JP2014010221A - パターン位相差フィルム、画像表示装置、及びパターン位相差フィルム作製用金型 - Google Patents

Abstract

【課題】パッシブ方式による３次元画像表示に関して、右目用及び左目用の順次交互の画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止する。
うにする。
【解決手段】透明フィルム材による基材１２上に、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える位相差層１４が設けられる。位相差層１４は、第１の方向に遅相軸を有する矩形形状による第１の領域Ａと、第1の領域Ａとは異なる第２の方向に遅相軸を有する矩形形状による第２の領域Ｂとが順次交互に設けられた第１の帯状領域Ｏと、第１及び第２の領域Ａ及びＢが順次交互に設けられた第２の帯状領域Ｅとが、第１の帯状領域Ｏの長手方向と直交する方向に順次交互に設けられる。また第２の帯状領域Ｅでは、第１の帯状領域Ｏに対して、第１及び第２の領域Ａ及びＢが、第１又は第２の領域Ａ又はＢの１／２の分だけ、第１の帯状領域Ｏの長手方向にシフトして配置される。
【選択図】図２

Description

本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造に関するものである。

近年、パッシブ方式により３次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。ここで図１０は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の画像表示装置を示す概略図である。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向又は水平方向（この図１０の例では、垂直方向）に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、３次元画像を表示する。

このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、０度と＋９０度、又は０度と−９０度の何れかの組み合わせが採用される。なおこの図１０の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。

このパッシブ方式は、応答速度の低い画像表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。なおパッシブ方式の画像表示装置では、図１０の例による垂直方向に代えて、水平方向に連続する画素を順次交互に右目用及び左目用に振り分ける方法も採用される。

この種の画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムについては、特許文献１、２等に種々の作製方法が提案されている。

また２次元画像表示では、いわゆる半画素ずらしの手法により、見かけの解像度を増大させる方法がある。ここで半画素ずらしは、例えば奇数ラインの画素に対して、偶数ラインの画素を水平方向に１／２画素だけシフトさせた位置に配置する。この半画素ずらしでは、この場合、見かけの水平解像度を１／２に増大させる。

ところで上述したように、パッシブ方式の画像表示装置では、右目用及び左目用の画素の順次交互の振り分けに係る方向で、２次元画像を表示する場合に比して解像度が１／２に低下する。３次元画像表示において、このような解像度の低下を回避できることが望まれる。

特開２００５−４９８６５号公報 特開２０１０−１５２２９６号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式による３次元画像表示に関して、右目用及び左目用の順次交互の画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、半画素ずらしにより画素を配置し、この半画素ずらしに係る画素ずらしの方向に順次交互に右目用及び左目用の画像データを振り分けるようにし、これに対応して矩形形状による右目用領域及び左目用領域の千鳥配置によりパターン位相差フィルムを作製する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。

（１） 透明フィルム材による基材上に、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える位相差層が設けられ、
前記位相差層は、
第１の方向に遅相軸を有する矩形形状による第１の領域と、前記第1の領域とは異なる第２の方向に遅相軸を有する矩形形状による第２の領域とが順次交互に設けられた第１の帯状領域と、前記第１及び第２の領域が順次交互に設けられた第２の帯状領域とが、前記第１の帯状領域の長手方向と直交する方向に順次交互に設けられ、
前記第２の帯状領域では、前記第１の帯状領域に対して、前記第１及び第２の領域が、前記第１又は第２の領域の１／２の分だけ、前記第１の帯状領域の長手方向にシフトした位置に配置されている。

（１）によれば、半画素ずらしによる画像表示パネルによる３次元画像表示に適用して、右目用の画像データ、左目用の画像データにより駆動される画素からの出射光に、それぞれ第１及び第２の領域により対応する位相差を与えることができる。これにより例えば水平方向に連続する画素を順次右目用及び左目用の割り当てて低下する水平方向の解像度については、半画素ずらしにより補って、画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止することができる。

（２） （１）に記載の前記パターン位相差フィルムを配置して画像表示装置を構成する。

（２）によれば、画素の振り分けに係る方向の解像度を半画素ずらしにより補って、画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止してなる画像表示装置を提供することができる。

（３） パターン位相差フィルムの製造用金型において、
前記パターン位相差フィルムは、
透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が設けられ、
前記パターン位相差フィルムの製造用金型は、
賦型処理により前記配向膜の凹凸形状の作製に供する製造用金型であり、
ライン状の凹凸形状が作製された矩形形状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された矩形形状による第２の領域とが順次交互に設けられた第１の帯状領域と、前記第１及び第２の領域が順次交互に設けられた第２の帯状領域とが、前記第１の帯状領域の長手方向と直交する方向に順次交互に設けられ、
前記第２の帯状領域では、前記第１の帯状領域に対して、前記第１及び第２の領域が、前記第１又は第２の領域の１／２の分だけ、前記第１の帯状領域の長手方向にシフトして配置されている。

（３）によれば、この金型により作製されるパターン位相差フィルムにおいては、右目用の画像データ、左目用の画像データにより駆動される画素からの出射光に、それぞれ第１及び第２の領域により対応する位相差を与えることができる。これにより例えば水平方向に連続する画素を順次右目用及び左目用の割り当てて低下する水平方向の解像度については、半画素ずらしにより補って、画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止することができる。

本発明によれば、パッシブ方式による３次元画像表示に関して、右目用及び左目用の順次交互の画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止することができる。

本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。 図１の画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す図である。 図２のパターン位相差フィルムの製造工程を示す図である。 図３の製造工程に適用されるロール版の作製工程の説明に供する図である。 図４の続きを示す図である。 本発明の第２実施形態に係るロール版の製造工程を示す図である。 図６の続きを示す図である。 図７の続きを示す図である。 他の実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。 パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す略線図である。この画像表示装置１は、画像表示パネル２の表側面にパターン位相差フィルム４が配置される。ここで画像表示パネル２は、駆動部３の駆動により種々の画像を表示する液晶表示パネル、有機ＥＬパネル等である。画像表示パネル２は、符号Ａにより部分的に拡大して示すように、水平方向への半画素ずらしにより、奇数ラインの画素２ａに対して、偶数ラインの画素２ａが１／２画素分だけ水平方向にシフトした位置に配置される。この半画素ずらしの画素配列に対応して、駆動部２は、奇数ラインと偶数ラインとで、各画素の駆動に供する画像データのサンプリング位相を補正して画像表示パネル２を駆動する。これにより画像表示装置１は、水平方向の解像度を向上する。

さらに画像表示装置１において、駆動部３は、３次元画像表示する場合には、水平方向に連続する画素２ａを順次交互に右目用画素Ｒ、左目用画素Ｌに振り分け、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動する。これにより画像表示パネル１では、奇数ラインにおける順次交互の右目用画像、左目用画像の表示に対して、偶数ラインでは１／２画素分だけ水平方向にシフトした位置で、右目用画像及び左目用画像を表示する。画像表示装置１では、この画像表示パネル２における右目用画像及び左目用画像の表示に対応するようにパターン位相差フィルム４が形成され、右目用及び左目用に係る画像表示パネル２の出射光に対応する位相差を付与する。これにより画像表示装置１では、水平方向に順次交互に連続する画素を右目用及び左目用に振り分けて低下する水平方向の解像度を、半画素ずらしの手法を適用して補い、これにより水平方向における解像度の低下を防止する。

図２は、パターン位相差フィルム４を示す図である。パターン位相差フィルム４は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材１２に配向膜１３、位相差層１４が順次作製される。パターン位相差フィルム４は、位相差層１４が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜１３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図２ではハッチングにより示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム４は、画像表示パネル２における画素２ａの配置、振り分けに対応して、１つの画素２ａに対応する矩形形状による右目用領域Ａと左目用領域Ｂとが設けられ、右目用領域Ａと左目用領域Ｂとによりそれぞれ右目用画素及び左目用画素からの直線偏光による出射光に対応する位相差を与え、これにより画像表示パネル２の出射光を右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。なおこれにより画像表示パネル２が有機ＥＬパネルの場合、画像表示装置１では、画像表示パネル２の出射面に偏光板が配置され、この偏光板により画像表示パネル２からの出射光を直線偏光に変換してパターン位相差フィルム４に入射する。なおこれにより右目用領域Ａは、位相差層１４における遅相軸方向が一定の方向に延長するように形成され、左目用領域Ｂにあっては、この領域Ａにとは異なる方向であって、領域Ａとは９０度異なる方向が遅相軸方向となるように形成される。

より具体的にパターン位相差フィルム４は、画像表示パネル２の奇数ライン及び偶数ラインにそれぞれ重なり合う帯状の領域Ｏ及びＥが順次交互に設けられる。これら帯状の領域Ｏ及びＥのうち、奇数ラインに対応する領域Ｏは、右目用画素からの出射光に対応する位相差を与える右目用領域Ａ、左目用画素からの出射光に対応する位相差を与える左目用領域Ｂとが順次交互に設けられる。これに対して偶数ラインに対応する帯状の領域Ｅは、水平方向（帯状領域の長手方向）に、右目用領域Ａ、又は左目用領域Ｂの幅の１／２の分だけシフトして、右目用領域Ａ、左目用領域Ｂが順次交互に設けられる。これによりパターン位相差フィルム４は、半画素ずらし方式による画像表示パネル２における画素の配置に対応して、右目用領域Ａ及び左目用領域Ｂが順次設けられ、画像表示パネル２の右目用画素及び左目用画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。

パターン位相差フィルム４は、基材１２の表面に、微細な凹凸形状の賦型に供する樹脂である賦型用樹脂が塗付され、この賦型用樹脂の賦型処理により凹凸形状が作製される。この実施形態では、この賦型用樹脂に紫外線硬化性樹脂１５が適用される。パターン位相差フィルム４は、この紫外線硬化性樹脂１５の表面の凹凸形状により配向膜１３が形成される。なお紫外線硬化性樹脂１５としては、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ系等の単量体、プレポリマー、或いはこれらの混合物にベンゾフェノン、芳香族ヨードニウム等の光重合開始剤を添加したものを適用することができる。

パターン位相差フィルム４は、後述する賦型用金型の表面に作製された微小な凹凸形状を転写して、配向膜１３に係る微小な凹凸形状が作製され、この凹凸形状による配向規制力により位相差層１４をパターンニングする。このため配向膜１３は、右目用及び左目用に係る矩形形状の領域Ａ及びＢにそれぞれ対応して微小な凹凸形状が作製される。ここでこの微小な凹凸形状は、一方向に延長するライン状（線）の凹凸形状により形成され、この一方向に延長する方向が右目用領域Ａと左目用領域Ｂとで９０度異なる方向となるように、各領域の境界に対して４５度傾くように形成される。なおこの各領域におけるこの傾きにあっては、基材１２のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。パターン位相差フィルム４は、この図１に示す基本構成に加えて、粘着層、セパレータフィルム、反射防止フィルム等が必要に応じて設けられる。

図３は、このパターン位相差フィルム４の製造工程を示す略線図である。この製造工程２０は、基材１２がロールにより提供され、この基材１２を供給リール２１から供給する。製造工程２０は、ダイ２２によりこの基材１２に紫外線硬化性樹脂１５の塗布液を塗布する。この製造工程２０において、ロール版３０は、パターン位相差フィルム４の配向膜１３に係る凹凸形状が周側面に形成された円筒形状の賦型用金型である。製造工程２０は、紫外線硬化性樹脂１５が塗布された基材１２を加圧ローラ２４によりロール版３０の周側面に押圧し、高圧水銀燈からなる紫外線照射装置２５による紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂１５を硬化させる。これにより製造工程２０は、ロール版３０の周側面に形成された凹凸形状を基材１２に転写する。その後、剥離ローラ２６によりロール版３０から硬化した紫外線硬化性樹脂１５と一体に基材１２を剥離し、ダイ２９により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置２７による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール２８に巻き取る。パターン位相差フィルム４は、この巻き取りリール２８に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作製される。これによりパターン位相差フィルム４は、ロールにより提供される基材１２を連続して処理して効率良く大量生産される。

図４及び図５は、パターン位相差フィルムの製造用金型であるロール版３０の製造工程を示す図である。なおこの図４及び図５において、パターン位相差フィルム４の領域Ａ、Ｂに対応する領域を、それぞれ符号ＡＲＡ、ＡＲＢにより示す。この製造工程では、面出し工程において、母材４０の周側面を切削により平滑化する。続いてこの製造工程は、下地層４１が作製される（図４（ａ））。ここで母材４０は、ロール版３０の外形形状に対応する円筒形状の金属材料である。母材４０は、加工のしやすさや寸法安定性などから金属材料であることが好ましく、ニッケル、クロム、ステンレス、銅などであることがより好ましい。なおこの実施形態において、母材４０は、銅が適用される。

下地層４１は、上層に設けられる材料層について、母材４０に対する密着力を強化するために設けられる。この実施形態では、下地層４１は、無電解メッキにより、リンをドープしたニッケル層により膜厚５００ｎｍで作製される。

続いてこの工程は、下地層４１の上に、第１の無機材料層４２を作製する。この実施形態では、この第１の無機材料層４２にニッケル層が適用され、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製する。なおこの第１の無機材料層４２には、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_ｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどを適用することができる。

続いてこの工程は、図４（ｂ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、第１の無機材料層４２の全面に微小なライン状凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜１３の右目用領域ＡＲＡの凹凸形状に対応する微小な凹凸形状である。この実施形態では、ラビング布を使用したラビング処理によりこの凹凸形状が作製される。なお図４及び図５では、便宜上、ラビングロールＲによりラビング処理を示す。

続いてこの工程は、マスク作製工程において、レジスト材料により、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスク４３が作製される（図４（ｃ））。より具体的にこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる。

続いて図５（ｄ）に示すように、薄膜作製工程において、全面に、第２の無機材料層４４が作製される。この実施形態では、スパッタリングにより膜厚１００ｎｍのニッケル層を作製し、これによりこの第２の無機材料層４４にニッケル層が適用される。なおこの第２の無機材料層４４は、金属材料、無機酸化物、無機窒化物、無機炭化物などの各種無機材料を広く適用することができるものの、加工のしやすさなどから、クロム、チタン、ニッケル、タングステン、ステンレス系金属材料、アルミ、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ_ｘ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｓｉ_３Ｎ４、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＳｉＯ_ｘＮ_ｙ、ＳｉＣ、ＷＣ、ＤＬＣなどから選択される。

続いて図５（ｅ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、第１の無機材料層４２におけるライン状凹凸形状の延長方向とは異なる方向（この実施形態では第１の無機材料層４２におけるラビング方向とは９０度の角度をなす方向である）に全面をラビング処理し、第２無機材料層（ニッケル層）４４の表面に凹凸形状を作製する。その後、製造工程は、図５（ｆ）に示すように、続くレジスト除去工程において、マスク４３を、その上層の第２無機材料層４４と共に除去する。これらによりこの製造工程は、２回の凹凸形状作製処理により配向膜１３の領域Ａ及びＢに対応する凹凸形状を作製し、ロール版３０を作製する。

以上の構成によれば、パターン位相差フィルムに関して、遅相軸方向が異なる矩形形状による第１及び第２の領域を交互に繰り返してなる第１の帯状領域と、同様の第２の帯状領域とを交互に設けるようにして、この第２の帯状領域における第１及び第２の領域をシフトさせて設けることにより、半画素ずらしの画素配列による画像表示装置において、パッシブ方式により３次元画像表示する場合に、右目用及び左目用の順次交互の画素の振り分けに係る水平方向についての解像度の低下を防止することができる。

またこのパターン位相差フィルムを使用して半画素ずらしによる画像表示装置に適用することにより、パッシブ方式による３次元画像表示に関して、右目用及び左目用の順次交互の画素の振り分けに係る方向についての解像度の低下を防止することができる。

また配向膜の賦型処理に供する製造用金型に適用して、ライン状の凹凸形状の延長方向が異なる矩形形状による第１及び第２の領域を交互に繰り返してなる第１の帯状領域と、同様の第２の帯状領域とを交互に設けるようにして、この第２の帯状領域における第１及び第２の領域をシフトさせて設けることにより、半画素ずらしの画素配列による画像表示装置に適用するパターン位相差フィルムに関して、パッシブ方式により３次元画像表示する場合に、右目用及び左目用の順次交互の画素の振り分けに係る水平方向についての解像度の低下を防止することができる。

〔第２実施形態〕
図６〜図８は、本発明の第２実施形態に係るロール版の製造工程を示す図である。なおこの図６〜図８に示す構成において、第１実施形態に係る構成と同一の構成は対応する符号を付して示し、重複した説明は省略する。この実施形態では、交互のマスクラビングにより右目用領域及び左目用領域に係る凹凸形状を作製する。このためこの実施形態では、母材４０の周側面に、順次、下地層４１、無機材料層４２が作製される（図６（ａ））。

続いてこの工程は、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを被覆し、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスク５３が作製される（図６（ｂ））。より具体的にこの工程では、ポジ型のレジスト剤を全面に塗布した後、露光、現像処理することにより、左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを露出させたマスクが作製される。なおレジスト材料としては特に限定されるものではなく、ネガ型レジスト材料を適用しても良い。また塗布方法、露光方法にあっても種々の手法を広く適用することができる。

続いて図６（ｃ）に示すように、第１の凹凸形状作製工程において、マスク５３を使用したマスクラビングにより微小なライン状凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜１３の右目用領域ＡＲＡの凹凸形状に対応する微小な凹凸形状である。

続いてこの工程は、マスク除去工程において、マスク５３を除去する（図７（ｄ））。続いてこの工程は、図７（ｅ）に示すように、マスク５３とは逆に、右目用領域Ａに対応する領域ＡＲＡを露出させ、かつ左目用領域Ｂに対応する領域ＡＲＢを被覆したマスク５４が作製される。

続いて図８（ｆ）に示すように、第２の凹凸形状作製工程において、マスク５４を使用したマスクラビングにより微小なライン状凹凸形状を形成する。ここでこのライン状凹凸形状は、配向膜１３の左目用領域ＡＲＢの凹凸形状に対応する微小な凹凸形状である。

続いてこの工程は、マスク除去工程において、マスク５４を除去する（図８（ｇ））。

この実施形態のように、交互のマスクラビングにより右目用領域及び左目用領域に係る凹凸形状を作製するようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。

〔第３の実施形態〕
図９は、図１との対比により本発明の第２実施形態の画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムの構成を示す平面図である。この実施形態の画像表示装置に係る画像表示パネルは、この図９に示すパターン位相差フィルムに関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態又は第２実施形態と同一に構成される。なおこの図９においては、理解を容易にするために右目用領域及び左目用領域に対応する領域をそれぞれ符号Ｒ及びＬにより示す。

ここでこの実施形態に係るパターン位相差フィルムは、第１の実施形態に係るパターン位相差フィルムと同様に、奇数ラインに対応する帯状領域に対して、偶数ラインに対応する帯状領域において、１／２画素の分だけ水平方向にシフトして右目用領域に対応する領域、左目用領域に対応する領域が順次交互に配置される。またさらに偶数番目の奇数ラインは、奇数番目の奇数ラインに対して、右目用領域及び左目用領域の割り当てが入れ替えられて配置される。またこれに対応して偶数番目の偶数ラインは、奇数番目の偶数ラインに対して、右目用領域及び左目用領域の割り当てが入れ替えられて配置される。これによりこのパターン位相差フィルムでは、右目用領域及び左目用領域に対応する領域が斜め方向に順次１／２画素ピッチだけシフトして配置される。

この実施形態の画像表示装置は、このパターン位相差フィルムの設定に対応するように、半画素ずらしによる画素配列の画像表示パネルを右目用及び左目用の画像データで駆動する。

この実施形態のように、さらに奇数ライン及び偶数ラインにおいて、それぞれ奇数番目と偶数番目とで画素ずらしするようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらに組み合わせることができる。

すなわち上述の実施形態では、ラビング処理により配向規制力を有する微細な凹凸形状を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、番手の細かなやすりによる研磨によりこの種の凹凸形状を作製する場合等、種々の手法を広く適用することができる。

また上述の実施形態では、母材の周側面の全面に一様にライン状凹凸形状を作製した後、マスクラビングする場合等について述べたが、本発明はこれに限らず、賦型用金型の作成方法にあっては、種々の手法を広く適用することができる。

また上述の実施形態では、ロール版を使用した賦型処理によりパターン位相差フィルムを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板を使用した枚葉の処理によりパターン位相差フィルムを作製する場合にも広く適用することができる。

また上述の実施形態では、賦型処理により配向膜を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、光配向の手法により配向膜を作製する場合にも広く適用することができる。

１ 画像表示装置
２ 画像表示パネル
３ 駆動部
４ パターン位相差フィルム
１２ 基材
１３ 配向膜
１４ 位相差層
１５ 紫外線硬化性樹脂
２０ 製造工程
２１ 供給リール
２２、２９ ダイ
２４ 加圧ローラ
２５、２７ 紫外線照射装置
２６ 剥離ローラ
２８ 巻き取りリール
３０ ロール版
４０ 母材
４１ 中間層
４２、４４ 無機材料層
４３、５３、５４ マスク
Ｒ ラビングロール

Claims (3)

1. 透明フィルム材による基材上に、画像表示パネルからの出射光に対応する位相差を与える位相差層が設けられ、
   前記位相差層は、
   第１の方向に遅相軸を有する矩形形状による第１の領域と、前記第1の領域とは異なる第２の方向に遅相軸を有する矩形形状による第２の領域とが順次交互に設けられた第１の帯状領域と、前記第１及び第２の領域が順次交互に設けられた第２の帯状領域とが、前記第１の帯状領域の長手方向と直交する方向に順次交互に設けられ、
   前記第２の帯状領域では、前記第１の帯状領域に対して、前記第１及び第２の領域が、前記第１又は第２の領域の１／２の分だけ、前記第１の帯状領域の長手方向にシフトした位置に配置されている
   パターン位相差フィルム。
2. 請求項１に記載の前記パターン位相差フィルムを配置した画像表示装置。
3. パターン位相差フィルムの製造用金型において、
   前記パターン位相差フィルムは、
   透明フィルム材による基材上に、配向膜、位相差層が設けられ、
   前記パターン位相差フィルムの製造用金型は、
   賦型処理により前記配向膜の凹凸形状の作製に供する製造用金型であり、
   ライン状の凹凸形状が作製された矩形形状による第１の領域と、前記第１の領域におけるライン状の凹凸形状とは延長方向が異なるライン状の凹凸形状が作製された矩形形状による第２の領域とが順次交互に設けられた第１の帯状領域と、前記第１及び第２の領域が順次交互に設けられた第２の帯状領域とが、前記第１の帯状領域の長手方向と直交する方向に順次交互に設けられ、
   前記第２の帯状領域では、前記第１の帯状領域に対して、前記第１及び第２の領域が、前記第１又は第２の領域の１／２の分だけ、前記第１の帯状領域の長手方向にシフトして配置されている
   パターン位相差フィルムの製造用金型。

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