JP2013254778A - 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置の運転方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アーム3を昇降させるためのボールネジ4が配置される領域に対して層流のガス流が形成されるように、領域10a、10bを介して互いに対向するようにガス供給部34及びガス回収ダクト36を配置する。また、局所排気ダクト50をガス流の下流側に配置すると共に、ガス吸い込み口53について、ボールネジ4の長さ方向に沿うように且つボールネジ4側を向くように形成する。そして、ガス回収ダクト36と局所排気ダクト50とを切り替えるための切り替えバルブ60を設けておき、アーム3が駆動する時はガス回収ダクト36を閉止して局所排気ダクト50側を回り込む気流の流量を稼ぐ。
【選択図】図1
Description
基板を棚状に保持するための基板保持具と基板収納部との間で基板搬送機構により基板が搬送される基板搬送領域と、縦型の反応管に対して基板保持具が搬入出される保持具待機領域と、が互いに前後方向に隣接している縦型熱処理装置において、
前記保持具待機領域を挟んで左右に夫々配置された第1のガス吸い込み口及び第1のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第1の循環路と、を含み、前記保持具待機領域にガスの層流を形成して、反応管から搬出された基板を冷却するための第1の層流形成部と、
前記基板搬送領域を挟んで左右に夫々配置された第2のガス吸い込み口及び第2のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第2の循環路と、を含み、前記基板搬送領域にガスの層流を形成するための第2の層流形成部と、
前記基板搬送機構により基板の搬送が行われる時には、前記第1のガス吐出口から吐出されたガスが第2のガス吸い込み口から吸い込まれるように前記第1の循環路のガス吸い込み口側を閉じ、反応管から搬出された基板を冷却する時には、前記第1の循環路のガス吸い込み口側を開くように開閉される開閉機構と、を備えたことを特徴とする。
基板を棚状に保持するための基板保持具と基板収納部との間で基板搬送機構により基板が搬送される基板搬送領域と、縦型の反応管に対して基板保持具が搬入出される保持具待機領域と、が互いに前後方向に隣接している縦型熱処理装置を運転する方法において、
前記保持具待機領域を挟んで左右に夫々配置された第1のガス吸い込み口及び第1のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第1の循環路とを用い、前記保持具待機領域にガスの層流を形成して、反応管から搬出された基板を冷却する工程と、
前記基板搬送領域を挟んで左右に夫々配置された第2のガス吸い込み口及び第2のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第2の循環路と、を用い、前記基板搬送機構により基板の搬送が行われる時に基板搬送領域にガスの層流を形成する工程と、を含み、
前記基板搬送領域にガスの層流を形成する工程は、前記第1のガス吐出口から吐出されたガスが第2のガス吸い込み口から吸い込まれるように前記第1の循環路のガス吸い込み口側を開閉機構により閉じた状態で行われることを特徴とする。
ここで、第2のガス供給部34に対向するガス回収ダクト36c、36dのうち手前側のガス回収ダクト36cにおいてガスの層流を形成するための部材(当該第2のガス供給部34、ガス回収ダクト36c、ファン42及びガス循環路41)を第1の層流形成部と呼ぶこととする。また、局所排気ダクト50を介してガスの層流を形成するための部材(当該局所排気ダクト50、第2のガス供給部34、ファン42及びガス循環路41)を第2の層流形成部と呼ぶこととすると、この例では、これら第1の層流形成部及び第2の層流形成部のファン42及びガス循環路41が共通化されていると言える。
更に、切り替えバルブ60を局所排気ダクト50とガス回収ダクト36cとで共用しているため、当該切り替えバルブ60を駆動するための駆動機構64が一つで済む。更にまた、これら局所排気ダクト50とガス回収ダクト36cとを互いに近接させているため、ダクト50、36cの一方を遮断した時、他方のダクト50、36cに気流が向かいやすくなる。即ち、第2のガス供給部34から吐出する気流が通流する3つのガス流路(2つのガス回収ダクト36c、36d及び局所排気ダクト50)のうち一つのガス流路を遮断すると、当該一つのガス流路に向かって通流する気流は、他の2つのガス流路のうち前記一つのガス流路に近接するガス流路に流れようとする。従って、これらダクト50、36cを互いに近接させることにより、ダクト50、36cの一方を遮断した時に他方のダクト50、36cに向かう気流について、ダクト50、36cを互いに離間させた場合と比べて、多くの流量を確保できる。
この結果、本発明の装置では、領域10a、10bではパーティクルの発生は確認されなかった。一方、比較例では、例えば500個程度のパーティクルが発生していた。
1 ウエハボート
2 反応管
3 ウエハトランスファーアーム
4 ボールネジ
10 搬送領域
34 ガス供給部
35 ガス吐出口
36 ガス回収ダクト
37 ガス吸い込み口
50 局所排気ダクト
53 ガス吸い込み口
60 切り替えバルブ
Claims (6)
- 基板を棚状に保持するための基板保持具と基板収納部との間で基板搬送機構により基板が搬送される基板搬送領域と、縦型の反応管に対して基板保持具が搬入出される保持具待機領域と、が互いに前後方向に隣接している縦型熱処理装置において、
前記保持具待機領域を挟んで左右に夫々配置された第1のガス吸い込み口及び第1のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第1の循環路と、を含み、前記保持具待機領域にガスの層流を形成して、反応管から搬出された基板を冷却するための第1の層流形成部と、
前記基板搬送領域を挟んで左右に夫々配置された第2のガス吸い込み口及び第2のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第2の循環路と、を含み、前記基板搬送領域にガスの層流を形成するための第2の層流形成部と、
前記基板搬送機構により基板の搬送が行われる時には、前記第1のガス吐出口から吐出されたガスが第2のガス吸い込み口から吸い込まれるように前記第1の循環路のガス吸い込み口側を閉じ、反応管から搬出された基板を冷却する時には、前記第1の循環路のガス吸い込み口側を開くように開閉される開閉機構と、を備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。 - 前記開閉機構は、反応管から搬出された基板を冷却する時には、前記第1の循環路のガス吸い込み口側を開き、かつ前記第2のガス吐出口から吐出されたガスが第1のガス吸い込み口から吸い込まれるように前記第2の循環路のガス吸い込み口側を閉じることを特徴とする請求項1に記載の縦型熱処理装置。
- 基板搬送機構は、進退自在な基板保持部が設けられた搬送基体と、この搬送基体を昇降させる昇降軸とを備え、前記昇降軸は前記第2のガス吸い込み口に臨む位置に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の縦型熱処理装置。
- 前記昇降軸はボールネジであり、前記搬送基体の昇降速度は、0.4m/s〜0.6m/sであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の縦型熱処理装置。
- 基板を棚状に保持するための基板保持具と基板収納部との間で基板搬送機構により基板が搬送される基板搬送領域と、縦型の反応管に対して基板保持具が搬入出される保持具待機領域と、が互いに前後方向に隣接している縦型熱処理装置を運転する方法において、
前記保持具待機領域を挟んで左右に夫々配置された第1のガス吸い込み口及び第1のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第1の循環路とを用い、前記保持具待機領域にガスの層流を形成して、反応管から搬出された基板を冷却する工程と、
前記基板搬送領域を挟んで左右に夫々配置された第2のガス吸い込み口及び第2のガス吐出口と、これらの間でガスを循環させる、送気機構が配置された第2の循環路と、を用い、前記基板搬送機構により基板の搬送が行われる時に基板搬送領域にガスの層流を形成する工程と、を含み、
前記基板搬送領域にガスの層流を形成する工程は、前記第1のガス吐出口から吐出されたガスが第2のガス吸い込み口から吸い込まれるように前記第1の循環路のガス吸い込み口側を開閉機構により閉じた状態で行われることを特徴とする縦型熱処理装置の運転方法。 - 前記反応管から搬出された基板を冷却する工程は、前記開閉機構により前記第1の循環路のガス吸い込み口側を開き、かつ前記第2のガス吐出口から吐出されたガスが第1のガス吸い込み口から吸い込まれるように前記第2の循環路のガス吸い込み口側を閉じた状態で行われることを特徴とする請求項5に記載の縦型熱処理装置の運転方法。
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