JP2013234126A - メルカプト化合物 - Google Patents

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Abstract

【課題】各種溶媒や材料との親和性を有する、新規なメルカプト化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される化合物。各種溶媒や材料との親和性を有するため、ラジカル重合反応の連鎖移動剤、ゴムの加硫促進剤、写真用添加剤、防錆剤、医薬品や工業薬品の合成中間体、金属表面修飾剤、生理活性物質、硬化剤、架橋剤などとして好適に使用することができる。
式(1)

【選択図】なし

Description

本発明は、新規なメルカプト化合物に関する。
メルカプト化合物は、ラジカル重合反応の連鎖移動剤、ゴムの加硫促進剤、写真用添加剤、防錆剤、医薬品や工業薬品の合成中間体、金属表面修飾剤、生理活性物質、硬化剤、架橋剤、プラスチック改質剤などの工業的用途に幅広く利用されている。中でも、含窒素複素環が結合したメルカプト化合物は、金、銀、銅などの金属の単体あるいはイオンと化学結合や吸着をしやすい性質を有することから、ハロゲン化銀写真感光材料用添加剤(例えば、ハロゲン化銀写真感光材料中や、写真用処理液に添加することによって、被り防止剤や安定剤として広く使用される)(非特許文献1)、防錆剤、金属表面修飾剤などとして特に有用である。
T.H.James著「The theory of the photographic process」397頁
含窒素複素環が結合したメルカプト化合物を上記用途に使用するに当たり、構造によっては溶媒が限定されたり、材料との親和性が低いことが問題になる場合があり、各種溶媒や材料との親和性(溶解性、相溶性、分散性)が付与された化合物が求められている。
本発明は、以上の点を鑑みてなされたものであり、各種溶媒や材料との親和性を有する、新規なメルカプト化合物を提供することを目的とする。
本発明者らが、上記目的を達成するために鋭意検討を行なった結果、分子内に特定の含酸素官能基を有する新規なメルカプト化合物が各種溶媒や材料との親和性を有することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の(I)〜(III)を提供する。
(I)下記式(1)で表される化合物。
式(1)
(II)下記式(2)で表される化合物。
式(2)
(III)下記式(3)で表される化合物。
式(3)
本発明によれば、各種溶媒や材料との親和性を有する、新規なメルカプト化合物を提供することができる。各種溶媒や材料との親和性を有するため、ラジカル重合反応の連鎖移動剤、ゴムの加硫促進剤、写真用添加剤、防錆剤、医薬品や工業薬品の合成中間体、金属表面修飾剤、生理活性物質、硬化剤、架橋剤などとして好適に使用することができる。
実施例1で合成された例示化合物(1)のH−NMRスペクトルを示す図である。 実施例2で合成された例示化合物(2)のH−NMRスペクトルを示す図である。 実施例3で合成された例示化合物(3)のH−NMRスペクトルを示す図である。
<式(1)で表される化合物>
本発明の式(1)記載の化合物は、例えば、下記スキーム1、またはスキーム2に示す工程により製造することができるが、これらに限定されるものではない。
(スキーム1)
出発物質として、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール(11)を用い、必要により塩基の存在下で、原料(12)(ここで、Xは脱離基を表し、好ましくは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ノナフルオロブタンスルホニルオキシ基、などが挙げられる。)と反応させる。
反応に用いる塩基は既知の任意の化合物を用いることができるが、有機塩基(例えば、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ビリジン、モルホリン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ブチルリチウム、t−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムなど)、無機塩基(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、水酸化カルシウム、水素化カリウム、水素化ナトリウム、リチウムジイソプロピルアミドなど)から、選択することが好ましい。
次に、必要により未反応原料、ジチオエーテル体、その他の不純物との分離精製を行うことにより、本発明の式(1)の化合物を得る。分離精製は常法により行えばよく、例えば、有機溶媒を用いた抽出操作、貧溶媒を用いた晶析、シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーなどによって好ましく行うことができる。
(スキーム2)
出発物質として、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール(11)を用い、必要により塩基の存在下で、原料(13)アクリル酸ブチルと反応させる。次に、必要により分離精製を行うことにより、本発明の式(1)の化合物を得る。分離精製はスキーム1に記載の方法によって好ましく行うことができる。式(1)の化合物の合成に使用する塩基の好ましい例としては、前述の合成スキーム1において例示した塩基を挙げることができる。
<式(2)で表される化合物>
本発明の式(2)記載の化合物は、例えば、下記スキーム3に示す工程により製造することができるが、これに限定されるものではない。
(スキーム3)
出発物質として、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール(11)を用い、塩基の存在下で、原料(14)と反応させる。(ここで、X’およびその好ましい例は前述のXと同義である。)また、分離精製法についても、前述の式(1)の化合物と同様の方法を用いればよい。
<式(3)で表される化合物>
本発明の式(3)記載の化合物は、例えば、下記スキーム4、またはスキーム5に示す工程により製造することができるが、これらに限定されるものではない。
(スキーム4)
出発物質2−エトキシプロピオン酸誘導体(15)とヒドラジンとを、必要により塩基を用いて反応させ、中間体(16)を得る。Zとしては、ハロゲン原子(例えば、塩素、臭素など)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、イソブチルオキシ、sec−ブチルオキシ、t−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシなどを挙げることができ、アリール基の例としては、フェノキシ、4−メチルフェノキシ、4−メトキシフェノキシ、2−クロロフェノキシ、4−クロロフェノキシ、2,4−ジクロロフェノキシル、1−ナフチルオキシ、2−ナフチオキシルなど)、アシルオキシ基(アセチルオキシ、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、2−エトキシプロピオニルオキシ基など)を好ましく挙げることができる。塩基の好ましい例としては、前述の合成スキーム1において例示した塩基を挙げることができる。
中間体(16)は、イソチオシアン酸フェニルと反応させて、中間体(17)を得る。中間体(17)は、塩基存在下でトリアゾール環に変換して、式(3)の化合物を得る。中間体(16)および式(3)の化合物の合成に使用する塩基の好ましい例としては、前述の合成スキーム1において例示した塩基を挙げることができる。
本発明の中間体(16)、中間体(17)、および、式(3)の化合物は、反応後に精製を行っても、行わなくてもよいが、精製を行うことが好ましい。精製方法としては、前述の式(1)の化合物の精製方法として例示した方法を好ましく用いることができる。
(スキーム5)
出発物質として2−エトキシプロピオン酸誘導体(15)と、4−フェニル−3−チオセミカルバジド(18)とを、必要により塩基を用いて反応させ、中間体(17)を得る。以後の工程はスキーム4と同様である。塩基の好ましい例としては、前述の合成スキーム1において例示した塩基を挙げることができる。
式(1)〜(3)で表される化合物は、分子内に特定の含酸素官能基を有することにより、各種溶媒や材料との親和性を有する。そのため、ラジカル重合反応の連鎖移動剤、ゴムの加硫促進剤、写真用添加剤、防錆剤、医薬品や工業薬品の合成中間体、金属表面修飾剤、生理活性物質、硬化剤、架橋剤などとして好適に使用することができる。
本発明の分子内に特定の含酸素官能基を有するメルカプトアゾール系化合物が、各種溶剤や材料との親和性を示す理由について詳細は不明であるが、以下のような機構を推定している。すなわち、本発明は、アゾール(チアジアゾール、またはトリアゾール)環に置換基として、エーテルあるいはエステル構造を含む炭化水素を有することを特徴とする。これらの基は、酸素原子の電気陰性度が炭素原子に比べて大きいことにより、無置換、あるいは、炭素原子のみを有する基が置換した化合物に比べて、双極子モーメントおよび誘電率が高く、分子の極性が大きくなっている。この極性の程度が、種々の溶媒に溶解したり、材料と相溶するのに適切な範囲であることで、本発明の化合物が各種溶媒や材料と親和性を示すものと考えられる。
式(1)〜(3)で表される化合物を上記用途に使用するにあたり、用いられる溶媒としては特に限定されず親和性を示すが、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールジアセテートなどのエステル溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン溶媒;等が挙げられる。もっとも、用いられる溶媒としては、これらに限定されるものではない。
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」は質量基準である。
<実施例1:式(1)の化合物の合成>
下記スキームに従って、式(1)の化合物を合成した。
反応容器に、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール(和光純薬製)20.0g(0.133mol)、アセトニトリル50mLを加え、75℃で攪拌した。アクリル酸ブチル(和光純薬製)17.1g(0.133mol)とアセトニトリル25mLの混合溶液を、滴下漏斗から1時間掛けて滴下した。75℃で4時間攪拌後、室温まで冷却し、溶液を50mLまで減圧濃縮した。
反応混合物を水700mLに攪拌しながら投入し、更に1時間攪拌を続け、析出物を濾取した。濾取した固体をフラスコに取り、炭酸カリウム(和光純薬製)19g、イオン交換水200mL加え室温で3時間攪拌した。不溶物をろ過により取り除いた。酢酸(和光純薬製)16gと水700mLの混合溶液を氷冷し、得られた濾液を30分間掛けて滴下し、更に2時間攪拌した。晶析物を濾取し、水100mLで3回洗浄し、40℃にて8時間掛けて真空乾燥し、式(1)の化合物を23g得た(収率66%)。
得られた式(1)の化合物のNMRスペクトル(図1に示す)は以下の通りである。
H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン)
4.14(2H,t)、3.41(2H,t)、2.82(2H,t)、1.63(2H,m)、1.39(2H,m)、0.95(3H,t)
図1に示すH−NMRのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、式(1)の化合物であると同定した。
<実施例2:式(2)の化合物の合成>
下記スキームに従って、式(2)の化合物を合成した。
(中間体(21)の合成)
反応容器に、2−ブトキシエタノール(東京化成製)23.6g(0.20mol)、テトラヒドロフラン150mLを取り、混合溶液を作成した。トリエチルアミン(和光純薬製)20.21g(0.20mol)を添加し、氷冷下、メタンスルホニルクロリド(東京化成製)22.88g(0.20mol)を内温を25℃以下に保ちながらゆっくりと滴下した。その後、1時間室温にて攪拌した後、析出した塩をろ過により除去した。更に、ろ液をエバポレーターで濃縮して、テトラヒドロフランを除去し、中間体(21)を得た。得られた中間体(21)は、さらに精製を行うことなく、次工程に使用した。
(式(2)の化合物の合成)
反応容器に、水酸化ナトリウム水溶液(NaOH7.98g/水150mL)に、1,3,4−チアジアゾール−2,5−ジチオール(和光純薬製)30.0g(0.20mol)を添加し、1時間攪拌した。氷冷下、先に調整した中間体(21)を、ゆっくりと滴下し、その後、70℃にて2時間加熱攪拌した。
室温に冷却後、反応液を酢酸エチル150mLで抽出し、水層を除去した。有機層(酢酸エチル層)に水酸化ナトリウム水溶液(NaOH7.98g/水150mL)を加えて混合後、有機層(酢酸エチル層)を除去した。得られた水層に2N塩酸100mLを加えたのち、酢酸エチル100mLで3回抽出した。さらに有機層(酢酸エチル層)を飽和食塩水100mLで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥ろ過後、エバポレーターで濃縮して、溶剤を除去し、粗体を得た。得られた粗体を、カラムクロマトグラフィー(展開溶媒 酢酸エチル/ヘキサン=1/3)にて精製し、式(2)の化合物を無色油状物として5g得た。
得られた式(2)の化合物のNMRスペクトル(図2に示す)は以下の通りである。
H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン)
11.05(1H,br)、3.72(2H,t)、3.48(2H,t)、3.34(2H,t)、1.55(2H,t)、1.35(2H,m)、0.92(3H,t)
図2に示す1H−NMRのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、式(2)の化合物であると同定した。
<実施例3:式(3)の化合物の合成>
下記スキームに従って、式(3)の化合物を合成した。
(中間体(17)の合成)
反応容器に、3−エトキシプロピオン酸(東京化成製)19.4g(0.164mol)、トルエン50mL、N,N−ジメチルホルムアミド0.1mLを取り、混合溶液を作成した。塩化チオニル13.16mL(0.18mol)を添加し、70℃2時間にて加熱攪拌して酸クロリドを調整したのち、溶媒を減圧留去した。
別の反応容器に、4−フェニル−3−チオセミカルバジド(東京化成製)20.9g(0.125mol)、ピリジン15.2mL(0.188mol)のテトラヒドロフラン100mL溶液を調整し、先に調整した酸クロリドを、氷冷下で滴下し、その後、この反応溶液を40℃で3時間攪拌した。この反応溶液を、水300mL、n−ヘキサン100mL混合溶液に氷冷下でゆっくりと加え、析出した目的物(中間体(17))をろ取し、50℃で一晩送風乾燥した(25g、収率75%)。この中間体(17)は、これ以上の精製は行わず、次工程に使用した。
得られた中間体(17)のNMRスペクトルは以下の通りである。
H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン)
9.96(1H,br)、9.61(1H,br)、9.61(1H,br)、9.40(1H,br)、7.41(2H,m)、7.33(2H,m)、7.16(2H,t)、3.64(2H,t)、3.43(2H,m)、2.44(2H,t)、1.06(3H,t)
(式(3)の化合物の合成)
反応容器に、水酸化ナトリウム水溶液(NaOH17.2g(0.430mol)/水170mL)を取り、中間体(17)23g(0.086mol)を、水冷下で添加した後、90℃にて3時間加熱攪拌した。その後、氷冷下でこの反応液に濃塩酸(約37mL)を、pH=5になるまでゆっくりと添加した。析出した生成物をろ別し、水洗した後、エタノール100mLで再結晶した。40℃で12時間減圧乾燥し、式(3)の化合物を白色固体として18.5g(収率86%)得た。
得られた式(3)の化合物のNMRスペクトル(図3に示す)は以下の通りである。
H−NMR(溶媒:重クロロホルム、基準:テトラメチルシラン)
12.15(1H,br)、7.58(3H,m)、7.37(2H,m)、3.65(2H,t)、3.42(2H,q)、2.77(2H,t)、1.15(3H,t)
図3に示すH−NMRのデータにおいて、各プロトンのピークが特徴的な位置に観察されることから、式(3)の化合物であると同定した。
<実施例4:溶解性の評価>
(試験方法)
下記方法により、溶媒中に式(1)〜(3)の化合物、または、下記の比較用化合物C−1〜3を、2.5%、および5%ずつ含む試料を調製した。
(i)2.5%含有の試料の調製
密栓付きガラス容器に、式(1)〜(3)の化合物、および、下記の比較用化合物C−1〜3をそれぞれ25mgずつ取り、酢酸エチルを975mg加えて、25℃で10分間撹拌し、さらに10分間静置した。
(ii)5%含有の試料の調製
式(1)〜(3)の化合物、および、比較用化合物の量を50mg、酢酸エチルの量を950mgとした以外は、(ii)と同様にして試料を調製した。
得られた各試料について、目視にて観察を行い、下記の基準で溶解性を評価した。評価結果を下記第1表に示す。
A:2.5%および5%の含有量で酢酸エチル中に不溶物が確認されなかったもの。
B:5%の含有量で酢酸エチル中に不溶物が確認されたが、2.5%の含有量で酢酸エチル中に不溶物が確認されなかったもの。
C:2.5%および5%の含有量で酢酸エチル中に化合物の溶け残りが確認されたもの。
式(1)〜(3)の化合物は2.5%以上の溶解性を示したのに対し、比較用化合物C−1〜3は溶け残りがあった。中でも、本発明の式(1)、式(2)の化合物が、特に優れた効果を示すことがわかる。以上より、本発明の効果は明らかである。

Claims (3)

  1. 下記式(1)で表される化合物。
    式(1)
  2. 下記式(2)で表される化合物。
    式(2)
  3. 下記式(3)で表される化合物。
    式(3)
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021055388A1 (en) 2019-09-17 2021-03-25 The Lubrizol Corporation 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole ("dmtd") derivatives
WO2022046625A1 (en) 2020-08-26 2022-03-03 The Lubrizol Corporation 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole ("dmtd") metal salt derivatives
WO2022046718A1 (en) 2020-08-26 2022-03-03 The Lubrizol Corporation 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole (dmtd) zinc salt derivatives
US11967747B2 (en) 2019-09-17 2024-04-23 The Lubrizol Corporation Redox flow battery electrolytes with 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole (DMTD) and its derivatives

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021055388A1 (en) 2019-09-17 2021-03-25 The Lubrizol Corporation 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole ("dmtd") derivatives
CN114401949A (zh) * 2019-09-17 2022-04-26 路博润公司 2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑(“dmtd”)衍生物
US11967747B2 (en) 2019-09-17 2024-04-23 The Lubrizol Corporation Redox flow battery electrolytes with 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole (DMTD) and its derivatives
WO2022046625A1 (en) 2020-08-26 2022-03-03 The Lubrizol Corporation 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole ("dmtd") metal salt derivatives
WO2022046718A1 (en) 2020-08-26 2022-03-03 The Lubrizol Corporation 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole (dmtd) zinc salt derivatives

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