JP2013231856A - 補正方法、プログラムおよび情報処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に形成されたラインパターンを加工するための、マスクの複数のパターン要素を前記基板に転写する際に、転写像の寸法が目標寸法になるように各パターン要素を近接効果補正する補正方法は、前記複数のパターン要素のうち注目パターン要素を取り囲む周辺領域におけるパターン要素の密度を算出する算出工程と、パターン要素の密度と当該パターン要素の密度の下で形成される転写像の寸法が前記目標寸法になるパターン要素の寸法との関係に基づいて、前記算出工程で算出したパターン要素の密度に対応する寸法を決定し、当該決定した寸法を前記注目パターン要素における基準値として設定する設定工程と、前記注目パターン要素の寸法を前記基準値の周辺で変化させて計算し、前記注目パターン要素の転写像の寸法が前記目標寸法になる前記注目パターン要素の寸法を決定する決定工程と、を含む。
【選択図】図6
Description
本発明の第1実施形態における補正方法について説明する。第1実施形態の補正方法では、まず、複数の評価用パターンを用いて、カットパターンの密度と、その密度の下で形成される転写像の寸法が目標寸法になるカットパターンの寸法との関係(以下、カットパターンの密度と寸法との関係)を導出する。次に、複数のカットパターンのうち注目する1つのカットパターン(注目カットパターン(注目パターン要素))の密度を算出し、カットパターンの密度と寸法との関係に基づいて、算出した注目カットパターンの密度に対応する寸法を決定する。この決定した寸法は、注目カットパターンにおける基準値として設定される。そして、注目カットパターンの寸法を基準値の周辺で変化させて計算し、転写像の寸法が目標寸法になる注目カットパターンの寸法を決定する。また、第1実施形態の補正方法では、注目カットパターンの密度は、注目カットパターンを取り囲む周辺領域に含まれるカットパターンの個数に基づいて算出される。
本発明の第2実施形態における補正方法について説明する。第2実施形態の補正方法では、第1実施形態の補正方法と比較して、カットパターンの密度を算出する工程が異なっている。カットパターンの密度は、注目カットパターンを、注目カットパターン(注目パターン要素)と周辺領域に含まれるカットパターンとの距離で畳み込み積分して算出される。
第1実施形態および第2実施形態の補正方法は、各カットパターンを基板上に結像する際の像面上の光強度分布を計算する光学シミュレータを用いて実行される。光学シミュレータを搭載した情報処理装置40の構成を図16に示す。情報処理装置40は、中央処理装置(CPU)41と、プログラムやデータを格納するためのハードディスク等の記録媒体42と、主メモリ43とで構成されている。また、情報処理装置40は、キーボードやマウスなどの入力装置44と、液晶ディスプレイなどの表示装置45と、CD−ROMやDVD−ROM等の記録媒体47からプログラムを読み取る読取装置46とを備えている。記録媒体42、主メモリ43、入力装置44、表示装置45および読取装置46は、いずれも中央処理装置41に接続されている。情報処理装置40では、カットパターンの寸法を変化させて繰り返し計算を実行するためのプログラムを格納した記録媒体47を読取装置46に装着し、記録媒体47からプログラムを読み出して記録媒体42に格納する。記録媒体42に格納されたプログラムは、中央処理装置41によって実行されることにより、各カットパターンの寸法を近接効果補正するための計算が実行される。
Claims (7)
- 基板上に形成されたラインパターンを加工するための、マスクの複数のパターン要素を前記基板に転写する際に、転写像の寸法が目標寸法になるように各パターン要素を近接効果補正する補正方法であって、
前記複数のパターン要素のうち注目パターン要素を取り囲む周辺領域におけるパターン要素の密度を算出する算出工程と、
パターン要素の密度と当該パターン要素の密度の下で形成される転写像の寸法が前記目標寸法になるパターン要素の寸法との関係に基づいて、前記算出工程で算出したパターン要素の密度に対応する寸法を決定し、当該決定した寸法を前記注目パターン要素における基準値として設定する設定工程と、
前記注目パターン要素の寸法を前記基準値の周辺で変化させて計算し、前記注目パターン要素の転写像の寸法が前記目標寸法になる前記注目パターン要素の寸法を決定する決定工程と、
を含むことを特徴とする補正方法。 - 前記関係は、パターン要素の密度が相互に異なる複数の評価用パターンを用いて決定されることを特徴とする請求項1に記載の補正方法。
- 前記パターン要素の密度は、前記周辺領域に含まれるパターン要素の個数に基づいて算出されることを特徴とする請求項1又は2に記載の補正方法。
- 前記パターン要素の密度は、前記注目パターン要素を、前記注目パターン要素と前記周辺領域に含まれるパターン要素との距離で畳み込み積分して算出されることを特徴とする請求項1又は2に記載の補正方法。
- 前記注目パターン要素における前記基準値を、前記注目パターン要素を取り囲む周辺領域におけるパターン要素の密度に応じて異なる値に設定することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の補正方法。
- 請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の補正方法の各工程を情報処理装置に実行させることを特徴とするプログラム。
- 請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の補正方法の各工程を実行することを特徴とする情報処理装置。
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