JP2013251521A - 新規な伝送線を備えた多層電子構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】XY平面内に延在する複数の誘電層を備える多層複合電子構造体のXY平面内の方向に信号を供給するための信号キャリアであって、この信号キャリアが、下部連続金属層を備える第一伝送線を備え、かつ連続金属層に連結される金属ビア柱の行を更に備え、この伝送線が、下層基準面から誘電材料によって隔てられる。
【選択図】なし
Description
(a)連続金属基準面を備える上側表面を備えた基板を得るステップと、
(b)誘電体の層によって連続金属基準面を覆うステップと、
(c)底部導電線を製作するステップと、
(d)パターンメッキによってまたはパネルメッキによってビア柱の行を製作するステップと、
(e)ビア柱の行の上に誘電層を積層するステップと、
(f)ビア柱の行の上面を露出するために薄くするステップと、
(g)最上部導電線を堆積するステップと、
(h)最上部導電線の上に誘電材料の上層を積層するステップと、を含む。
b(i)フォトレジストの第1層を堆積するステップと、
b(ii)信号キャリアの領域内に何のフィーチャもまたはビアも含まない、フォトレジスト内のパターンを現像するステップと、
b(iii)パターンに銅を電気メッキするステップと、
b(iv)フォトレジストの第1層を除去するステップと、
b(v)銅ビアの上に誘電層を積層するステップと、を含む。
b(vi)連続金属基準面の上に銅層をパネルメッキするステップと、
b(vii)銅層の上にフォトレジストの第1層を堆積するステップと、
b(viii)周囲のビアおよびフィーチャを保護するが、信号キャリアの領域内の銅を保護しないパターンを現像するステップと、
b(ix)銅をエッチング除去するステップと、
b(x)フォトレジストの第1層を除去するステップと、
b(xi)その上に誘電層を堆積するステップと、を含む。
(ii)シード層を堆積するステップと、
(iv)誘電体によって覆うステップと、
(v)導電線を保護するために保護層をパターン化するステップと、
(vi)周囲の金属を溶解除去するステップと、を含む。
(1)接着金属を塗布するステップと、
(2)シード層の上に金属層を電気メッキするステップと、のうち少なくとも1つを含む。
102、104、106 機能層またはフィーチャ層
108 フィーチャ
110、112、114、116 誘電体
118 ビア
200 マイクロストリップ配置
210 伝送線導体
212 基準(接地または電源)平面
250 誘電材料
300 ストリップ線導体配置
310 伝送線導体
312、314 基準(接地または電源)平面
400 差動対ストリップ線配置
412、414 基準(接地または電源)平面
410A、410B 伝送線導体
500、500’、500” マイクロストリップ伝送線構造体
510 底部導体線
512 基準面
516 最上部導体線
518、518’、518” ビア導体
600 ストリップ線伝送線構造体
600’ 連続ビア線
600” 一連の柱
610 底部導体線
612 底部金属接地基準面
614 最上部金属接地基準面
616 最上部導体線
618 ビア導体
618’ 連続的構造体
618” ビア柱の行
700 差動対ストリップ線伝送線
710A、710B 底部導電線
712、714 底部および最上部接地基準面
716A、716B 最上部導電線
718 ビア柱の行
718A、718B ビア導体
Claims (21)
- XY平面内に延在する複数の誘電層を備える多層複合電子構造体の前記XY平面内の方向に信号を供給するための信号キャリアであって、前記信号キャリアが、下部連続金属層を含む第一伝送線、および前記連続金属層に連結される金属ビア柱の行を備え、前記伝送線が、下層基準面から誘電材料によって隔てられることを特徴とする信号キャリア。
- 上方から前記ビア柱の行に連結される上部連続層を更に備える請求項1に記載の信号キャリア。
- 誘電材料の層によって前記ビア柱の行から隔てられる上層基準面を更に備える請求項1に記載の信号キャリア。
- 前記ビア柱の行が、連続的である、ことを特徴とする請求項1に記載の信号キャリア。
- 前記ビア柱の行が、不連続である、ことを特徴とする請求項1に記載の信号キャリア。
- 前記下部連続層が、シード層を備える、ことを特徴とする請求項1に記載の多層複合電子構造体。
- 前記シード層が、銅を備える、ことを特徴とする請求項1に記載の多層複合電子構造体。
- 前記下部連続層が、電気メッキされた金属層を更に備える、ことを特徴とする請求項6に記載の多層複合電子構造体。
- 前記電気メッキされた金属層が、銅を備える、ことを特徴とする請求項8に記載の多層複合電子構造体。
- 上方から前記ビア柱の行に連結される前記上部連続層が、金属シード層を備える、ことを特徴とする請求項2に記載の信号キャリア。
- 前記上部連続層が、メッキをされた金属層を更に備える、ことを特徴とする請求項10に記載の信号キャリア。
- 前記第一伝送線に隣接した第二伝送線を更に備える請求項1に記載の信号キャリア。
- 前記誘電材料が、ポリマーを備える、ことを特徴とする請求項1に記載の多層複合構造体。
- 前記誘電材料が、セラミックまたはガラスを更に備える、ことを特徴とする請求項13に記載の多層複合構造体。
- 前記ポリマーが、ポリイミド、エポキシ、ビスマレイミド、トリアジンおよびそれの混合物を備える、ことを特徴とする請求項13に記載の多層複合構造体。
- 前記誘電材料が、ガラスファイバを備える、ことを特徴とする請求項13に記載の多層複合構造体。
- 前記誘電材料が、粒子フィラーを備える、ことを特徴とする請求項14に記載の多層複合構造体。
- 請求項1に記載の多層複合電子構造体を製作する方法であって、以下のステップ、すなわち、
(a)連続金属基準面を備える上側表面を備えた基板を得るステップと、
(b)誘電材料の層によって前記連続金属基準面を覆うステップと、
(c)底部導電線を製作するステップと、
(d)パターンメッキによってまたはパネルメッキによって前記底部導電線の上にビア柱の行を製作するステップと、
(e)前記ビア柱の行および前記底部導電線の上に誘電層を積層するステップと、
(f)前記ビア柱の行の上面を露出するために前記誘電層を薄くするステップと、
(g)最上部導電線を堆積するステップと、
(h)前記最上部導電線の上に誘電材料の上層を積層するステップと、を含む方法。 - その上にシード層を備える上部基準面を堆積するステップ(i)を更に含む請求項18に記載の方法。
- 前記上部基準面が、予備接着金属を予備的に堆積するステップ、および金属層をその後電気メッキするステップ、のうち少なくとも1つを更に含むことを特徴とする請求項19に記載の方法。
- 請求項18に記載の方法であって、ステップ(c)から(g)が、(i)前記底部導電線、(ii)前記ビア柱の行および(iii)前記最上部導電線、の選択エッチングによるパネルメッキによって、または、パターンメッキによってのいずれかで2本の隣接するI形状の伝送線を作り出し、前記2本の隣接するI形状の伝送線を誘電体に埋め込まれたままにしておくステップを含むことを特徴とする方法。
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