JP2007251156A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板支持体の基準システムに対する位置および/または移動を測定するための測定システムを備える。この測定システムは、基板支持体および基準フレームのうち一方に設けられたターゲットと、他方に設けられた放射源と、ターゲットから伝播した、基板支持体の位置または移動を示す放射のパターンを検出するように構成されたセンサと、を備える。基板支持体は、放射ビームがターゲットに伝播する際に通過する空間体積を封じ込めるようにガス流を供給するように構成された、1つ以上のガス出口を備える。
【選択図】図2a
Description
Claims (25)
- (i)基準フレームと、
(ii)前記基準フレームに対するリソグラフィ装置のコンポーネントの位置および移動のうち少なくとも一方を測定するように構成された測定システムであって、
(a)前記コンポーネントおよび前記基準フレームのうち一方に設けられたターゲット、
(b)前記コンポーネントおよび前記基準フレームの他方に設けられ、かつ、放射ビームを前記ターゲットに投影するように構成された放射源、および、
(c)前記ターゲットから伝播する放射のパターンを検出するように構成されたセンサであって、前記パターンが前記コンポーネントの前記基準フレームに対する位置および移動の少なくとも一方を示すセンサ、を備える測定システムと、
を有しており、
前記コンポーネントは、1つ以上のガス出口を備え、該ガス出口は、該ガス出口にガスが供給されると、前記放射ビームが前記ターゲットに伝播する際に通過する空間体積が前記1つ以上のガス出口から出るガス流によってほぼ封じ込められるように構成されている、
リソグラフィ装置。 - 前記1つ以上のガス出口から出るガス流によって、前記放射ビームが前記ターゲットに伝播する際に通過する空間体積が一掃される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ターゲットから前記センサに戻る放射は、前記1つ以上のガス出口から出るガス流によってほぼ封じ込められる、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ以上のガス出口は、前記放射源および前記ターゲットのうち少なくとも一方を取り囲む環状ガス出口である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ以上のガス出口は、前記放射源および前記ターゲットのうち少なくとも一方の周囲に配置された複数のガス出口である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ以上のガス出口は、前記放射源および前記ターゲットのうち少なくとも一方の周囲に配置された複数のガス出口、および、前記複数のガス出口を取り囲む環状ガス出口である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記環状ガス出口は、クロス、織物、および金属ふるいのうちの少なくとも1つによって覆われている、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記環状ガス出口に関連付けられ、かつ、前記ガス出口にガスが供給されると前記環状ガス出口によるガス出口の圧力が前記環状ガス出口によって囲まれた前記複数のガス出口によるガス出口の圧力よりも低くなるように構成された、ガス流制限部をさらに備える、請求項6に記載のリソグラフィ装置
- 前記放射源は前記コンポーネントに設けられている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記リソグラフィ装置の第2コンポーネントにガス供給部が接続されており、前記第1コンポーネントおよび前記第2コンポーネントは、その間に非接触型ガス流接続を提供するように構成されている、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ガス出口によって提供されるガスを抽出するように構成された1つ以上のガス排気口をさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- (i)基準フレームと、
(ii)前記基準フレームに対するリソグラフィ装置のコンポーネントの位置および移動のうち少なくとも一方を測定するように構成された測定システムであって、
(a)前記コンポーネントおよび前記基準フレームのうち一方に設けられたターゲット、
(b)前記コンポーネントおよび前記基準フレームの他方に設けられ、かつ、放射ビームを前記ターゲットに投影するように構成された放射源、および、
(c)前記ターゲットから伝播する放射のパターンを検出するように構成されたセンサであって、前記パターンが前記コンポーネントの前記基準フレームに対する位置および移動の少なくとも一方を示すセンサ、を備える測定システムと、
を有し、且つ、前記コンポーネントは、1つ以上のガス出口を備え、該ガス出口は、該ガス出口にガスが供給されると、前記放射ビームが前記ターゲットに伝播する際に通過する空間体積が前記1つ以上のガス出口のガス流によってほぼ封じ込められるように構成されている、リソグラフィ装置と、
前記コンポーネントが前記基準フレームに対して移動する際に、前記放射ビームが伝播する際に通過する空間体積がガス流によってほぼ封じ込められるように、前記1つ以上のガス出口に十分なガス流を供給するように構成された、ガス供給部と、
を有するリソグラフィシステム。 - 前記放射ビームの伝播方向に対してほぼ垂直な方向における、前記ガス流によって封じ込められた空間体積から抜け出るガスの平均速度が、前記基準フレームに対する前記コンポーネントの速度を超えるように前記ガス供給部がガス流を提供する、請求項12に記載のリソグラフィシステム。
- 前記放射ビームが伝播する際に通過する空間体積の前記ガス流による封じ込めを確実ならしめるために、前記1つ以上のガス出口へのガス流を制御するように構成されたガス流コントローラをさらに備える、請求項12に記載のリソグラフィシステム。
- 前記ガス流コントローラは、前記基準フレームに対する前記コンポーネントの速度に応じて前記ガス流を設定する、請求項14に記載のリソグラフィシステム。
- 請求項1に記載のリソグラフィ装置と、前記ガス出口に接続されたガス供給部とを備え、前記ガス供給部は温度制御されたガス流を提供する、リソグラフィシステム。
- 請求項1に記載のリソグラフィ装置と、前記ガス出口に接続されたガス供給部とを備え、前記ガス供給部はほぼ純粋な不活性ガス、クリーンな空気、および加湿された空気のうち1つの流れを提供する、リソグラフィシステム。
- 前記リソグラフィ装置の周辺の環境から空気を取り込み、前記ガスを均質化し、前記ガスを前記ガス出口に供給するように構成されたガス供給部さらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記1つ以上のガス出口から出るガス流によって封じ込められる空間体積は、前記ターゲットに投影された前記放射ビーム、および、前記ターゲットから前記センサに伝播する前記放射のうち少なくとも一方をほぼ封じ込めるのみである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記測定システムは、前記コンポーネントの複数の部分の、前記基準フレームに対する位置および移動のうち少なくとも一方を測定するため、前記コンポーネントの周囲に配された複数の放射源、関連ターゲット、および放射センサを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントは、放射源のそれぞれの組合せに関連付けられた1つ以上のガス出口を備え、前記1つ以上のガス出口の各々は、ガスが供給されると、前記関連放射ビームが前記ターゲットに伝播する際に通過する空間体積が前記1つ以上のガス出口から出るガス流によってほぼ封じ込められるように構成されている、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントは、1つ以上のガス出口を備え、前記1つ以上のガス出口は、ガスが供給されると、前記複数の放射源から投影される放射ビームが各ターゲットに伝播する際に通過する空間体積が前記1つ以上のガス出口から出るガス流によってほぼ封じ込められるように構成されている、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記コンポーネントは、基板を支持するように構成された基板支持体、および、パターニングデバイスを支持するように構成された支持体のうちの一方である、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置を使用して、パターニングデバイスから基板上にパターンを転写することと、
アクチュエータによって、前記リソグラフィ装置のコンポーネントを基準フレームに対して移動させることと、
前記基準フレームに対する前記コンポーネントの位置および移動のうち少なくとも一方を測定するように構成された測定システムを使用して、前記アクチュエータを制御することであって、前記測定システムが、
前記コンポーネントおよび前記基準フレームのうち一方に設けられたターゲット、
前記コンポーネントおよび前記基準フレームの他方に設けられ、かつ、前記ターゲットに放射ビームを投影するように構成された放射源、および、
前記ターゲットから伝播する放射のパターンを検出するように構成されたセンサであって、前記パターンが前記コンポーネントの前記基準フレームに対する位置および移動のうち少なくとも一方を示すセンサ、を備える、前記アクチュエータを制御することと、
前記放射ビームが前記ターゲットに伝播する際に通過する空間体積が、前記コンポーネント上に設けられた1つ以上のガス出口から出るガス流によってほぼ封じ込められるように、前記1つ以上のガス出口にガスを供給することと、
を含む、デバイス製造方法。 - 前記コンポーネントは、前記基板を支持するように構成された基板支持体、または、前記パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体である、請求項24に記載の方法。
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