JP2013242424A - パターン位相差フィルム、画像表示装置、パターン位相差フィルムの製造用金型及びパターン位相差フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パターン位相差フィルムを使用したパッシブ方式の画像表示装置において、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止する。
【解決手段】透明フィルム材による基材２上に、配向膜３、位相差層４が順次設けられ、配向膜３の配向規制力により位相差層４で画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える。位相差層４は、第1の方向に遅相軸を有する第1の領域Ａと、第1の領域Ａとは異なる第２の方向に遅相軸を有する第２の領域Ｂとが順次交互設けられ、第１及び第２の領域Ａ及びＢの間には、幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下の範囲で、第１及び又は第２の領域Ａ及び又はＢに向かうに従って、徐々に遅相軸の整列の程度が増大する未配向領域Ｃが設けられる。
【選択図】図１

Description

本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関するものである。

近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが提供されている。ここでフラットパネルディスプレイにおいて３次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の画像と、左目用の画像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の画像と左目用の画像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の３次元表示方式について図を参照しながら説明する。図５は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の３次元表示の一例を示す概略図である。この図５の例では、液晶表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。なおこれにより液晶表示パネルの画面は、短辺が垂直方向で長辺が水平方向となる帯状の領域により、右目用の画像を表示する領域と左目用の画像を表示する領域とに交互に区分されることになる。

さらにパッシブ方式では、液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で回転方向の異なる円偏光に変換する。このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける領域の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、又は０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。なおこの図５の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。

このパッシブ方式は、応答速度の遅い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。

このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムに関して、特許文献１には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターンニングして位相差層を作成する方法が開示されている。また特許文献２には、レーザーの照射によりロール版の周側面に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作製する方法が開示されている。

ところでパターン位相差フィルムを使用したディスプレイ装置において、白色画面を表示したところ、図６に示すように、あたかもモアレ縞のように、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域ＯＢが発生した。この帯状領域ＯＢは、一般の動画を表示した場合にも、視聴者に不自然な印象を与えるものであった。このような他の部位に比して明るさの異なる帯状領域ＯＢの発生は防止することが望まれる。

特開２００５−４９８６５号公報 特開２０１０−１５２２９６号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パターン位相差フィルムを使用したパッシブ方式の画像表示装置において、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができるパターン位相差フィルム、このパターン位相差フィルムを使用した画像表示装置、パターン位相差フィルムの製造用金型、パターン位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、パターン位相差フィルムの配向膜において、領域間に発生する未配向領域との境界をぼかすとの着想に至り、本発明を完成するに至った。

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。

（１） 透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が順次設けられ、
前記配向膜の配向規制力により前記位相差層で画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与え、
前記位相差層は、
第1の方向に遅相軸を有する第1の領域と、前記第1の領域とは異なる第２の方向に遅相軸を有する第２の領域とが順次交互設けられ、
前記第１及び第２の領域の間には、幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下の範囲で、第１及び又は第２の領域に向かうに従って、徐々に前記遅相軸の整列の程度が増大する未配向領域が設けられた
パターン位相差フィルム。

（１）によれば、第１及び又は第２の領域と未配向領域との境界をぼかすことができる。これにより第1及び第２の領域の交互の繰り返しによる規則性を緩和することができ、その結果、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる。

（２） （１）において、前記未配向領域は、幅のばらつきが１０％以上、５０％以下に設定される。

（２）によれば、未配向領域の幅のばらつきにより規則性を一段と緩和することができ、一段と帯状領域の発生を防止することができる。

（３） （１）又は（２）において、前記第1の領域が、
右目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用領域であり、
前記第２の領域が、
左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用領域である。

（３）によれば、画像表示パネルとの対応により各領域を把握することができる。

（４） 画像表示装置において、（１）、（２）、又は（３）に記載のパターン位相差フィルムを配置する。

（４）他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる画像表示装置を提供することができる。

（５） 母材の表面に、ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第２の領域とが、順次、交互に作製されたパターン位相差フィルムの製造用金型であって、
前記第１及び第２の領域の間には、幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下の範囲で、第１及び又は第２の領域に向かうに従って、徐々に前記ライン状凹凸形状の程度が増大する未配向領域が設けられる。

（５）によれば、この製造用金型により製造されるパターン位相差フィルムにおいて、第１又は第２の領域と未配向領域との境界をぼかすことができる。これにより第1及び第２の領域の交互の繰り返しによる規則性を緩和することができ、その結果、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる。

（６） （５）において、
前記未配向領域は、幅のばらつきが１０％以上、５０％以下に設定される。

（６）によれば、未配向領域の幅のばらつきにより規則性を一段と緩和することができ、一段と帯状領域の発生を防止することができる。

（７） 製造用金型を作製する製造用金型の作製工程と、
前記製造用金型を使用した賦型処理により基材上に配向膜を作製する配向膜作製工程と、
前記配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記製造用金型は、
母材の表面に、ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第２の領域とが、順次、交互に作製され、
前記製造用金型の作製工程は、
前記第１又は第２の領域をマスクするマスクを使用したラビング処理により、前記第２又は第１の領域を選択的にラビング処理して前記第２又は第１の領域に前記凹凸形状を作製し、
前記マスクは、厚みが５μｍ以上、３０μｍ以下である。

（７）によれば、この製造用方法により製造されるパターン位相差フィルムの製造用金型において、マスクの厚みにより、マスクの近傍で充分にライン状凹凸形状を作製できない領域が発生する。その結果、パターン位相差フィルムでは、第１及び第２の領域の境界に、十分に遅相軸が整列していない未配向領域が発生し、この未配向領域と第１又は第２の領域に対応する領域との境界をぼかすことができる。これにより第1及び第２の領域の交互の繰り返しによる規則性を緩和することができ、その結果、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる。

本発明によれば、パターン位相差フィルムを使用したパッシブ方式の画像表示装置において、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる。

本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。 図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図である。 ロール版の製造工程を示す図である。 図３の続きを示す図である。 パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。 他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の説明に供する図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１（ａ）においては左右方向が対応する方向である）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。

ここでパターン位相差フィルム１は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材２の一方の面上に、配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が屈折率異方性を保持した状態で固化（硬化）された液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１（ａ）では細長い楕円により誇張して示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域（第1の領域）Ａと左目用の領域（第２の領域）Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。

配向膜３は、基材２の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により凹凸形状が作製される。この実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂が適用される。なお紫外線硬化樹脂としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを適用することができる。

これによりパターン位相差フィルム１は、基材２の表面に紫外線硬化性樹脂５が塗布された後、この紫外線硬化性樹脂５の表面に微小な凹凸形状が形成され、この微小な凹凸形状により配向膜３が形成される。パターン位相差フィルム１は、後述する賦型用金型（製造用金型）の表面に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層４をパターンニングする。このため配向膜３は、右目用及び左目用の帯状領域Ａ及びＢにそれぞれ対応する帯状の領域が順次交互に形成され、それぞれ微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線状）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向（水平方向であり、図１(a）においては右上と左下とを結ぶ方向）に対して４５度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材２のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。パターン位相差フィルム１は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。

この実施形態のパターン位相差フィルム１は、この帯状の右目用領域Ａ、左目用領域Ｂ間に、充分にライン状の凹凸形状が作製されていない領域Ｃが、一定幅により作製される（図１（ｂ））。以下、この領域Ｃを未配向領域と呼ぶ。ここでこの実施形態では、製造用金型に作製された微小な凹凸形状を賦型して配向膜が作製され、後述するように、この製造用金型における微小な凹凸形状は、マスクを使用したラビング処理により、右目用領域及び又は左目用領域を選択的にラビング処理して作製される。その結果、このマスクの厚みにより、マスクの近傍領域（第１及び第２の領域の境界に対応する部位である）では、十分にライン状凹凸形状を作製することが困難な領域が発生し、未配向領域Ｃが発生する。

この未配向領域Ｃは、マスクを使用したラビング処理において、マスクの厚みにより発生することから、マスクより遠ざかって領域Ｂに向かうに従って徐々にライン状凹凸形状の程度が増大し（図１（ｂ））、位相差層における遅相軸の整列の程度が増大することになる。その結果、この図１（ｂ）では、左目用領域Ｂと未配向領域Ｃとの境界がぼやけて作製されることになる。これによりこの実施形態では、未配向領域との境界をぼかし、図６について上述した他の部位に比して明るさの異なる帯状領域ＯＢの発生を防止する。

すなわちこのような他の部位に比して明るさの異なる帯状領域ＯＢは、見る方向を変化させるとその形状が変化することにより、モアレと同様に、規則正しい繰り返し模様の重ね合わせにより視覚的に発生するものと考えられる。画像表示パネルでは、マトリックス状に画素が配置され、画素間にはいわゆるブラックマトリックスによる遮光部が設けられる。これに対してパターン位相差フィルムにおいては、位相差層に右目用の領域と左目用の領域とが交互に設けられ、この右目用及び左目用の領域間の境界が、画像表示パネルの遮光部と重なり合うように配置される。しかしながらこのように右目用及び左目用の領域間の境界が、画像表示パネルの遮光部に重なり合うように配置しても、各画素から斜め出射する出射光は、右目用及び左目用の領域間の境界を透過することになり、これによりパターン位相差フィルムにおける右目用領域及び左目用領域の作製周期と、画像表示パネルにおける遮光部の作製周期との規則性により帯状領域ＯＢが観察されると考えられる。これによりパターン位相差フィルム１において、この境界を目立たなくすれば、境界による規則性を緩和することができ、その結果、パターン位相差フィルムにおける右目用領域及び左目用領域の作製周期の規則性を緩和して、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域ＯＢの発生を低減することができると考えられる。これによりこの実施形態では、未配向領域の境界をぼかし、右目用領域Ａと左目用領域Ｂとの境界を目立たなくする。

より具体的に、この実施形態では、この未配向領域Ｃの幅Ｗを２０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定する。なお未配向領域Ｃの幅Ｗは、直交二コルにパターン位相差フィルム１を配置して透過光量を測定して判定した。図１（Ｃ）に示すように、この場合、領域Ａ及び領域Ｂでは殆ど透過光が検出されないのに対し、未配向領域Ｃでは、位相差層４の配向が乱れていることにより、透過光が検出されることになる。またこの実施形態では、後述するように、金型の全面を一様にラビング処理した後、右目用領域Ａの側をマスクしたラビング処理により左目用領域Ｂをラビング処理して右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂの凹凸形状を作製することにより、右目用領域Ａ側では、未配向領域Ｃで急激に透過光量が変化する。これに対して、左目用領域Ｂ側では、左目用領域Ｂに向かうに従って徐々に透過光量が低下する。これによりこの実施形態では、未配向領域Ｃにおける左目側領域Ｂ側について、境界をぼかすことになる。

この実施形態では、この未配向領域Ｃにおける透過光量のピーク値ＬＰを基準光量に設定し、この基準光量の所定比率（例えば５％）以上の光量Ｌ１が検出される範囲を未配向領域Ｃと定義し、この所定比率の範囲Ｗを未配向領域の幅と定義した。

種々に検討した結果によれば、このように未配向領域Ｃの幅Ｗを２０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定すれば、実用上充分に帯状領域ＯＢの発生を防止できることがわかった。

さらにこの実施形態では、この未配向領域Ｃの幅ＷのばらつきΔＷを１０％以上、５０％以下に設定し、これによっても一段と確実に帯状領域ＯＢの発生を防止する。すなわち未配向領域Ｃの幅ＷのばらつきΔＷを大きくすることによっても、パターン位相差フィルムにおける右目用領域及び左目用領域の作製周期の規則性を緩和することができ、これにより帯状領域ＯＢの発生を低減することができる。なおここで複数個所（例えば１０箇所）における未配向領域Ｃの幅Ｗの計測結果を統計的に処理するようにして、標準偏差σに対して３σ×２（６σ）の範囲をばらつきΔＷとした。

なお未配向領域Ｃの幅Ｗの範囲は、画像表示パネルの画素間に設けられる遮光部（いわゆるブラックマトリックスである）により正面方向からは直接に未配向領域Ｃを見て取ることができないようにし、かつクロストークの発生を充分に防止する観点によっても、さらには未配向領域Ｃの幅Ｗに充分なばらつきを確保する観点によっても、上述の範囲に設定される。因みに、クロストークは、右目用画素及び左目用画素からの出射光が、予定した側の目とは異なる視聴者の左目及び右目に漏れ込み、これにより立体画像を表示した際の立体感が損なわれる現象である。このクロストークを防止する観点からは、未配向領域Ｃの幅Ｗは充分に小さいことが望まれる。しかしながら規則性を緩和するとの観点、未配向領域Ｃの幅Ｗを充分にばらつかせるとの観点からは、未配向領域Ｃは充分に幅広により作製することが望まれる。

図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示す略線図である。この製造工程１０は、基材２がロールにより提供され、この基材２を供給リール１１から供給する。製造工程１０は、ダイ１２によりこの基材２に紫外線硬化樹脂の塗布液を塗布する。この製造工程１０において、ロール版２０は、パターン位相差フィルム１の配向膜３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型である。製造工程１０は、紫外線硬化樹脂が塗布された基材２を加圧ローラ１４によりロール版２０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置１５による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造工程１０は、ロール版２０の周側面に形成された凹凸形状を基材２に転写する。その後、剥離ローラ１６によりロール版２０から基材２を剥離し、ダイ１９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置１７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール１８に巻き取る。パターン位相差フィルム１は、この巻き取りリール１８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム１は、ロールにより提供される基材２を連続して処理して効率良く大量生産される。

図３及び図４は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版２０の製造工程を示す図である。なおこの図３及び図４において、パターン位相差フィルム１の領域Ａ、Ｂ、未配向領域Ｃに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢ、ＡＲＣにより示す。この製造工程では、面出し工程において、母材４０の周側面を切削により平滑化する。続いてこの製造工程は、下地層４１が作製される（図３（ａ））。ここで母材４０は、ロール版２０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材４０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材４０は、銅が適用される。

下地層４１は、上層に設けられる材料層について、母材４０に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層４１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。

続いてこの工程は、下地層４１の上に、第１の無機材料層４２を作製する。この実施形態では、この第１の無機材料層４２にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製する。なおこの第１の無機材料層４２には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_ｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどを適用することができる。

続いてこの工程は、図３（ｂ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、第１の無機材料層４２の全面に微小なライン状の凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜３の右目用領域Ａの凹凸形状に対応する微小な凹凸形状である。この実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。なお図３及び図４では、便宜上、ラビングロールＲによりラビング処理を示す。

続いてこの工程は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスク４３が作製される（図３（ｃ））。すなわちこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる。

この実施形態では、このレジスト材料によるマスク４３は、膜厚ｈが５μｍ以上、３０μｍ以下により作製される。これによりこの実施形態では、このマスク４３のエッジ近傍における、後述するラビング処理で正常に凹凸形状を作製することが困難な領域幅を増大させてこの領域の境界をぼやかせると共に、当該領域幅のばらつきを増大させ、未配向領域Ｃの幅Ｗ及びばらつきΔＷを上述の範囲に設定する。

この工程は、続いて図４（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、第２の無機材料層４４が作製される。この実施形態では、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製し、これによりこの第２の無機材料層４４にニッケル層が適用される。なおこの第２の無機材料層４４は、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_ｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどから選択される。

続いて図４（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１の無機材料層４２におけるライン状の凹凸形状の延長方向とは異なる方向（この実施形態では第１の無機材料層４２におけるラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビング処理し、第２の無機材料層（ニッケル層）４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図４（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、マスク４３を、その上層の第２の無機材料層４４と共に除去する。これらによりこの製造工程は、２回の凹凸形状作製処理により配向膜３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製し、ロール版２０を作製する。

ここで第２の凹凸形状の作製工程では、マスク４３のエッジ部分が段差となっていることにより、マスク４３の厚みによって、このエッジ近傍の領域ＡＲＢの幅方向、両端領域ＡＲＣにおいては、領域ＡＲＢと同等にライン状凹凸形状を作製することが困難になり、これによりこの領域ＡＲＣにより未配向領域Ｃが発生する。マスク４３の膜厚ｈが大きい場合には、この領域ＡＲＣが幅広になり、また幅のばらつきΔＷも大きくなる。なおラビング処理の際の押圧力によっても、この領域ＡＲＣの幅は変化し、少ない押圧力によりラビング処理する場合には、領域ＡＲＣの幅は広くなる。しかしながらマスク４３の膜厚ｈを上述した範囲に設定した場合には、概ね領域ＡＲＣの幅及びばらつきを、未配向領域Ｃの幅及びばらつきに対応する値に設定することができる。

なお上述した製造工程によりロール版２０を作製する場合、マスク４３の側面（端面）にまで第２の無機材料層４４の材料が付着し（図４（ｄ））、これにより図４（ｆ）について上述したマスク４３の除去工程に時間を要することになる。しかしながらこの実施形態のようにマスク４３に係るレジスト層の膜厚ｈを上述した範囲に設定する場合には、ラビング処理の際にマスク４３の端面に付着した第２の無機材料層４４に細かなクラックを生じさせることができ、これによりマスク４３の除去に要する時間を格段的に短縮することができる。

以上の構成によれば、パターン位相差フィルムにおける右目用領域及び左目用領域間の未配向領域について、その幅を２０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定することにより、他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる。

またこのようにして、未配向領域の幅のばらつきを１０％以上、５０％以下に設定することにより、一段と確実に帯状領域の発生を防止することができる。

またこのときマスクラビングに供するマスクの厚みを５μｍ以上、３０μｍ以下に設定することにより、マスクラビングにより配向膜を作製する場合に適用して、未配向領域の幅を２０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定することができ、これにより他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止することができる。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらに組み合わせることができる。

すなわち上述の実施形態では、左目用領域と未配向領域との境界をぼかす場合について述べたが、本発明はこれに限らず、右目用領域と未配向領域との境界をぼかすようにしても良く、また右目用領域及び左目用領域の双方と未配向領域との境界をぼかすようにしてもよい。なおこの場合、前者においては、第２の凹凸形状作製工程にかかるマスクの領域を左目用領域に対応する部位をマスクするように設定することにより実行することができる。また後者においては、例えば、それぞれ右目用及び左目用領域に対応する部位を交互にマスクしてマスクラビングすることにより実行することができる。

また上述の実施形態では図１（ｃ）により模式的に示すように、１つの領域Ｂの両端について、幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下の範囲に未配向領域を設定して境界をぼかす場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ラビング方向によっては、この両端の境界における未配向領域に偏りが発生することにより、一方の側の未配向領域のみ幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下に設定して境界をぼかすようにしてもよい。

また上述の実施形態では、右目用領域及び左目用領域間の未配向領域について、その幅を設定することにより帯状領域の発生を防止する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、この構成に加えて、配向膜における領域間の段差を小さくすることにより帯状領域の発生を一段と防止するようにしてもよい。

また上述の実施形態の構成に加えて、右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂ間の境界を蛇行させることにより、一段と確実に他の部位に比して明るさの異なる帯状領域の発生を防止するようにしてもよい。

また上述の各実施形態の構成に加えて、右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂの領域幅を可変（変調）することにより、右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂの繰り返しによる規則性を緩和し、帯状領域の発生を一段と防止するようにしても良い。なおこの場合、例えば連続する右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂを一定本数毎で区切ってグループ化し、各グループ単位で領域幅を可変しても良い。また領域単位で、ランダムに、又は一定のピッチで領域幅を可変しても良い。またさらに各領域の長手方向で領域幅を可変しても良い。

また上述の各実施形態の構成に加えて、画像表示パネル側の遮光部の処理により帯状領域の発生を一段と防止するようにしても良い。なおこの遮光部の処理にあっては、例えば遮光部のエッジを蛇行させる場合、遮光部の幅を可変（変調）する場合等、種々の手法を広く適用することができる。

また上述の実施形態の構成に加えて、斜めに傾いた微細な凹溝をロール版に作製し、これによりパターン位相差フィルムの配向層に斜めに傾いた微細な凸条を作製するようにしても良い。なおこのような凹溝の作製は、例えばロール版の面出し工程（図３（ａ））において、面出しに供する工具の軌跡を円周接線方向に対して斜めに傾けることにより実行することができる。

また上述の実施形態では、紫外線硬化性樹脂を賦型用樹脂に適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、紫外線硬化性樹脂以外の各種の賦型用樹脂を広く適用することができ、また軟化させた基材を直接ロール版に押し付けて賦型する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、母材の全面を一様にラビング処理した後、その上層にマスク、第２の無機材料層を順次作製してマスクラビングする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、第２の無機材料層を成膜することなく、マスクラビングによりライン状凹凸形状を局所的に作成し直す場合、右目用領域に対応する領域、左目用領域に対応する領域を交互にマスクしてマスクラビングする場合等、マスクラビングによりこの種の製造用金型を作製する場合に広く適用することができる。

また上述の実施形態では、ロール版によりパターン位相差フィルムを生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板によりパターン位相差フィルムを生産する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、液晶表示パネルの使用を前提とする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ＥＬパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提とする場合にも広く適用することができ、また偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。

１ パターン位相差フィルム
２ 基材
３ 配向膜
４ 位相差層
５ 賦型層
１０ 製造工程
１１ 供給リール
１２、１９ ダイ
１４ 加圧ローラ
１５、１７ 紫外線照射装置
１６ 剥離ローラ
１８ 巻き取りリール
２０ ロール版
４０ 母材
４１ 下地層
４２、４４ 無機材料層
４３ マスク

Claims (7)

1. 透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が順次設けられ、
   前記配向膜の配向規制力により前記位相差層で画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与え、
   前記位相差層は、
   第1の方向に遅相軸を有する第1の領域と、前記第1の領域とは異なる第２の方向に遅相軸を有する第２の領域とが順次交互設けられ、
   前記第１及び第２の領域の間には、幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下の範囲で、第１及び又は第２の領域に向かうに従って、徐々に前記遅相軸の整列の程度が増大する未配向領域が設けられた
   パターン位相差フィルム。
2. 前記未配向領域は、幅のばらつきが１０％以上、５０％以下に設定された
   請求項１に記載のパターン位相差フィルム。
3. 前記第1の領域が、
   右目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用領域であり、
   前記第２の領域が、
   左目用画像データで駆動される前記画像表示パネルの画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用領域である
   請求項１又は請求項２に記載のパターン位相差フィルム。
4. 請求項１、請求項２、又は請求項３に記載のパターン位相差フィルムを配置した
   画像表示装置。
5. 母材の表面に、ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第２の領域とが、順次、交互に作製されたパターン位相差フィルムの製造用金型であって、
   前記第１及び第２の領域の間には、幅２０μｍ以上、１５０μｍ以下の範囲で、第１及び又は第２の領域に向かうに従って、徐々に前記ライン状凹凸形状の程度が増大する未配向領域が設けられた
   パターン位相差フィルムの製造用金型。
6. 前記未配向領域は、幅のばらつきが１０％以上、５０％以下に設定された
   請求項５に記載のパターン位相差フィルムの製造用金型。
7. 製造用金型を作製する製造用金型の作製工程と、
   前記製造用金型を使用した賦型処理により基材上に配向膜を作製する配向膜作製工程と、
   前記配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
   前記製造用金型は、
   母材の表面に、ライン状の凹凸形状が作製された帯状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された帯状による第２の領域とが、順次、交互に作製され、
   前記製造用金型の作製工程は、
   前記第１又は第２の領域をマスクするマスクを使用したラビング処理により、前記第２又は第１の領域を選択的にラビング処理して前記第２又は第１の領域に前記凹凸形状を作製し、
   前記マスクは、厚みが５μｍ以上、３０μｍ以下である
   パターン位相差フィルムの製造方法。

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