JP2013251361A - 半導体装置の製造方法およびアニール方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体基板に不純物をドーピングした後の不純物活性化アニールが低温であっても十分に結晶欠陥を修復することができる半導体装置の製造方法およびアニール方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングする工程と、不純物をドーピングした後の半導体基板に、加熱ランプを用いたランプアニールとマイクロ波を照射するマイクロ波アニールを含むアニール処理を施して不純物を活性化する工程とを有する。
【選択図】図1
【解決手段】半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングする工程と、不純物をドーピングした後の半導体基板に、加熱ランプを用いたランプアニールとマイクロ波を照射するマイクロ波アニールを含むアニール処理を施して不純物を活性化する工程とを有する。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体基板に不純物をドーピングした後に活性化アニールを行って不純物拡散層を形成する半導体装置の製造方法およびアニール方法に関する。
半導体装置の製造プロセスにおいては、半導体基板に不純物を注入した後に不純物活性化アニールを行って不純物拡散層を形成する工程がある。従来から、不純物の活性化処理には、ランプアニールによる1000℃以上の高温短時間の熱処理が行われている。
最近では、半導体素子のデザインルールの微細化にともない、不純物の熱拡散を抑制したアニール技術が求められており、より低温でのアニール技術が検討されている。また、不純物の拡散を抑制する技術として、固相エピタキシー(Solid Phase Epitaxy:SPE)を用いるものが知られている。不純物活性化アニールにSPEを適用する場合には、不純物ドーピング領域をアモルファス化し、その領域に不純物ドーピングを行った後、低温でのアニールを行うことにより再結晶化と不純物活性化を行う(例えば、特許文献1)。
しかしながら、低温でのアニール技術では、不純物ドーピングの際に生じた欠陥を十分に修復できないという問題点がある。特に、アモルファス化した領域に不純物ドーピングを行った後にSPEを行った際には、最初にアモルファス化した領域の終端部に結晶欠陥が多く残留してしまう。このように欠陥が残留すると、デバイス動作時におけるリーク電流の原因となる。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、半導体基板に不純物をドーピングした後の不純物活性化アニールが低温であっても十分に結晶欠陥を修復することができる半導体装置の製造方法およびアニール方法を提供することを課題とする。
上記課題を解決するため、本発明の第1の観点では、半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングする工程と、前記半導体基板に、加熱ランプを用いたランプアニールとマイクロ波を照射するマイクロ波アニールを含むアニール処理を施して不純物を活性化する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法を提供する。
上記第1の観点において、前記アニール処理は、300〜600℃の範囲の温度で行うことが好ましい。また、前記不純物を活性化する工程におけるアニール処理は、ランプアニールを行った後にマイクロ波アニールを行うことが好ましい。
さらに、前記不純物をドーピングする工程に先立って、前記不純物拡散層形成領域をアモルファス化する工程をさらに有し、前記不純物を活性化する工程におけるアニール処理の際にアモルファス化した前記不純物拡散層形成領域を再結晶化するようにしてもよい。
本発明の第2の観点では、半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングした後に不純物を活性化するためのアニール処理を行うアニール方法であって、加熱ランプを用いたランプアニールと、マイクロ波を照射するマイクロ波アニールの両方を行うことを特徴とするアニール方法を提供する。
本発明によれば、半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングした後に不純物を活性化するためのアニール処理を、加熱ランプを用いたランプアニールと、マイクロ波を照射するマイクロ波アニールを含むものとしたことにより、低温でのアニール処理であっても、不純物活性化効果とともに高い結晶欠陥修復効果を得ることができる。
以下、添付図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。
図1は、本発明の一実施形態に係る半導体装置の製造方法を示すフローチャートである。
最初に、半導体ウエハ(半導体基板)の不純物拡散層形成領域をアモルファス化する(工程1)。不純物拡散層の典型的な例としては、MOS型半導体装置のソース電極およびドレイン電極を挙げることができる。
このように不純物拡散層形成領域をアモルファス化することにより、注入深さの制御性を高めることができ、また、結晶粒界が存在しないため、次工程の不純物ドーピングを行いやすくすることができ、その後のアニール処理を低温で行っても不純物活性化および再結晶化(SPE)が可能である。
不純物拡散層形成領域をアモルファス化するためには、例えばGeをイオン注入する。このときの条件としては、例えば、注入エネルギー:10〜100keV、注入ドーズ量:1×1014〜5×1015ions/cm2の範囲が採用される。Geの代わりにArやKr等を用いることもできる。
次に、アモルファス化した不純物拡散層形成領域に、不純物をドーピングする(工程2)。不純物のドーピングは、通常のイオン注入により行うことができる。不純物としては、n型不純物でもp型不純物でもよく、n型不純物としてはP,Asが例示され、p型不純物としてはBが例示される。
イオン注入により不純物をドーピングする際の条件は、Bを例にとると、注入エネルギー1〜100keV、注入ドーズ量:1×1015〜5×1015ions/cm2の範囲である。
次に、不純物導入後の半導体ウエハ(半導体基板)に、ランプアニールおよびマイクロ波アニールからなるアニール処理を行う(工程3)。このアニール処理により、不純物の活性化、再結晶化、および結晶欠陥の修復が行われる。
マイクロ波アニールは、半導体ウエハにマイクロ波を照射して半導体ウエハを加熱することにより行われる。また、ランプアニールは、加熱ランプとして例えばハロゲンランプまたはキセノンランプを用いて半導体ウエハを加熱することにより行われる。
マイクロ波アニールに用いるマイクロ波アニール装置の例について、図2を参照して説明する。
マイクロ波アニール装置100は、被処理基板である半導体ウエハ(半導体基板)Wを収容する処理容器(アプリケータ)1を有している。処理容器1内には、その中で半導体ウエハWを載置する複数、例えば3本(2本のみ図示)の載置ピン2が処理容器1内の底部に設けられた昇降板3から上方に突出するように設けられ、昇降板3の底面周縁部には、昇降棒4が処理容器1の底部を貫通して下方に延びるように取り付けられている。昇降棒4は昇降機構5内に貫通するようにして取り付けられており、昇降機構5がガイド部材7に沿って昇降することにより昇降棒4、昇降板3、載置ピン2が昇降し、それにともなって載置ピン2に載置された半導体ウエハWも昇降するようになっている。ガイド部材7の下端部には、昇降機構5に対応した位置に支持板8が取り付けられている。処理容器1の底部には昇降棒4が挿通する挿通孔4aが形成されており、処理容器1底部の挿通孔4aの周囲部分と昇降機構5の上面との間にはベローズ6aが設けられている。一方、昇降機構5下面の昇降棒4の周囲部分と支持板8との間にはベローズ6bが設けられている。
マイクロ波アニール装置100は、被処理基板である半導体ウエハ(半導体基板)Wを収容する処理容器(アプリケータ)1を有している。処理容器1内には、その中で半導体ウエハWを載置する複数、例えば3本(2本のみ図示)の載置ピン2が処理容器1内の底部に設けられた昇降板3から上方に突出するように設けられ、昇降板3の底面周縁部には、昇降棒4が処理容器1の底部を貫通して下方に延びるように取り付けられている。昇降棒4は昇降機構5内に貫通するようにして取り付けられており、昇降機構5がガイド部材7に沿って昇降することにより昇降棒4、昇降板3、載置ピン2が昇降し、それにともなって載置ピン2に載置された半導体ウエハWも昇降するようになっている。ガイド部材7の下端部には、昇降機構5に対応した位置に支持板8が取り付けられている。処理容器1の底部には昇降棒4が挿通する挿通孔4aが形成されており、処理容器1底部の挿通孔4aの周囲部分と昇降機構5の上面との間にはベローズ6aが設けられている。一方、昇降機構5下面の昇降棒4の周囲部分と支持板8との間にはベローズ6bが設けられている。
処理容器1の側壁上部にはガス導入ポート11が形成されており、処理の際の雰囲気を形成するガスがガス供給部12から配管13を介してこのガス導入ポート11から処理容器1内に導入されるようになっている。配管13には流量制御バルブ15が設けられている。このような雰囲気を形成するガスとしては、Arガスや、N2ガス等の不活性ガスを用いることができる。
処理容器1内において、半導体ウエハWの支持位置の下方には、半導体ウエハWに対応する円板状をなす冷却部材20が配置されている。冷却部材20の内部にはガス流路21が形成されており、ガス流路21には冷却ガス配管22を介して冷却ガスが供給される。冷却部材20の上面にはガス流路21から延びるガス吐出孔23が開口しており、ガス流路21に流れる冷却ガスがガス吐出孔23を経て半導体ウエハWの裏面に吐出され、半導体ウエハWが冷却されるようになっている。冷却ガス配管22は、ガス供給部12から延びる配管13から分岐して処理容器1の内部に挿入されており、処理の際の雰囲気を形成するためのガスが冷却ガスとして供給される。冷却ガス配管22には流量制御バルブ25が設けられている。なお、冷却部材20と処理容器1の内面との間にはバッフル板27が設けられている。
処理容器1の底部には排気ポート31が設けられており、この排気ポート31には排気配管32が接続されている。排気配管32には、処理容器1内を排気するためのドライポンプ(DP)33が設けられており、排気配管32の処理容器1からドライポンプ33の間には、開閉バルブ34および処理容器1内の圧力を制御するための自動圧力制御弁(APC)35が介装されている。これにより、処理容器1内がマイクロ波アニール処理に適した所定の圧力に維持されるようになっている。処理容器1内の圧力は、その中にマイクロ波が照射された際にプラズマが生成されないような圧力、例えば大気圧近傍の所定圧力に保持される。
なお、処理容器1の側壁には、図示はしてはいないが半導体ウエハを搬入出するための搬入出口がゲートバルブにより開閉可能に設けられている。
一方、上記載置ピン2は半導体ウエハWの位置ずれを防止するために、真空吸着するための吸着孔2aが形成されている。そして、昇降板3には空間3aが形成され、昇降棒4には孔4bが形成され、支持板8には孔8aが形成され、孔8aには配管36が接続されている。配管36は排気配管32に接続されており、ドライポンプ33を作動させて、配管36、孔8a、ベローズ6bの内部、孔4b、空間3a、吸着孔2aを介して半導体ウエハWを吸引することにより載置ピン2上に半導体ウエハWが吸着される。配管36にはバルブ37が介装されている。
半導体ウエハWの裏面側には、半導体ウエハWの温度を測定するための放射温度計(パイロセンサ)41が設けられている。図では放射温度計41は3つ設けられているが、その数は適宜設定される。
処理容器1の天壁には4つ(2つのみ図示)のマイクロ波導入ポート1aが設けられており、これら4つのマイクロ波導入ポート1aには、それぞれマイクロ波供給部50からマイクロ波が供給されるようになっている。マイクロ波供給部50は、マイクロ波導入ポート1aに接続される導波路52と、導波路52のマイクロ波導入ポート1a側と反対側の端部に設けられた、例えば5.8GHzの周波数のマイクロ波を発生するためのマグネトロン53とを有している。マグネトロン53から導波路52へのマイクロ波の導入はランチャー53aを介して行われる。導波路52には、反射マイクロ波を分離するためのアイソレータ54と、インピーダンスを整合させるためのチューナ55が設けられている。マグネトロン53へは、電源部60から給電されるようになっている。導波路52とマイクロ波導入ポート1aとの間には誘電体部材56が設けられている。処理容器1内の半導体ウエハWの上方位置には、定在波の形成を防止するために雰囲気を攪拌する回転攪拌板(スターラー)57が設けられている。なお、回転攪拌板57を設ける代わりに、半導体ウエハWを回転させる機構を設けて定在波の形成を防止するようにしてもよい。
このようなマイクロ波アニール装置100によれば、マイクロ波供給部50から半導体ウエハWにマイクロ波を照射することにより、効率良く加熱することができる。
次に、ランプアニールに用いるランプアニール装置の例について、図3を参照して説明する。
ランプアニール装置200は、被処理基板である半導体ウエハ(半導体基板)Wを収容する処理容器101を有している。処理容器101には、その中で半導体ウエハWを載置する載置台102が設けられており、半導体ウエハWの載置台102の表面に設けられた載置ピン102a上に載置されるようになっている。載置台102は支持部材103に支持されており、支持部材103は処理容器101の底部に形成された穴101aを貫通してその下方に設けられた昇降板104に支持されている。昇降板104は昇降機構105により昇降可能となっている。処理容器101と昇降板104との間にはベローズ106が設けられている。
ランプアニール装置200は、被処理基板である半導体ウエハ(半導体基板)Wを収容する処理容器101を有している。処理容器101には、その中で半導体ウエハWを載置する載置台102が設けられており、半導体ウエハWの載置台102の表面に設けられた載置ピン102a上に載置されるようになっている。載置台102は支持部材103に支持されており、支持部材103は処理容器101の底部に形成された穴101aを貫通してその下方に設けられた昇降板104に支持されている。昇降板104は昇降機構105により昇降可能となっている。処理容器101と昇降板104との間にはベローズ106が設けられている。
処理容器101の側壁にはガス導入ポート111が形成されており、処理の際の雰囲気を形成するガスがガス供給部112から配管113を介してこのガス導入ポートから処理容器101内に導入されるようになっている。このような雰囲気を形成するガスとしては、Arガスや、N2ガス等の不活性ガスを用いることができる。処理容器101の底部には排気ポート121が設けられており、この排気ポート121には排気配管122が接続されている。排気配管122には、処理容器101内を排気するためのドライポンプやバルブ類を含む排気装置123が設けられている。このように処理容器101内に所定のガスを供給しつつ排気装置123により排気することにより、処理容器101内をランプ加熱に適した雰囲気に維持するようになっている。
処理容器101の側壁には、温度測定機構130が設けられている。温度測定機構130は、参照光照射部131と、放射温度測定部132とを有している。参照光照射部131は、放射温度測定のための参照光を照射する参照光源133と、参照光源133からの参照光を処理容器101内に導入するために処理容器101の側壁に設けられた導入ポート134と、導入ポート134に設けられた石英ガラス窓135とを有する。一方、放射温度測定部132は、半導体ウエハWの放射温度を測定するための2偏光放射温度計136と、処理容器101側壁の導入ポート134と対向する位置に設けられた射出ポート137と、射出ポート137に設けられた石英ガラス窓138とを有する。2偏光放射温度計136は、参照光源133から導入ポート134を経て半導体ウエハWで反射された参照光と、半導体ウエハWから放射された熱放射光とを受光し、これらに基づいて半導体ウエハWの温度を計測する。
なお、処理容器101の側壁には、図示はしてはいないが半導体ウエハを搬入出するための搬入出口がゲートバルブにより開閉可能に設けられている。
処理容器101の上部には載置台102上の半導体ウエハWと対向するようにランプユニット140が設けられている。ランプユニット140はランプハウス141とその中に複数配置された加熱ランプ142とを有している。加熱ランプ142としては、ハロゲンランプまたはキセノンランプを使用することができる。
ランプユニット140と処理容器101との間は、2枚の透明板151、152およびその間に設けられた水フィルタ膜153により区画されている。水フィルタ膜153は、加熱ランプ142からの光成分のうち、赤外光の一部を吸収して除去し、加熱ランプ142の光波長と温度測定機構130で用いる光波長とが干渉しないようにしている。
このようなランプアニール装置200によれば、加熱ランプ142により半導体ウエハWを0.01sec以下の極短時間で必要な温度に加熱することができる。
従来は、アニール処理を1000℃以上のランプ加熱のみで行っていた。しかし、これでは拡散層が広がってしまい、半導体素子の微細化の要求に応えられない。このため、より低温のアニール処理が要求されている。
600℃以下の低温のアニール処理を行う場合には、ランプアニールおよびマイクロ波アニールのいずれでも、単独で十分な不純物活性化を行うことができる。しかし、これら単独での低温アニールでは、結晶欠陥の修復が不十分であることが判明した。
これに対し、アニール処理をランプアニールとマイクロ波アニールの両方で行うことにより、低温での処理においても十分な結晶欠陥修復効果を得られることが確認された。特に、最初にランプアニールを行ってからマイクロ波アニールを行うことにより結晶欠陥修復効果をより高くすることができる。その理由は必ずしも明確ではないが、最初にランプアニールにより再結晶化を行った後にマイクロ波アニールを行うことにより、マイクロ波が結晶欠陥部分に作用しやすいためと考えられる。
ランプアニールおよびマイクロ波アニールの温度は300〜600℃が好ましい。これらが300℃より低いと不純物活性化および結晶欠陥修復が十分ではなく、一方、600℃を超えると不純物の拡散領域の制御性が低下する。これらの時間は1〜100minが好ましい。また、マイクロ波アニールの際のマイクロ波の周波数としては、1〜100GHzの範囲を用いることができ、これらの中で2.54GHz、5.8GHzが好ましい。また、マイクロ波の出力は、加熱される物体の体積に依存し、上述のような300〜600℃に加熱するためには、5.8GHzのマイクロ波で10〜36W/cm3、300mmウエハでは600〜2000Wのパワーが必要である。
次に、ランプアニールおよびマイクロ波アニールからなるアニール処理の効果を確認した実験結果について説明する。
まず、不純物活性化について、四探針シート抵抗測定により拡散層の抵抗値を測定することにより評価した。ここでは、MOS型トランジスタのソースおよびドレインにおける不純物ドーピングを想定し、単結晶n型Siウエハに対し、プレアモルファス化のためのGeのイオン注入(注入エネルギー:30keV、注入ドーズ量:5×1014ions/cm2)の後、Bのイオン注入(注入エネルギー:3keV、注入ドーズ量:3×1015ions/cm2)を行った。この試料に対し、窒素雰囲気下、400℃、500℃、600℃において、ハロゲンランプアニール(RTA)のみを5min、10min行ったもの、波長5.8GHzでのマイクロ波アニール(MIT)のみを5min、10min行ったもの、ハロゲンランプアニールを5min行った後、マイクロ波アニールを5min行ったもの、マイクロ波アニールを5min行った後、ハロゲンランプアニールを5min行ったものについて、不純物活性化を把握するために四探針シート抵抗測定により拡散層の抵抗値を測定した。その結果を図4に示す。図4に示すように、いずれのアニール処理においても、同じ温度ではほぼ同じ抵抗値を示しており、同様の不純物活性化を示すことが確認された。
次に、上記条件でGeのイオン注入によるプレアモルファス化の後、Bのイオン注入を行い、さらに、窒素雰囲気下でアニール処理を行って試料を作成した。アニール処理としてハロゲンランプによる1000℃でのスパイクアニールを行った試料(試料A)、ハロゲンランプアニールを600℃で10min行った試料(試料B)、マイクロ波アニール(5.8GHz)を600℃で10min行った試料(試料C)、ハロゲンランプアニールを600℃で5min行った後、マイクロ波アニールを600℃で5min行った試料(試料D)、マイクロ波アニールを600℃で5min行った後、ハロゲンランプアニールを600℃で5min行った試料(試料E)について、不純物活性化を把握するための拡散層の抵抗値測定(四探針シート抵抗測定)、および結晶欠陥を把握するためのカソードルミネッセンス測定(CL測定)を行った。
抵抗値測定の結果を以下の表1に示す。表1に示すように、いずれの試料も同等のシート抵抗を示しており、従来の高温でのスパイクアニールも、600℃でランプアニール、マイクロ波アニールを単独で行ったものも、これらの両方を行ったものも、不純物活性化に対する効果は変わらないことが確認された。
CL測定の結果を図5に示す。図5はCLスペクトルを示す図であり、上記試料A〜Eの他、アニール前の試料についても示している。CLは電子線励起の発光現象であり、これにより結晶欠陥を簡易的に把握することができる。図5中、CLで観察された主な発光線(ピーク)について示すと、TOはTOフォノンが関係した束縛励起子による発光線であり、Xは格子間Siの複合センター起因の発光と帰属されている発光線、W(1213nm付近)は格子間Siのクラスター起因の発光と帰属されている発光線であり、W′(1228nm付近)は希ガスが関与してWのピークがシフトした発光線と考えられる。したがって、格子間Siのクラスター起因の発光はW+W′として把握される。
欠陥のないSi結晶の場合には、図5に示す波長域においては、TO以外の結晶欠陥に対応するピークが全く見られないスペクトルとなる。このことから、図5から試料Aはほとんど欠陥のない結晶が形成されているといえる。一方、600℃でランプアニールを行った試料B、600℃でマイクロ波アニールを行った試料Cはスペクトル強度が全体に高く、結晶欠陥を示すピークも鮮明に現れている。これに対し、600℃においてランプアニールとマイクロ波アニールとを併用した試料DおよびEは、いずれも試料Aよりもスペクトル強度は高いものの、試料BおよびCと比較するとスペクトル強度が著しく低下しており、ランプアニールとマイクロ波アニールと両方行うことにより結晶欠陥を修復効果が高められることが確認された。また、試料Dと試料Eを比較すると、ランプアニールを行った後にマイクロ波アニールを行った試料Dのほうがスペクトル強度が低下しており、ランプアニールを行ってからマイクロ波アニールを行うことにより、結晶欠陥を修復する効果がより高くなることが確認された。
次に、上記試料A〜Dについて、CLスペクトルから典型的な結晶欠陥を示す上記W+W′の強度を求めた。その結果を図6に示す。図6に示すように、600℃でランプアニールを行った後にマイクロ波アニールを行った試料Dは、W+W′のピーク高さがわずかであり、600℃でランプアニールを行った試料Bおよび600℃でマイクロ波アニールを行った試料Cよりも結晶欠陥が減少しており、ランプアニールおよびマイクロ波アニールを600℃で5minずつ行うことにより、同じサーマルバジェット相当のランプアニール単独およびマイクロ波アニール単独よりも修復効果が極めて高いことが確認された。
次に、結晶欠陥を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察した結果について示す。ここでは、Geのイオン注入を行ってプレアモルファス化を行い、その後Bのイオン注入を行った直後の試料、その後、600℃で10minのランプアニールを行った試料、600℃で10minのマイクロ波アニールを行った試料、600℃で5minのランプアニールを行った後、600で5minのマイクロ波アニールを行った試料についてTEM観察を行った。これら試料の断面のTEM写真を図7に示す。この図に示すように、低温のランプアニールおよび低温のマイクロ波アニールのみでは結晶欠陥に対応する模様が観察されるのに対し、低温でのランプアニールを行った後に低温でのマイクロ波アニールを行ったものは結晶欠陥に対応する模様がほとんど現れておらず、低温でのランプアニールを行った後に低温でのマイクロ波アニールを行うことによって高い結晶欠陥修復効果が得られることが確認された。
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、本発明の思想の範囲内において種々変形可能である。例えば、ランプアニールおよびマイクロ波アニールを行う装置は、上記実施形態で例示したマイクロ波アニール装置およびランプアニール装置に限るものではない。
また、上記実施形態では不純物拡散層形成領域を予めアモルファス化し、不純物ドーピング後に、アニールにより不純物活性化と同時に再結晶化を行った例を示したが、アモルファス化は必須ではない。
さらに、半導体ウエハ(基板)としてシリコンウエハ(基板)を例にとって説明したが、これに限らずSiC等の化合物半導体ウエハ(基板)であってもよい。
1;処理容器
1a;マイクロ波導入ポート
2;載置ピン
50;マイクロ波供給部
52;導波路
53;マグネトロン
60;電源部
100;マイクロ波アニール装置
101;処理容器
102;載置台
140;ランプユニット
142;加熱ランプ
200;ランプアニール装置
W;半導体ウエハ
1a;マイクロ波導入ポート
2;載置ピン
50;マイクロ波供給部
52;導波路
53;マグネトロン
60;電源部
100;マイクロ波アニール装置
101;処理容器
102;載置台
140;ランプユニット
142;加熱ランプ
200;ランプアニール装置
W;半導体ウエハ
Claims (7)
- 半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングする工程と、
前記半導体基板に、加熱ランプを用いたランプアニールとマイクロ波を照射するマイクロ波アニールを含むアニール処理を施して不純物を活性化する工程と
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記アニール処理は、300〜600℃の範囲の温度で行うことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記不純物を活性化する工程におけるアニール処理は、ランプアニールを行った後にマイクロ波アニールを行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記不純物をドーピングする工程に先立って、前記不純物拡散層形成領域をアモルファス化する工程をさらに有し、前記不純物を活性化する工程におけるアニール処理の際にアモルファス化した前記不純物拡散層形成領域を再結晶化することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体基板における不純物拡散層形成領域へ不純物をドーピングした後に不純物を活性化するためのアニール処理を行うアニール方法であって、
加熱ランプを用いたランプアニールと、マイクロ波を照射するマイクロ波アニールの両方を行うことを特徴とするアニール方法。 - 300〜600℃の範囲の温度で行うことを特徴とする請求項5に記載のアニール方法。
- ランプアニールを行った後にマイクロ波アニールを行うことを特徴とする請求項5または請求項6に記載のアニール方法。
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