JP2013251567A - 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光装置は、ウエハWを保持して所定平面内で移動可能なステージWSTと、ステージWSTの上方に設置されたエンコーダヘッド(64,65,66等)及びZヘッド(74,76等)を有し、これらのヘッドから計測ビームを、ステージWST上面に設けられているスケール(39X1,39X2,39Y1,39Y2)に照射し、その反射光を受光してステージWSTの位置情報を計測する位置計測系と、を備えている。露光装置は、さらに、計測された位置情報に基づいてステージWSTを駆動する駆動系と、計測ビームによって、スケール面での熱応力、変形量の少なくとも1つを含む物理量が許容値を越えるのを阻止する制御装置と、を備えている。
【選択図】図10
Description
a.主制御装置20は、エンコーダヘッドの計測ビームの強度から、上記の熱応力、スケールの変形量(及び歪み)などが許容値を越えないように、ウエハステージWSTの、連続移動での最低速度など、又はステップ移動での最長滞在時間及び/又はステップ距離を決定しても良い。勿論、主制御装置20は、強度を考慮することなく、単純にウエハステージWSTを移動させることとしても良い。
b.また、主制御装置20は、タイマーによる時間管理で上記シーケンス(ステージ移動、待機位置への退避など)を開始しても良い。あるいは、主制御装置20は、時間管理を行わず、露光シーケンス上、予め分かっている場合には上記シーケンスを自動的に開始しても良いし、エラーが発生した場合に上記シーケンスを開始するだけでも良い。
c.また、本実施形態において、エンコーダヘッド(及びZヘッド)からスケールに照射される計測ビームの照射量を調整するため、以下のc1.、c2のような手法により、計測ビームの強度を落とす、あるいは計測ビームを遮る、あるいはこれらを上記a.及びb.の少なくとも一方と組み合わせて実行しても良い。
c1. 計測ビームの強度を落とすため、例えば、エンコーダの光源を制御しても良いし、送光系に減光フィルタを挿入しても良い。
c2. また、計測ビームを遮るため、送光系あるいはヘッドの射出部近傍にシャッタを配置しても良いし、スケールを覆うカバー(庇)が設置された所定位置にウエハステージWSTを移動させても良い。後者では、その所定位置が、少なくとも1つの計測ビームがスケールに照射される位置でも良い。また、カバーは、スケール全面を覆わなくても良く、スケールと対向するヘッドのみに対してその計測ビームを遮るだけでも良い。
Claims (16)
- エネルギビームで物体を露光する露光方法であって、
前記物体を保持して所定平面内で移動可能な移動体とその外部との一方に計測面が設置されかつ他方にヘッドが設置される位置計測系を用いて、前記移動体の位置情報を計測し、その位置情報に基づいて前記移動体を駆動することと、
前記計測ビームの照射によって、前記計測面での熱応力、変形量の少なくとも1つを含む物理量が許容値を越えるのを阻止することと、を含む露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記計測面は、前記所定平面と実質的に平行でかつ回折格子を有する露光方法。 - 請求項1又は2に記載の露光方法において、
前記阻止のため、前記移動体を前記所定平面内で駆動する露光方法。 - 請求項1〜3のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記阻止のため、前記計測面を前記計測ビームの照射位置から外す露光方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記阻止のため、前記計測ビームの光路に遮光部材を配置する、あるいは前記計測ビームの強度を低下させる露光方法。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記阻止は、前記物体の露光シーケンスの異常時、及び/又は前記移動体を使わない期間中に行われる露光方法。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記位置計測系とは別の計測装置によって前記物体の位置情報を計測することと、
前記計測装置のビームによって前記物理量が許容値を越えるのを阻止することと、を含む露光方法。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、
を含むデバイス製造方法。 - エネルギビームで物体を露光する露光装置であって、
前記物体を保持して所定平面内で移動可能な移動体と、
前記移動体及び該移動体の外部との他方に設置されたヘッドを有し、該ヘッドから前記移動体及び該移動体の外部との一方に設置された計測面に計測ビームを照射し、その反射光を受光して前記移動体の位置情報を計測する位置計測系と、
前記位置情報に基づいて前記移動体を駆動する駆動系と、
前記計測ビームによって、前記計測面での熱応力、変形量の少なくとも1つを含む物理量が許容値を越えるのを阻止する制御装置と、を備える露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記計測面は、前記所定平面と実質的に平行でかつ回折格子を有する露光装置。 - 請求項9又は10に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記阻止のため、前記駆動系を介して前記移動体を前記所定平面内で駆動する露光装置。 - 請求項9〜11のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記阻止のため、前記計測面を前記計測ビームの照射位置から外す露光装置。 - 請求項9〜12のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記阻止のため、前記計測ビームの光路に遮光部材を配置する、あるいは前記計測ビームの強度を低下させる露光装置。 - 請求項9〜13のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記制御装置は、前記阻止を、前記物体の露光シーケンスの異常時、及び/又は前記移動体を使わない期間中に行う露光装置。 - 請求項9〜14のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記物体の位置情報を計測する前記位置計測系とは別の計測装置をさらに備え、
前記制御装置は、前記計測装置のビームによって前記物理量が許容値を越えるのを阻止する露光装置。 - 請求項9〜15のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、
を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013157527A JP5686303B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-07-30 | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007340537 | 2007-12-28 | ||
JP2007340537 | 2007-12-28 | ||
JP2013157527A JP5686303B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-07-30 | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009547898A Division JP5791230B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-25 | 移動体駆動方法及び装置、露光方法及び装置、パターン形成方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013251567A true JP2013251567A (ja) | 2013-12-12 |
JP5686303B2 JP5686303B2 (ja) | 2015-03-18 |
Family
ID=40823939
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009547898A Expired - Fee Related JP5791230B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-25 | 移動体駆動方法及び装置、露光方法及び装置、パターン形成方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2013157527A Expired - Fee Related JP5686303B2 (ja) | 2007-12-28 | 2013-07-30 | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2014084099A Expired - Fee Related JP5780495B2 (ja) | 2007-12-28 | 2014-04-16 | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009547898A Expired - Fee Related JP5791230B2 (ja) | 2007-12-28 | 2008-12-25 | 移動体駆動方法及び装置、露光方法及び装置、パターン形成方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014084099A Expired - Fee Related JP5780495B2 (ja) | 2007-12-28 | 2014-04-16 | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8269945B2 (ja) |
JP (3) | JP5791230B2 (ja) |
KR (1) | KR101536014B1 (ja) |
CN (1) | CN101681810B (ja) |
HK (1) | HK1136912A1 (ja) |
TW (1) | TWI506671B (ja) |
WO (1) | WO2009084203A1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN102360169B (zh) | 2006-09-01 | 2014-01-22 | 株式会社尼康 | 移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法 |
TW201610608A (zh) | 2006-09-01 | 2016-03-16 | 尼康股份有限公司 | 移動體驅動方法及移動體驅動系統、圖案形成方法及裝置、曝光方法及裝置、以及元件製造方法 |
JP2007274881A (ja) | 2006-12-01 | 2007-10-18 | Nikon Corp | 移動体装置、微動体及び露光装置 |
US8687166B2 (en) | 2007-05-24 | 2014-04-01 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus having an encoder position sensor system |
-
2008
- 2008-12-24 US US12/343,751 patent/US8269945B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-25 JP JP2009547898A patent/JP5791230B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-25 WO PCT/JP2008/003960 patent/WO2009084203A1/ja active Application Filing
- 2008-12-25 CN CN2008800196325A patent/CN101681810B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-12-25 KR KR1020097025766A patent/KR101536014B1/ko active IP Right Grant
- 2008-12-26 TW TW097150794A patent/TWI506671B/zh not_active IP Right Cessation
-
2010
- 2010-05-12 HK HK10104627.1A patent/HK1136912A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-07-30 JP JP2013157527A patent/JP5686303B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
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- 2014-04-16 JP JP2014084099A patent/JP5780495B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP5791230B2 (ja) | 2015-10-07 |
KR20100103342A (ko) | 2010-09-27 |
JP5780495B2 (ja) | 2015-09-16 |
CN101681810B (zh) | 2012-06-06 |
JPWO2009084203A1 (ja) | 2011-05-12 |
TWI506671B (zh) | 2015-11-01 |
CN101681810A (zh) | 2010-03-24 |
WO2009084203A1 (ja) | 2009-07-09 |
JP5686303B2 (ja) | 2015-03-18 |
US8269945B2 (en) | 2012-09-18 |
HK1136912A1 (en) | 2010-07-09 |
TW200943383A (en) | 2009-10-16 |
JP2014140071A (ja) | 2014-07-31 |
US20090190104A1 (en) | 2009-07-30 |
KR101536014B1 (ko) | 2015-07-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140630 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150108 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |