができる。
【００１６】すなわち、反射防止膜４の透過率を、フォ
トダイオード３がＹＡＧレーザ光を受光しても飽和状態
にならない程度まで高めることで、小型の受光素子であ
るフォトダイオード３を用いることが可能となる。
トダイオード３がＹＡＧレーザ光を受光しても飽和状態
にならない程度まで高めることで、小型の受光素子であ
るフォトダイオード３を用いることが可能となる。
【００１７】しかも、フォトダイオード３からの反射光
１０３がプリズム２で反射するという二次反射を反射防
止膜４で防止することができるので、フォトダイオード
３でＹＡＧレーザ光の真値を測定することが可能とな
る。
１０３がプリズム２で反射するという二次反射を反射防
止膜４で防止することができるので、フォトダイオード
３でＹＡＧレーザ光の真値を測定することが可能とな
る。
【００１８】ここで、反射防止膜４はプリズム２の入光
面に蒸着されることで単層膜または多層膜を形成し、プ
リズム２表面の反射を防止してプリズム２の透過率を高
めるようにしたものである。
面に蒸着されることで単層膜または多層膜を形成し、プ
リズム２表面の反射を防止してプリズム２の透過率を高
めるようにしたものである。
【００１９】図２は本発明の第２の実施例の構成図であ
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上の適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上の適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
【００２０】また、フォトダイオード３及び減衰フィル
タ５は夫々測定光路１０２上に適切な位置及び角度で配
置されている。よって、プリズム２で測定光路１０２上
に分岐されたＹＡＧレーザ光は減衰フィルタ５でその出
力値が所定量だけ減衰された後にフォトダイオード３に
照射される。フォトダイオード３は受光したＹＡＧレー
ザ光を電気信号に変換して図示せぬ測定機に出力する。
タ５は夫々測定光路１０２上に適切な位置及び角度で配
置されている。よって、プリズム２で測定光路１０２上
に分岐されたＹＡＧレーザ光は減衰フィルタ５でその出
力値が所定量だけ減衰された後にフォトダイオード３に
照射される。フォトダイオード３は受光したＹＡＧレー
ザ光を電気信号に変換して図示せぬ測定機に出力する。
【００２１】この場合、減衰フィルタ５はプリズム２で
分岐されたＹＡＧレーザ光の出力値を小さくすることが
できるので、フォトダイオード３におけるＹＡＧレーザ
光の受光量を減らすことができる。
分岐されたＹＡＧレーザ光の出力値を小さくすることが
できるので、フォトダイオード３におけるＹＡＧレーザ
光の受光量を減らすことができる。
【００２２】すなわち、減衰フィルタ５の減衰率を、フ
ォトダイオード３がＹＡＧレーザ光を受光しても飽和状
態にならない程度とすることで、小型の受光素子である
フォトダイオード３を用いることが可能となる。
ォトダイオード３がＹＡＧレーザ光を受光しても飽和状
態にならない程度とすることで、小型の受光素子である
フォトダイオード３を用いることが可能となる。
【００２３】ここで、減衰フィルタ５としては一定の波
長域で光の透過率が一定なガラス、あるいはその種のガ
ラスに光減衰膜（例えば、クロム膜等）を蒸着したもの
等が一般に知られている。
長域で光の透過率が一定なガラス、あるいはその種のガ
ラスに光減衰膜（例えば、クロム膜等）を蒸着したもの
等が一般に知られている。
【００２４】図３は本発明の第３の実施例の構成図であ
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上の適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上の適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
【００２５】また、フォトダイオード３及び減衰フィル
タ６ａ，６ｂは夫々測定光路１０２上に適切な位置及び
角度で配置されている。よって、プリズム２で測定光路
１０２上に分岐されたＹＡＧレーザ光は減衰フィルタ６
ａ，６ｂ各々でその出力値が所定量だけ減衰された後に
フォトダイオード３に照射される。フォトダイオード３
は受光したＹＡＧレーザ光を電気信号に変換して図示せ
ぬ測定機に出力する。
タ６ａ，６ｂは夫々測定光路１０２上に適切な位置及び
角度で配置されている。よって、プリズム２で測定光路
１０２上に分岐されたＹＡＧレーザ光は減衰フィルタ６
ａ，６ｂ各々でその出力値が所定量だけ減衰された後に
フォトダイオード３に照射される。フォトダイオード３
は受光したＹＡＧレーザ光を電気信号に変換して図示せ
ぬ測定機に出力する。
【００２６】この場合、減衰フィルタ６ａはプリズム２
で分岐されたＹＡＧレーザ光の出力値を小さくし、減衰
フィルタ６ｂは減衰フィルタ６ａで減衰されたＹＡＧレ
ーザ光の出力値をさらに小さくすることができるので、
フォトダイオード３におけるＹＡＧレーザ光の受光量を
減らすことができる。
で分岐されたＹＡＧレーザ光の出力値を小さくし、減衰
フィルタ６ｂは減衰フィルタ６ａで減衰されたＹＡＧレ
ーザ光の出力値をさらに小さくすることができるので、
フォトダイオード３におけるＹＡＧレーザ光の受光量を
減らすことができる。
【００２７】すなわち、減衰フィルタ６ａ，６ｂ各々の
減衰率を、減衰フィルタ６ｂから出射されたＹＡＧレー
ザ光をフォトダイオード３が受光しても飽和状態になら
ない程度とすることで、小型の受光素子であるフォトダ
イオード３を用いることが可能となる。
減衰率を、減衰フィルタ６ｂから出射されたＹＡＧレー
ザ光をフォトダイオード３が受光しても飽和状態になら
ない程度とすることで、小型の受光素子であるフォトダ
イオード３を用いることが可能となる。
【００２８】ここで、減衰フィルタ６ａ，６ｂとしては
上記の減衰フィルタ５と同様の構造のものを使用すれば
よい。また、減衰フィルタ６ａ，６ｂによる減衰量を大
きくすることで、ＹＡＧレーザ光を少量受光すると飽和
状態となる低受光型フォトダイオードや超低受光型フォ
トダイオードを使用することが可能となる。
上記の減衰フィルタ５と同様の構造のものを使用すれば
よい。また、減衰フィルタ６ａ，６ｂによる減衰量を大
きくすることで、ＹＡＧレーザ光を少量受光すると飽和
状態となる低受光型フォトダイオードや超低受光型フォ
トダイオードを使用することが可能となる。
【００２９】上記のような構成の場合、例えばＹＡＧレ
ーザ光出射ファイバ端１から最大出力８．４ＷのＹＡＧ
レーザ光が出射されるものとし、プリズム２がレーザ出
力の０．５％を反射し、減衰フィルタ６ａ，６ｂが夫々
レーザ出力の０．１％を透過するように構成されている
とすると、まずプリズム２では８．４Ｗの０．５％、つ
まり４２ｍＷのＹＡＧレーザ光が反射される。
ーザ光出射ファイバ端１から最大出力８．４ＷのＹＡＧ
レーザ光が出射されるものとし、プリズム２がレーザ出
力の０．５％を反射し、減衰フィルタ６ａ，６ｂが夫々
レーザ出力の０．１％を透過するように構成されている
とすると、まずプリズム２では８．４Ｗの０．５％、つ
まり４２ｍＷのＹＡＧレーザ光が反射される。
【００３０】プリズム２で反射された４２ｍＷのＹＡＧ
レーザ光は減衰フィルタ６ａで減衰されて４２ｍＷの
０．１％、つまり４２０００ｎＷのＹＡＧレーザ光が透
過される。
レーザ光は減衰フィルタ６ａで減衰されて４２ｍＷの
０．１％、つまり４２０００ｎＷのＹＡＧレーザ光が透
過される。
【００３１】この４２０００ｎＷのＹＡＧレーザ光は減
衰フィルタ６ｂでさらに減衰されて４２０００ｎＷの
０．１％、つまり４２ｎＷのＹＡＧレーザ光が透過され
てフォトダイオード３に照射される。
衰フィルタ６ｂでさらに減衰されて４２０００ｎＷの
０．１％、つまり４２ｎＷのＹＡＧレーザ光が透過され
てフォトダイオード３に照射される。
【００３２】したがって、フォトダイオード３の受光可
能範囲が５０ｎＷ以下の場合でも、上記の如く、プリズ
ム２で分岐されたＹＡＧレーザ光を減衰フィルタ６ａ，
６ｂで夫々減衰することによって、上記のフォトダイオ
ード３を使用することが可能となる。
能範囲が５０ｎＷ以下の場合でも、上記の如く、プリズ
ム２で分岐されたＹＡＧレーザ光を減衰フィルタ６ａ，
６ｂで夫々減衰することによって、上記のフォトダイオ
ード３を使用することが可能となる。
【００３３】この場合、フォトダイオード３でモニタさ
れる出力値はＹＡＧレーザ光出射ファイバ端１から出射
されたＹＡＧレーザ光の０．００５％と分かっているの
で、出力光路１０１上のＹＡＧレーザ光の出力値を作業
中に測定することができる。
れる出力値はＹＡＧレーザ光出射ファイバ端１から出射
されたＹＡＧレーザ光の０．００５％と分かっているの
で、出力光路１０１上のＹＡＧレーザ光の出力値を作業
中に測定することができる。
【００３４】これによって、ＹＡＧレーザ光の出力値に
よって左右されていた溶接等のレーザ加工の強度を常に
チェックすることが可能となり、加工品質すなわち製品
の品質を向上させることができる。
よって左右されていた溶接等のレーザ加工の強度を常に
チェックすることが可能となり、加工品質すなわち製品
の品質を向上させることができる。
【００３５】図４は本発明の第４の実施例の構成図であ
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上の適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上の適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
【００３６】また、フォトダイオード３及び減衰プレー
ト７は測定光路１０２上の適切な位置及び角度で配置さ
れている。よって、プリズム２で測定光路１０２上に分
岐されたＹＡＧレーザ光は減衰プレート７でその出力値
が所定量だけ減衰された後にフォトダイオード３に照射
される。フォトダイオード３は受光したＹＡＧレーザ光
を電気信号に変換して図示せぬ測定機に出力する。
ト７は測定光路１０２上の適切な位置及び角度で配置さ
れている。よって、プリズム２で測定光路１０２上に分
岐されたＹＡＧレーザ光は減衰プレート７でその出力値
が所定量だけ減衰された後にフォトダイオード３に照射
される。フォトダイオード３は受光したＹＡＧレーザ光
を電気信号に変換して図示せぬ測定機に出力する。
【００３７】この場合、減衰プレート７にはある一定の
光量のＹＡＧレーザ光が通過可能なピンホール７ａが設
けられており、このピンホール７ａによってプリズム２
で分岐されたＹＡＧレーザ光の出力値を小さくすること
ができるので、フォトダイオード３におけるＹＡＧレー
ザ光の受光量を減らすことができる。
光量のＹＡＧレーザ光が通過可能なピンホール７ａが設
けられており、このピンホール７ａによってプリズム２
で分岐されたＹＡＧレーザ光の出力値を小さくすること
ができるので、フォトダイオード３におけるＹＡＧレー
ザ光の受光量を減らすことができる。
【００３８】すなわち、減衰プレート７の減衰率を、ピ
ンホール７ａを通過したＹＡＧレーザ光がフォトダイオ
ード３に照射されてもフォトダイオード３が飽和状態に
ならない程度とすることで、小型の受光素子であるフォ
トダイオード３を用いることが可能となる。
ンホール７ａを通過したＹＡＧレーザ光がフォトダイオ
ード３に照射されてもフォトダイオード３が飽和状態に
ならない程度とすることで、小型の受光素子であるフォ
トダイオード３を用いることが可能となる。
【００３９】ここで、減衰プレート７としてはＹＡＧレ
ーザ光を透過しない板が用いられ、ピンホール７ａの径
はＹＡＧレーザ光の光径よりも小さくなっている。よっ
て、ＹＡＧレーザ光はピンホール７ａのみを通過するの
で、この減衰プレート７によってＹＡＧレーザ光を所望
の減衰率で減衰させることができる。
ーザ光を透過しない板が用いられ、ピンホール７ａの径
はＹＡＧレーザ光の光径よりも小さくなっている。よっ
て、ＹＡＧレーザ光はピンホール７ａのみを通過するの
で、この減衰プレート７によってＹＡＧレーザ光を所望
の減衰率で減衰させることができる。
【００４０】図５は本発明の第５の実施例の構成図であ
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上に適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
る。図において、プリズム２はＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１から出射されたＹＡＧレーザ光の出力光路１０
１上に適切な位置及び角度で配置されており、出力光路
１０１上のＹＡＧレーザ光を測定光路１０２に分岐す
る。
【００４１】また、フォトダイオード３及び拡散フィル
タ８は測定光路１０２上に適切な位置及び角度で配置さ
れている。よって、プリズム２で測定光路１０２上に分
岐されたＹＡＧレーザ光は拡散フィルタ８でその出力値
が所定量だけ減衰された後にフォトダイオード３に照射
される。フォトダイオード３は受光したＹＡＧレーザ光
を電気信号に変換して図示せぬ測定機に出力する。
タ８は測定光路１０２上に適切な位置及び角度で配置さ
れている。よって、プリズム２で測定光路１０２上に分
岐されたＹＡＧレーザ光は拡散フィルタ８でその出力値
が所定量だけ減衰された後にフォトダイオード３に照射
される。フォトダイオード３は受光したＹＡＧレーザ光
を電気信号に変換して図示せぬ測定機に出力する。
【００４２】この場合、拡散フィルタ８はプリズム２で
分岐されたＹＡＧレーザ光を減光または散光させること
でその出力値を小さくすることができるので、フォトダ
イオード３におけるＹＡＧレーザ光の受光量を減らすこ
とができる。
分岐されたＹＡＧレーザ光を減光または散光させること
でその出力値を小さくすることができるので、フォトダ
イオード３におけるＹＡＧレーザ光の受光量を減らすこ
とができる。
【００４３】すなわち、拡散フィルタ８の減光率または
散光率を、フォトダイオード３がＹＡＧレーザ光を受光
しても飽和状態にならない程度とすることで、小型の受
光素子であるフォトダイオード３を用いることが可能と
なる。
散光率を、フォトダイオード３がＹＡＧレーザ光を受光
しても飽和状態にならない程度とすることで、小型の受
光素子であるフォトダイオード３を用いることが可能と
なる。
【００４４】ここで、拡散フィルタ８としては研磨材に
よるガラスのつや消し効果（スリガラス）を利用したフ
ロスト型のものと、ガラス内に光拡散物質を分散させた
オバール型のもの等が一般に知られている。
よるガラスのつや消し効果（スリガラス）を利用したフ
ロスト型のものと、ガラス内に光拡散物質を分散させた
オバール型のもの等が一般に知られている。
【００４５】図６は本発明の第６の実施例の構成図であ
る。図においては、本発明を用いてＹＡＧレーザ光の出
射系及び測定系を小型化した例を示しており、本発明の
第３の実施例の構成とほぼ同様の構成となっている。
る。図においては、本発明を用いてＹＡＧレーザ光の出
射系及び測定系を小型化した例を示しており、本発明の
第３の実施例の構成とほぼ同様の構成となっている。
【００４６】出射鏡筒１０にはＹＡＧレーザ光出射ファ
イバ端１１と、出力光路１０１上に適切な位置及び角度
で配置されたガラス板１２と、出力光路１０１上のＹＡ
Ｇレーザ光を集光して被加工物（図示せず）に照射する
集光レンズ１３と、２枚重ねに配置された減衰フィルタ
１４，１５と、減衰フィルタ１４，１５で夫々減衰され
たＹＡＧレーザ光を受光するフォトダイオード３とが組
込まれている。
イバ端１１と、出力光路１０１上に適切な位置及び角度
で配置されたガラス板１２と、出力光路１０１上のＹＡ
Ｇレーザ光を集光して被加工物（図示せず）に照射する
集光レンズ１３と、２枚重ねに配置された減衰フィルタ
１４，１５と、減衰フィルタ１４，１５で夫々減衰され
たＹＡＧレーザ光を受光するフォトダイオード３とが組
込まれている。
【００４７】すなわち、ＹＡＧレーザ光出射ファイバ端
１１から出力光路１０１上に出射されたＹＡＧレーザ光
はガラス板１２で測定光路１０２に分岐され、減衰フィ
ルタ１４，１５で夫々減衰されてフォトダイオード３に
受光される。フォトダイオード３はそのＹＡＧレーザ光
を電気信号に変換して図示せぬ出力計に出力する。
１１から出力光路１０１上に出射されたＹＡＧレーザ光
はガラス板１２で測定光路１０２に分岐され、減衰フィ
ルタ１４，１５で夫々減衰されてフォトダイオード３に
受光される。フォトダイオード３はそのＹＡＧレーザ光
を電気信号に変換して図示せぬ出力計に出力する。
【００４８】本発明の第六の実施例では、上記の如く、
フォトダイオード３の破損を招くことなく、ＹＡＧレー
ザ光の出射光学系及び測定系を出射鏡筒１０内にコンパ
クトに収納することが可能となり、ＹＡＧレーザ光の出
力値を作業中でも正確に測定することができる。
フォトダイオード３の破損を招くことなく、ＹＡＧレー
ザ光の出射光学系及び測定系を出射鏡筒１０内にコンパ
クトに収納することが可能となり、ＹＡＧレーザ光の出
力値を作業中でも正確に測定することができる。
【００４９】尚、本発明の第１の実施例〜第６の実施例
では、本発明の第１の実施例に示したプリズム２の入光
面の反射防止膜４を他の構成要素、つまり減衰フィルタ
５，６ａ，６ｂ，１４，１５、減衰プレート７、拡散フ
ィルタ８、ガラス板１２各々の入光面や出光面、あるい
はプリズム２の出光面に夫々施すことによって、ＹＡＧ
レーザ光の出力値をより正確に測定することが可能とな
る。また、上記の各実施例はＹＡＧレーザ光以外のレー
ザ光による加工装置にも適用可能である。
では、本発明の第１の実施例に示したプリズム２の入光
面の反射防止膜４を他の構成要素、つまり減衰フィルタ
５，６ａ，６ｂ，１４，１５、減衰プレート７、拡散フ
ィルタ８、ガラス板１２各々の入光面や出光面、あるい
はプリズム２の出光面に夫々施すことによって、ＹＡＧ
レーザ光の出力値をより正確に測定することが可能とな
る。また、上記の各実施例はＹＡＧレーザ光以外のレー
ザ光による加工装置にも適用可能である。
【００５０】このように、プリズム２で分岐された測定
光路１０２上に出射されるＹＡＧレーザ光を反射防止膜
４、減衰フィルタ５，６ａ，６ｂ，１４，１５、減衰プ
レート７、拡散フィルタ８等の減衰手段を用いて減衰し
てからフォトダイオード３に照射することによって、フ
ォトダイオード３の破損を招くことなく、ＹＡＧレーザ
光の出力値を正確に測定することができ、装置全体の小
型化を可能とすることができる。
光路１０２上に出射されるＹＡＧレーザ光を反射防止膜
４、減衰フィルタ５，６ａ，６ｂ，１４，１５、減衰プ
レート７、拡散フィルタ８等の減衰手段を用いて減衰し
てからフォトダイオード３に照射することによって、フ
ォトダイオード３の破損を招くことなく、ＹＡＧレーザ
光の出力値を正確に測定することができ、装置全体の小
型化を可能とすることができる。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、レ
ーザ出力を測定光路及び出力光路に分岐し、測定光路に
分岐されたレーザ出力を減衰してからフォトダイオード
に照射することによって、フォトダイオードの破損を招
くことなく、レーザ光の出力値を正確に測定することが
でき、装置全体の小型化を可能とすることができるとい
う効果がある。
ーザ出力を測定光路及び出力光路に分岐し、測定光路に
分岐されたレーザ出力を減衰してからフォトダイオード
に照射することによって、フォトダイオードの破損を招
くことなく、レーザ光の出力値を正確に測定することが
でき、装置全体の小型化を可能とすることができるとい
う効果がある。
【図１】本発明の第１の実施例の構成図である。
【図２】本発明の第２の実施例の構成図である。
【図３】本発明の第３の実施例の構成図である。
【図４】本発明の第４の実施例の構成図である。
【図５】本発明の第５の実施例の構成図である。
【図６】本発明の第６の実施例の構成図である。
【図７】従来例の構成図である。
【図８】従来例の構成図である。
１，１１ ＹＡＧレーザ光出射ファイバ端 ２ プリズム ３ フォトダイオード ４ 反射防止膜 ５，６ａ，６ｂ，１４，１５ 減衰フィルタ ７ 減衰プレート ７ａ ピンホール ８ 拡散フィルタ １０ 出射鏡筒 １２ ガラス板
Claims (8)
- 【請求項１】 レーザ出力を測定光路及び出力光路に分
岐する分岐手段と、前記測定光路に分岐されたレーザ出
力を減衰する減衰手段と、前記減衰手段で減衰されたレ
ーザ出力を電気信号に変換するフォトダイオードとを有
することを特徴とするレーザ出力測定装置。 - 【請求項２】 前記分岐手段及び前記減衰手段は、少な
くとも前記レーザ出力の入光面に反射防止膜が施された
光学素子からなることを特徴とする請求項１記載のレー
ザ出力測定装置。 - 【請求項３】 前記フォトダイオードは、前記分岐手段
で分岐された前記レーザ出力を少量受光すると飽和状態
となる低受光型フォトダイオードからなることを特徴と
する請求項１または請求項２記載のレーザ出力測定装
置。 - 【請求項４】 前記減衰手段は、前記分岐手段で分岐さ
れた前記レーザ出力を所定量減衰する減衰フィルタから
なることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか
記載のレーザ出力測定装置。 - 【請求項５】 前記減衰手段は、前記分岐手段で分岐さ
れた前記レーザ出力を各々所定量減衰する複数の減衰フ
ィルタからなることを特徴とする請求項１から請求項３
のいずれか記載のレーザ出力測定装置。 - 【請求項６】 前記減衰手段は、前記分岐手段で分岐さ
れた前記レーザ出力を所定量減衰するためのピンホール
を有する減衰プレートからなることを特徴とする請求項
１から請求項３のいずれか記載のレーザ出力測定装置。 - 【請求項７】 前記減衰手段は、前記分岐手段で分岐さ
れた前記レーザ出力を所定量拡散する拡散フィルタから
なることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか
記載のレーザ出力測定装置。 - 【請求項８】 前記減衰手段及び前記フォトダイオード
各々の少なくとも前記レーザ出力の入光面に反射防止膜
を施したことを特徴とする請求項１から請求項７のいず
れか記載のレーザ出力測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1801994A JPH07225151A (ja) | 1994-02-15 | 1994-02-15 | レーザ出力測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1801994A JPH07225151A (ja) | 1994-02-15 | 1994-02-15 | レーザ出力測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07225151A true JPH07225151A (ja) | 1995-08-22 |
Family
ID=11959963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1801994A Withdrawn JPH07225151A (ja) | 1994-02-15 | 1994-02-15 | レーザ出力測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07225151A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508688A (ja) * | 2009-10-19 | 2013-03-07 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | ランダム偏光の出力監視組立体 |
| JP2015042972A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-03-05 | ウルトラテック インク | 高強度光線測定システム、及び方法 |
-
1994
- 1994-02-15 JP JP1801994A patent/JPH07225151A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013508688A (ja) * | 2009-10-19 | 2013-03-07 | アイピージー フォトニクス コーポレーション | ランダム偏光の出力監視組立体 |
| JP2015042972A (ja) * | 2013-07-29 | 2015-03-05 | ウルトラテック インク | 高強度光線測定システム、及び方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4412720A (en) | Optical system coupling a rectangular light source to a circular light receiver | |
| US6130753A (en) | Laser optical density measurement system | |
| RU2007115154A (ru) | Оптическое измерительное устройство для измерения характеристик нескольких поверхностей объекта измерения | |
| CN109813425A (zh) | 一种光源光功率检测装置及激光光源 | |
| JP2002181698A (ja) | 分光反射率測定装置および分光反射率測定方法 | |
| US20230296909A1 (en) | Nano-Textured Attenuator for Use with Laser Beam Profiling and Laser Beam Characterization Systems and Method of Use | |
| US4831276A (en) | Apparatus for measuring reflectivity | |
| CN210664764U (zh) | 高精度激光功率取样测量装置 | |
| JPH07225151A (ja) | レーザ出力測定装置 | |
| JP2005195348A (ja) | 照明光学装置 | |
| CN111693257B (zh) | 阵列准直激光参量检测装置 | |
| US6486942B1 (en) | Method and system for measurement of a characteristic of lens | |
| CN209326782U (zh) | 一种光源光功率检测装置及激光光源 | |
| JPH01500539A (ja) | レーザ放射特性の測定装置 | |
| JP2001272272A (ja) | 光のモニター | |
| CN217878006U (zh) | 一种激光功率探测装置 | |
| JPH11101739A (ja) | エリプソメトリ装置 | |
| CN210638810U (zh) | 一种激光束参数测量装置 | |
| JPH07104203B2 (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH0886976A (ja) | 高出力レーザ光分岐装置および絞り装置 | |
| EP4051997A1 (en) | Optical power meter for safe operation of optical wireless power systems | |
| US6834970B2 (en) | Corner cube side decrease of amplitude of beam of light | |
| JP2907037B2 (ja) | 双方向ラインモニタ | |
| JP4713769B2 (ja) | 半導体レーザの高周波重畳動作検査装置 | |
| JP2022183101A (ja) | 光学測定装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010508 |