JP2013243267A5 - - Google Patents
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Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012116035A JP5984504B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | 静電チャック、静電チャックの製造方法 |
| US13/890,566 US9660557B2 (en) | 2012-05-21 | 2013-05-09 | Electrostatic chuck and method for manufacturing the electrostatic chuck |
| TW102116978A TWI591751B (zh) | 2012-05-21 | 2013-05-14 | 靜電夾頭及製造靜電夾頭之方法 |
| KR1020130055479A KR102048789B1 (ko) | 2012-05-21 | 2013-05-16 | 정전 척 및 정전 척의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012116035A JP5984504B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | 静電チャック、静電チャックの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013243267A JP2013243267A (ja) | 2013-12-05 |
| JP2013243267A5 true JP2013243267A5 (OSRAM) | 2015-06-18 |
| JP5984504B2 JP5984504B2 (ja) | 2016-09-06 |
Family
ID=49581114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012116035A Active JP5984504B2 (ja) | 2012-05-21 | 2012-05-21 | 静電チャック、静電チャックの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9660557B2 (OSRAM) |
| JP (1) | JP5984504B2 (OSRAM) |
| KR (1) | KR102048789B1 (OSRAM) |
| TW (1) | TWI591751B (OSRAM) |
Families Citing this family (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5811513B2 (ja) | 2014-03-27 | 2015-11-11 | Toto株式会社 | 静電チャック |
| US10475688B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-11-12 | Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. | Electrostatic chuck device, and semiconductor manufacturing device |
| KR102315180B1 (ko) * | 2017-06-13 | 2021-10-20 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 반도체 제조 장치용 부재 |
| JP6963016B2 (ja) | 2017-10-26 | 2021-11-05 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
| DE112018005933B4 (de) | 2017-11-21 | 2021-11-18 | Watlow Electric Manufacturing Company | Keramiksockelanordnung und Verfahren zur Bildung einer Keramiksockelanordnung |
| US11456161B2 (en) * | 2018-06-04 | 2022-09-27 | Applied Materials, Inc. | Substrate support pedestal |
| KR102188779B1 (ko) * | 2018-10-15 | 2020-12-08 | 세메스 주식회사 | 기판 지지 장치 및 그 제조방법 |
| KR102752212B1 (ko) | 2019-01-24 | 2025-01-10 | 교세라 가부시키가이샤 | 정전 척 |
| TWI684241B (zh) * | 2019-01-31 | 2020-02-01 | 台灣積體電路製造股份有限公司 | 靜電吸盤及其製造方法 |
| CN111508883B (zh) * | 2019-01-31 | 2024-02-13 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 静电吸盘及其制造方法 |
| JP7291046B2 (ja) * | 2019-09-18 | 2023-06-14 | 新光電気工業株式会社 | 基板固定装置 |
| KR20210057384A (ko) * | 2019-11-12 | 2021-05-21 | 주식회사 미코세라믹스 | 정전척 |
| JP7521903B2 (ja) * | 2020-02-21 | 2024-07-24 | 株式会社巴川コーポレーション | 静電チャック装置 |
| KR20230147691A (ko) * | 2021-03-25 | 2023-10-23 | 교세라 가부시키가이샤 | 정전 척 |
| CN115732386A (zh) * | 2021-08-31 | 2023-03-03 | Toto株式会社 | 静电吸盘以及处理装置 |
| CN115732387A (zh) * | 2021-08-31 | 2023-03-03 | Toto株式会社 | 静电吸盘以及处理装置 |
| JP7514817B2 (ja) * | 2021-12-27 | 2024-07-11 | 日本碍子株式会社 | 半導体製造装置用部材 |
| JP7734117B2 (ja) * | 2022-06-30 | 2025-09-04 | 日本特殊陶業株式会社 | 保持装置 |
| WO2024090276A1 (ja) * | 2022-10-24 | 2024-05-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板支持器及びプラズマ処理装置 |
| WO2024157518A1 (ja) * | 2023-01-26 | 2024-08-02 | 日本碍子株式会社 | ウエハ載置台 |
| WO2024166181A1 (ja) * | 2023-02-06 | 2024-08-15 | 日本碍子株式会社 | サセプタ |
| JP7647783B2 (ja) * | 2023-02-22 | 2025-03-18 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| JP7647782B2 (ja) * | 2023-02-22 | 2025-03-18 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| JP7409536B1 (ja) | 2023-02-22 | 2024-01-09 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| JP7480876B1 (ja) | 2023-02-22 | 2024-05-10 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| JP7409535B1 (ja) | 2023-02-22 | 2024-01-09 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| JP7647781B2 (ja) * | 2023-02-22 | 2025-03-18 | Toto株式会社 | 静電チャック及びその製造方法 |
| KR102642523B1 (ko) * | 2023-06-07 | 2024-03-04 | 주식회사 미코세라믹스 | 서셉터 제조 방법 및 그 방법에 의해 제조된 서셉터 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5720818A (en) * | 1996-04-26 | 1998-02-24 | Applied Materials, Inc. | Conduits for flow of heat transfer fluid to the surface of an electrostatic chuck |
| US7479456B2 (en) * | 2004-08-26 | 2009-01-20 | Applied Materials, Inc. | Gasless high voltage high contact force wafer contact-cooling electrostatic chuck |
| US7697260B2 (en) * | 2004-03-31 | 2010-04-13 | Applied Materials, Inc. | Detachable electrostatic chuck |
| KR101132632B1 (ko) * | 2004-12-07 | 2012-04-02 | 주성엔지니어링(주) | 정전척 |
| JP4557814B2 (ja) * | 2005-06-09 | 2010-10-06 | パナソニック株式会社 | プラズマ処理装置 |
| KR101125885B1 (ko) * | 2007-07-31 | 2012-03-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 감소된 플라즈마 침투 및 아킹을 갖는 정전척을 제공하는 방법 및 장치 |
| JP2009123929A (ja) * | 2007-11-15 | 2009-06-04 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| KR20090097229A (ko) * | 2008-03-11 | 2009-09-16 | 전영재 | 반도체 및 lcd 제조용 정전척 |
| JP5331519B2 (ja) | 2008-03-11 | 2013-10-30 | 日本碍子株式会社 | 静電チャック |
| JP5449750B2 (ja) * | 2008-11-19 | 2014-03-19 | 株式会社日本セラテック | 静電チャックおよびその製造方法 |
| JP5250408B2 (ja) | 2008-12-24 | 2013-07-31 | 新光電気工業株式会社 | 基板温調固定装置 |
| JP5604888B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-10-15 | 住友大阪セメント株式会社 | 静電チャックの製造方法 |
| JP6096470B2 (ja) * | 2012-10-29 | 2017-03-15 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
-
2012
- 2012-05-21 JP JP2012116035A patent/JP5984504B2/ja active Active
-
2013
- 2013-05-09 US US13/890,566 patent/US9660557B2/en active Active
- 2013-05-14 TW TW102116978A patent/TWI591751B/zh active
- 2013-05-16 KR KR1020130055479A patent/KR102048789B1/ko active Active
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