JP2013501079A - 複合顔料及びその調製方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に使用すべき基材は、板の形状を有する。基材が板の形態である限り、いかなる基材を使用してもよい。基材は、アスペクト比が少なくとも5であり、好ましくは10より大きく、より好ましくは20より大きく、より好ましくは50より大きいことが好ましい。アスペクト比は、アスペクト比=長さ/厚さの式に従って、平均厚さ及び平均長さから求めることができる。
板状基材の積層体は、少なくとも1種のUV遮蔽剤を含む少なくとも1つの層によって少なくとも部分的に覆うことができる。存在する場合、その層をコーティング層と呼ぶ。本発明による複合顔料を膨張部や紡錘形等の丸みを帯びた形状にするには、板状基材積層体の外表面を、1重若しくはそれ以上のコーティング層で覆うことが好ましい。外表面の10%以上をコーティング層によって覆うことが好ましい。外表面の50%以上をコーティング層によって覆うことがより好ましい。外表面の80%以上をコーティング層によって覆うことがより好ましい。板状基材積層体の外表面全体をコーティング層によって覆うことが最も好ましい。
本発明による複合顔料は、少なくとも1種のUV遮蔽剤を、少なくとも一部、板状基材間に含んでいる。さらに、上述のように、本発明による複合顔料は、板状基材の積層体を覆う少なくとも1種のUV遮蔽剤を含んでいてもよい、少なくとも1重のコーティング層を備えていてもよい。板状基材間にあるUV遮蔽剤と、コーティング層中にあるUV遮蔽剤は、同じものでも異なってもよく、同じものであることが好ましい。
メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、ホモサレート、サリチル酸エチルヘキシル、オクトクリレン、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、ベンゾフェノン-3、ベンゾフェノン-4、ベンゾフェノン-5、n-ヘキシル2-(4-ジエチルアミノ-2-ヒドロキシベンゾイル)ベンゾエート、4-メチルベンジリデンショウノウ、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、エチルヘキシルトリアゾン、ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、2,4,6-トリス(ジネオペンチル4’-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ジイソブチル4’-アミノベンザルマロネート)-s-トリアジン、2,4,6-トリス(ビフェニル-4-イル)-1,3,5-トリアジン、2,4,6-トリス(ターフェニル)-1,3,5-トリアジン、メチレンビス-ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール、ドロメトリゾールトリシロキサン、ポリシリコーン-15、4’-メトキシベンザルマロン酸ジネオペンチル、1,1-ジカルボキシ(2,2’-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾオキサゾール-2-イル-(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、及び、これらの混合物。
池田物産からの製品「Sunveil」等、シリカで被覆されているもの、
池田物産からの製品「Sunveil F」等、シリカ及び酸化鉄で被覆されているもの、
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 500 SA」及び「Microtitanium Dioxide MT 100 SA」、Tioxideの製品「Tioveil」、Rhodiaの製品「Mirasun TiW 60」等、シリカ及びアルミナで被覆されているもの、
石原産業の製品「Tipaque TTO-55 (B)」及び「Tipaque TTO-55 (A)」、Kemiraの製品「UVT 14/4」等、アルミナで被覆されているもの、
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 T、MT 100 TX、MT 100 Z又はMT-01」、Uniqemaの製品「Solaveil CT-10 W」及び「Solaveil CT 100」、Merckの製品「Eusolex T-AVO」等、アルミナ及びステアリン酸アルミニウムで被覆されているもの、
テイカの製品「MT-100 AQ」等、シリカ、アルミナ及びアルギン酸で被覆されているもの、
テイカの製品「MT-100 TV」等、ステアリン酸アルミニウムで被覆されているもの、一次粒径は15nm、
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 S」等、アルミナ及びラウリン酸アルミニウムで被覆されているもの、
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 100 F」等、酸化鉄及びステアリン酸鉄で被覆されているもの、
テイカの製品「BR351」等、酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛で被覆されているもの、
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 600 SAS」、「Microtitanium Dioxide MT 500 SAS」、及び「Microtitanium Dioxide MT 100 SAS」等、シリカ及びアルミナで被覆され、シリコーンで処理されたもの、
チタン工業の製品「STT-30-DS」等、シリカ、アルミナ、及びステアリン酸アルミニウムで被覆され、シリコーンで処理されたもの、
Kemiraの製品「UV-Titan X 195」等、シリカで被覆され、シリコーンで処理されたもの、
石原産業の製品「Tipaque TTO-55 (S)」又はKemiraの製品「UV Titan M 262」等、アルミナで被覆され、シリコーンで処理されたもの、
チタン工業の製品「STT-65-S」等、トリエタノールアミンで被覆されているもの、
石原産業の製品「Tipaque TTO-55 (C)」等、ステアリン酸で被覆されているもの、又は
テイカの製品「Microtitanium Dioxide MT 150 W」等、ヘキサメタリン酸ナトリウムで被覆されているもの。
Sunsmartにより「Z-cote」の商標で市販されているもの、
Elementisにより「Nanox」の商標で市販されているもの、
Nanophase Technologiesにより「Nanogard WCD 2025」の商標で市販されているもの
である。
東芝により「Oxide Zinc CS-5」の商標で市販されているもの(ポリメチルヒドロシロキサンで被覆されているZnO)、
Nanophase Technologiesにより「Nanogard Zinc Oxide FN」の商標で(C12〜C15アルキルベンゾエートであるFinsolv TN中40%分散液として)市販されているもの、
大東化成により「Daitopersion Zn-30」及び「Daitopersion Zn-50」の商標で市販されているもの(シリカ及びポリメチルヒドロシロキサンで被覆されている亜鉛ナノオキシドを30%又は50%含む、オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン/シクロポリメチルシロキサン分散液)、
ダイキン工業により「NFD Ultrafine ZnO」の商標で市販されているもの(ペルフルオロアルキルのリン酸エステル及びペルフルオロアルキルエチルを主体としたコポリマーで被覆されている、シクロペンタシロキサン分散液としてのZnO)、
信越化学工業により「SPD-Z1」の商標で市販されているもの(シリコーングラフトアクリルポリマーで被覆されているZnOをシクロジメチルシロキサンに分散させたもの)、
ISPにより「Escalol Z100」の商標で市販されているもの(メトキシケイ皮酸エチルヘキシル/PVP-ヘキサデセンコポリマー/メチコン混合物に分散させたアルミナ処理ZnO)、及び
冨士色素により「Fuji ZnO-SMS-10」の商標で市販されているもの(シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されているZnO)、
Elementisにより「Nanox Gel TN」の商標で市販されているもの(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を含有するC12〜C15アルキルベンゾエートに55%で分散させたZnO)である。
上述のように、本発明による複合顔料は、好ましくは板状基材の積層体を覆うコーティング層中に、少なくとも1種の着色顔料を含んでよい。
本発明による複合顔料は、そのそれぞれが板の形態である複数の基材と、UV遮蔽剤と、場合により着色顔料等の追加の材料とを、ハイブリダイザー法にかけることにより調製できる。
上述のような複合顔料は、本発明による組成物中に、組成物の総重量の0.01重量%〜99重量%、好ましくは0.1重量%〜50重量%、より好ましくは1重量%〜30重量%の量で存在してよい。
本発明について、実施例としてより詳細に述べるつもりであるが、しかし、本発明の範囲を限定しないものと解釈すべきである。
日本の株式会社奈良機械製作所により市販されている、乾燥条件にある室中に複数の刃を有する高速ローターを備えたハイブリダイザーを使用して、表1に示す成分をハイブリダイザー法にかけて、複合顔料を得た。
マイカ2*: ラウロイルリシンで被覆されている合成マイカ
マイカ3*: アクリルシリコーンで被覆されている合成マイカ
TiO2: 日本のテイカ株式会社により市販されているMT-100 TV
OMC: メトキシケイ皮酸エチルヘキシル
Mexoryl: ドロメトリゾールトリシロキサン
ハイブリダイザー法にかける前後の粒径の変化をMASTERSIZER 2000 (Malvern Industries Ltd.英国)によって測定した。ハイブリダイザー法にかける前の粒径は、手による振盪後にUV遮蔽剤が広がって芯粒子を覆っている「混合物」の粒径に相当する。
表3に示す成分を混合することにより、実施例1〜4のいずれか又は比較例1〜4のいずれかを含有する2ウェイケーキ(TWC)ファンデーションを調製した。
トライボマスター type TL201Sa (株式会社トリニティーラボ、日本)を使用して、TWCファンデーションの摩擦係数(MIU)を測定した。
V-550紫外可視分光光度計(日本分光、日本)を使用して、TWCファンデーションのUV波吸光度を以下のとおりに測定した。
カオリンをラウロイルリシン板で置き換えるという条件で、実施例1による複合顔料の調製を繰り返した。
表7に示す成分を使用したことを除き、実施例1による複合顔料及び比較例1による混合物の調製を繰り返した。表7において、P6は、製造例6を意味する。得られた複合顔料及び混合物を、それぞれ実施例6及び比較例6と称した。
表8にその成分を示す基剤を、三シリンダーローラーによって、着色顔料(レッド202)がリップスティックの0.1wt%となるような実施例6による複合顔料又は比較例6の混合物と90℃で混合することにより、リップスティックを調製した。
V-550紫外可視分光光度計(日本分光、日本)を使用して、リップスティックについて各リップスティックのUV波吸光度を以下のとおりに測定した。
DATACOLOR 600 (Applied Color Systems Inc.、米国)を使用して、実施例6及び比較例6によるリップスティックそれぞれの色(L*,a*,b*)を以下のとおりに測定した。
Claims (15)
- 少なくとも2つの板状基材と、当該板状基材間に少なくとも一部が配置されている少なくとも1種のUV遮蔽剤とからなる積層体を含む複合顔料。
- 板状基材が少なくとも5のアスペクト比を有する、請求項1に記載の複合顔料。
- 板状基材が0.3μm〜30μmの範囲の長さである、請求項1又は2に記載の複合顔料。
- 少なくとも1種のUV遮蔽剤が、厚さ0.03μm〜10μmの層の形態である、請求項1から3のいずれか一項に記載の複合顔料。
- 複合顔料が0.2μm〜25μmの厚さである、請求項1から4のいずれか一項に記載の複合顔料。
- 板状基材が少なくとも1種の無機材料及び/又は少なくとも1種の有機材料を含む、請求項1から5のいずれか一項に記載の複合顔料。
- 無機材料が、天然マイカ、合成マイカ、セリサイト、カオリン、タルク、粘土鉱物、ハイドロタルサイト、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ヒドロキシアパタイト、シリカ、ケイ酸塩、酸化亜鉛、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、三ケイ酸マグネシウム、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、リン酸カルシウム、酸化マグネシウム、オキシ塩化ビスマス、ガラスフレーク、及び、これらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項6に記載の複合顔料。
- 有機材料が、(メタ)アクリレート、ポリアミド、シリコーン、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリヒドロキシアルカノエート、ポリカプロラクタム、ポリ(ブチレン)スクシネート、多糖類、ポリペプチド、ポリビニルアルコール、ポリビニル樹脂、フルオロポリマー、蝋、アミドスルホン酸多価金属塩、アシル化アミノ酸、及び、これらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項6又は7に記載の複合顔料。
- 少なくとも1種のUV遮蔽剤が有機又は無機である、請求項1から8のいずれか一項に記載の複合顔料。
- 少なくとも1種のUV遮蔽剤が、アントラニル酸誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、ベンゾフェノン誘導体、β,β-ジフェニルアクリレート誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンザルマロン酸誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、イミダゾリン誘導体、ビス-ベンゾアゾリル誘導体、p-アミノ安息香酸(PABA)及びその誘導体、メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体、ベンゾオキサゾール誘導体、遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、α-アルキルスチレン由来ダイマー、4,4-ジアリールブタジエン、オクトクリレン及びその誘導体、グアイアズレン及びその誘導体、ルチン及びその誘導体、フラボノイド、ビフラボノイド、オリザノール及びその誘導体、キナ酸及びその誘導体、フェノール、レチノール、システイン、芳香族アミノ酸、芳香族アミノ酸残基含有ペプチド、並びに、これらの混合物からなる群から選択される有機遮蔽剤を含む、請求項9に記載の複合顔料。
- 少なくとも1種のUV遮蔽剤が、炭化ケイ素、被覆又は非被覆金属酸化物、及び、これらの混合物からなる群から選択される無機UV遮蔽剤を含む、請求項9又は10に記載の複合顔料。
- 前記基材対少なくとも1種のUV遮蔽剤の重量比が100:1〜100:500である、請求項1から11のいずれか一項に記載の複合顔料。
- 少なくとも1種の着色顔料をさらに含む、請求項1から12のいずれか一項に記載の複合顔料。
- 複数の板状基材と、少なくとも1種のUV遮蔽剤と、場合により着色顔料とをハイブリダイザー法にかけるステップを含む、請求項1から13のいずれか一項に記載の複合顔料の調製方法。
- 請求項1から13のいずれか一項に記載の複合顔料又は請求項14に記載の方法によって調製した複合顔料を含む化粧品組成物。
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