JP2013225011A - 光モジュール用基体及び光モジュール - Google Patents

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Abstract

【課題】フリップチップボンディングされる光素子の電極に合わせてリードフレームを狭小化した場合であっても、一体成形されている樹脂構造体に対するリードフレームの十分な固定強度を確保する。
【解決手段】複数のリードフレーム31〜35と、それらリードフレーム31〜35と一体成形された樹脂構造体40とよりなり、光素子実装部51,52と光導波路体実装部53が樹脂構造体40に形成されている光モジュール用基体20において、リードフレーム31〜35は光素子が搭載されて電気的接続される接続部31a〜35aと、その接続部31a〜35aに続くリード部31b〜35hとを有し、接続部31a〜35aはその厚さ方向の一部が樹脂構造体40に埋め込まれて光素子実装部51,52に位置されている。
【選択図】図1

Description

この発明は光モジュールに関し、特に光モジュールを構成するために用いる光モジュール用基体の構造に関する。
図9は光モジュールの従来例として、特許文献1に記載されている構成を示したものである。光モジュールはこの例ではリードフレーム11と受光素子12と封止体13とフェルール14とプリアンプ15とコンデンサ16を備えている。
リードフレーム11は複数の端子11a〜11eを有している。端子11aは受光素子12への給電端子であり、受光素子搭載領域11fを含んでいる。受光素子12には対向する2つの面に電極が形成されており、受光素子搭載領域11fに受光素子12が搭載されることによって、端子11aに受光素子12の一方の電極が電気的に接続されている。
受光素子搭載領域11fには開口11gが形成されており、フェルール14に保持された光ファイバ17からの光は、開口11gを通じて受光素子12の受光面12aに導かれる。
端子11bはGND端子であり、プリアンプ搭載領域11hを含んでいる。プリアンプ搭載領域11hにはプリアンプ15及びコンデンサ16が搭載されている。プリアンプ15と受光素子12の他方の電極とはボンディングワイヤによって電気的に接続されている。コンデンサ16は平行平板型コンデンサであり、プリアンプ15はコンデンサ16を介して給電端子である端子11cに接続されている。
端子11d及び11eはプリアンプ15からの信号を出力するための端子であり、ボンディングワイヤによってプリアンプ15に電気的に接続されている。
リードフレーム11は端子11a〜11eの各端部が露出するように封止体13によって覆われている。封止体13は光ファイバ17からの光に対して透明な樹脂によって成形されて構成されており、位置決め部13a、光路変換部13b、素子配置部13cを有している。
位置決め部13aはフェルール収容部13dと光ファイバ収容部13eとよりなり、フェルール収容部13dはフェルール14の位置を規定し、光ファイバ収容部13eは光ファイバ17の位置を規定する。
光路変換部13bは入射面13fと反射面13gを有している。反射面13gは光ファイバ17から出射され、入射面13fを透過した光を反射して受光面12aに入射させる。
素子配置部13cはリードフレーム11の受光素子搭載領域11fとプリアンプ搭載領域11hとを露出させるための部分であり、凹状をなしている。素子配置部13cは最終的にポッテング樹脂により覆われ、これにより受光素子12、プリアンプ15、コンデンサ16及びボンディングワイヤが保護されるものとなっている。
特開2005−165125号公報
上述した光モジュールでは、受光素子は対向する2つの面に電極を有する構成とされ、一方の電極をリードフレームに搭載して接続し、他方の電極はワイヤボンディングによって接続するものとなっている。しかしながら、受光素子や発光素子はこのような電極配置を有する構成に限らず、例えばフリップチップボンディングされるタイプのものもあり、フリップチップボンディングされる面発光素子や面受光素子では一般に発光面や受光面が位置する面と同一面に複数の電極が配置された構成となっている。
このような電極配置の場合、各電極は狭小となり、これに合わせてフリップチップボンディングされる相手方のリードフレームも狭小化する必要がある。
ところで、フリップチップボンディングにおいては、チップ(素子)に超音波を印加し、超音波振動により接合する方式も用いられており、この方式の場合には接合部分に超音波振動が確実に印加されるように、リードフレームは堅固に固定されていなければならない。
しかしながら、図9に示した光モジュールにおけるリードフレーム11の受光素子搭載領域11fの固定構造を見ると、受光素子搭載領域11fは封止体13の上に単に載置され、下面のみが封止体13と接している構造のため、封止体13に堅固に固定されているとは言えず、超音波印加によりリードフレーム自体が振動してしまう恐れが高いものとなっている。従って、フリップチップボンディングされる面発光素子や面受光素子の電極に合わせてリードフレームを狭小化した場合には、リードフレーム自体が振動してしまう恐れはさらに高くなり、十分な接合強度が得られず、接合不良が発生するといった問題がある。
この発明の目的はこの問題に鑑み、フリップチップボンディングされる光素子の電極に合わせてリードフレームを狭小化した場合であっても、リードフレームと一体成形された樹脂構造体に対するリードフレームの十分な固定強度を確保することができるようにした光モジュール用基体を提供することにあり、さらにその光モジュール用基体を用いて構成された光モジュールを提供することにある。
請求項1の発明によれば、複数のリードフレームと、それらリードフレームと一体成形された樹脂構造体とよりなり、光素子実装部と光導波路体実装部が樹脂構造体に形成されている光モジュール用基体において、リードフレームは光素子が搭載されて電気的接続される接続部と、その接続部に続くリード部とを有し、接続部はその厚さ方向の一部が樹脂構造体に埋め込まれて光素子実装部に位置されているものとされる。
請求項2の発明では請求項1の発明において、接続部はリード部と接続されている基端側が折り曲げられてリード部より1段高くされている。
請求項3の発明では請求項2の発明において、接続部とリード部の段差はリードフレームの厚さよりも小さくされる。
請求項4の発明では請求項1乃至3のいずれかの発明において、光素子実装部に前記接続部が3つ位置され、それら3つの接続部によって光素子が3点支持される構造とされる。
請求項5の発明では請求項1乃至4のいずれかの発明において、光素子実装部は樹脂構造体の一面の端縁に形成された凹部とされ、凹部は前記一面に続く樹脂構造体の側面に開放されているものとされる。
請求項6の発明では請求項5の発明において、リード部は前記側面に導出されているものとされる。
請求項7の発明では請求項5又は6の発明において、樹脂構造体は光素子が扱う光に対して透明とされ、光導波路体実装部は樹脂構造体の前記一面と反対側の面に形成されているものとされる。
請求項8の発明では請求項7の発明において、光素子は面発光素子及び面受光素子のいずれか一方もしくは双方とされ、光導波路体実装部に実装される光導波路体と光素子との間の光路を変換して光軸を一致させる反射面が樹脂構造体の前記反対側の面に形成されているものとされる。
請求項9の発明では請求項8の発明において、光導波路体実装部に実装される光導波路体は光ファイバとされ、光導波路体実装部は光ファイバを位置決めする溝もしくは収容穴とされる。
請求項10の発明では請求項5乃至9のいずれかの発明において、樹脂構造体は前記側面から突出延長された基板搭載部を有するものとされる。
請求項11の発明によれば、光モジュールは請求項10記載の光モジュール用基体と、光素子実装部に実装された光素子と、光導波路体実装部に実装された光導波路体と、リード部とワイヤボンディングにより接続されるICが実装された基板とよりなり、基板は基板搭載部に搭載され、ICのワイヤボンディング面の高さがリード部のワイヤボンディング面の高さと等しくされている。
この発明による光モジュール用基体によれば、光素子が搭載されて電気的に接続されるリードフレームの接続部の固定強度を向上させることができる。
また、この発明による光モジュールによれば、リードフレームの接続部が樹脂構造体に堅固に固定されているため、光素子のフリップチップボンディングにおいて超音波印加による接合方式を用いた場合においても十分な接合強度を得ることができる。
Aはこの発明による光モジュール用基体の一実施例を示す斜視図、BはAの部分拡大図、Cはリードフレーム接続部の折り曲げを説明するための図。 Aはキャリアに繋がった状態のリードフレームを示す斜視図、BはAの部分拡大図。 図1Aに示した光モジュール用基体のキャリア切断除去前の状態を示す斜視図。 Aは面発光素子の斜視図、Bは面受光素子の斜視図。 Aは図1Aに示した光モジュール用基体を用いて構成された光モジュールの斜視図、BはAの部分拡大図。 図5Aに示した光モジュールを底面側から見た斜視図。 Aは図5Aに示した光モジュールの底面図、Bはその正面図、CはAのDD線部分拡大断面図。 この発明による光モジュール用基体の他の実施例を示す部分拡大図。 Aは光モジュールの従来例を示す斜視図、BはAのCC線断面図。
この発明の実施形態を図面を参照して実施例により説明する。
図1はこの発明による光モジュール用基体の一実施例の構成を示したものであり、光モジュール用基体20はリードフレーム31〜35と樹脂構造体40とよりなり、樹脂構造体40はリードフレーム31〜35がインサートされて一体成形されている。
図2はリードフレーム31〜35の詳細を、インサート成形される際のキャリアに繋がった状態で示したものであり、図2中、30はキャリアを示し、30a〜30eはブリッジを示す。また、30fはパイロット穴を示す。
リードフレーム31は光素子が搭載されてその電極と電気的に接続される接続部31aと、接続部31aに続くリード部31bとを有しており、他のリードフレーム32〜35も同様に、接続部32a〜35aとリード部32b〜35bとを有している。各リード部31b〜35bはブリッジ30a〜30eに至るように延伸されている。
リードフレーム31,32の接続部31a,32aは、リード部31b、32bの互いの内側面から互いに内向きに突出されて形成されており、この例ではリードフレーム31は接続部31aを2つ有するものとなっている。
なお、リード部31b,32bの先端側には、互いの外側面から互いに外向きに突出延長された延長部31c,32cが設けられている。
リードフレーム33,34の接続部33a,34aは、リード部33b,34bの互いの内側面から互いに内向きに突出されて形成されている。リード部33b,34bの先端側にはリード部33b,34bの延伸方向にさらに延伸された延長部33c,34cがリード33b,34bの互いの外側面から延長されて形成されている。
一方、リードフレーム35のリード部35bはL字状をなすように延伸されており、先端側に位置するL字の一辺の内側に接続部35aが突出形成されている。接続部35aの突出方向は接続部33a,34aの突出方向と直交する方向とされ、接続部33a,34aが位置する方向に向かって突出されている。なお、接続部35aが形成されているリード部35bのL字の一辺は図2に示したように幅広とされている。
各接続部31a〜35aはリード部31b〜35bと接続されている基端側が図2Bに示したように折り曲げられてリード部31b〜35bより1段高くされている。
上記のような構成を有し、キャリア30に支持されたリードフレーム31〜35は金属板をプレスで打ち抜き、曲げ加工を施すことによって製造される。金属板は例えば銅板とされ、プレス後、金めっきが施される。なお、接続部31a〜35aは極めて狭小であって、図2B中に例示した幅w及び間隔sの数値例を示せば、w=50μm、s=75μmである。
図3はキャリア30に支持された図2Aに示したリードフレーム31〜35が樹脂構造体40と一体成形された状態を示したものであり、ブリッジ30a〜30eを切断し、キャリア30を除去することによって、図1に示した光モジュール用基体20となる。
光モジュール用基体20はこの例では光素子として面発光素子と面受光素子の双方が実装される構造とされ、樹脂構造体40には2つの光素子実装部51,52が設けられている。
樹脂構造体40は方形板状をなす本体部41と、本体部41から突出されて延長された一対の腕部42とよりなる。一対の腕部42はそれぞれ本体部41の下面41bから突出された基部42aと、その基部42aから下面41bと平行方向に延長されて形成された基板搭載部42bとよりなる。一対の基板搭載部42bは図1Aに示したように本体部41の方形の一辺の両端部に位置して、その一辺をなす本体部41の側面41cから互いに平行に突出された形状となっている。
本体部41の側面41cには両端部を除いて両端部より1段低い凹部41dが形成されており、この凹部41dは一対の腕部42の基部42aにまで延長されて形成されている。また、凹部41dの上端(本体部41の上面41a側)には凹部41dよりさらに1段低い段部41eが形成されている。
光素子実装部51,52は本体部41の上面(一面)41aの段部41eが形成されている端縁に、段部41eと連通して形成された凹部とされ、凹部によって構成された光素子実装部51,52は本体部41の側面41c側に開放されている。光素子実装部51,52の内部底面51a,52aは、段部41eによって形成された本体部41の上面41aより1段低い段差面41fと同一平面上に位置されている。
インサート成形されたリードフレーム31,32の接続部31a,32aは一方の光素子実装部51の内部底面51aに位置し、リードフレーム33〜35の接続部33a〜35aは他方の光素子実装部52の内部底面52aに位置されている。リードフレーム31〜35の各リード部31b〜35bは本体部41の側面41c側に導出され、側面41cに形成されている凹部41dよりわずかに突出されている。この突出部分の先端面はブリッジ切断面をなす。
リードフレーム31〜35のリード部31b〜35bの各一部、延長部31c,32c及び延長部33c,34cの各一部は樹脂構造体40の樹脂によって覆われており、リード部31b〜35b及び延長部33c,34cの露出している部分は露出面が光素子実装部51,52の内部底面51a,52a及び段差面41fと同一平面をなすように、凹部41dより突出している部分を除いてその厚さ方向の全てが樹脂構造体40に埋め込まれている。
一方、リードフレーム31〜35の各接続部31a〜35aは、前述したように折り曲げられてリード部31b〜35bより1段高くされているため、厚さ方向の一部が樹脂構造体40に埋め込まれた状態となる。図1Cはこの様子を接続部32aの部分を例に示したものであり、接続部32aはその厚さ方向の一部が樹脂構造体40に埋め込まれた状態となるように、接続部32aとリード部32bの折り曲げによる段差dはリードフレーム32の厚さtよりも小さくされている。リードフレーム31〜35の各接続部31a〜35aはこのように樹脂構造体40に厚さ方向の一部が埋め込まれることにより、光素子実装部51,52の内部底面51a,52aからわずかに突出した状態となる。
図4A,Bはこれら光素子実装部51,52に実装される光素子を例示したものであり、図4Aは面発光素子を示し、図4Bは面受光素子を示す。面発光素子60は例えばVCSEL(Vertical Cavity Surface Emitting Laser)とされ、面受光素子70は例えばPD(フォトダイオード)とされる。図4Aにおいて、61は発光面を示し、62〜64は電極を示す。また、図4Bにおいて、71は受光面を示し、72,73は電極を示す。なお、面発光素子60の電極64は面発光素子60を機械的に固定するためのダミー電極となっている。
以上、光モジュール用基体20の光素子実装部51,52及び基板搭載部42bの構成、光素子実装部51,52に実装される面発光素子60、面受光素子70の構成について説明したが、光モジュール用基体20はこれら面発光素子60及び面受光素子70と光接続される光導波路体が実装される光導波路体実装部をさらに備えている。光導波路体実装部は樹脂構造体40の本体部41の光素子実装部51,52が形成されている上面41aと反対側の下面41bに形成されている。光導波路体実装部の構成については後述する。
図5〜7は上述した光モジュール用基体20を用いて構成された光モジュール100の構成を示したものである。光モジュール100は光モジュール用基体20と、面発光素子60と、面受光素子70と、光導波路体としての光ファイバ81,82と、所要の配線パターンが形成され、かつ所要の素子(IC)が実装された基板90とよりなる。なお、基板90に形成されている配線パターンの図示は省略している。
面受光素子70及び面発光素子60はそれぞれ光モジュール用基体20の光素子実装部51,52にフリップチップボンディングされて実装される。フリップチップボンディングはこの例では超音波印加により行われ、即ち面受光素子70及び面発光素子60にそれぞれ超音波を印加して超音波振動させることにより、面受光素子70の電極72,73を対応するリードフレーム31,32の接続部31a,32aに接合し、面発光素子60の電極62〜64を対応するリードフレーム33〜35の接続部33a〜35aに接合する。なお、光素子実装部51,52の、本体部41の上面41aに開口する開口端には面受光素子70及び面発光素子60をそれぞれ収容しやすいようにテーパ面51b,52bが設けられている。
光ファイバ81,82は樹脂構造体40の本体部41の下面41bに形成されている光導波路体実装部53に実装される。光導波路体実装部53はこの例ではV溝によって構成されており、2本の光ファイバ81,82を実装すべく、2つのV溝が形成されている。V溝よりなる光導波路体実装部53は本体部41の下面41bに形成された凹溝41gの底面に形成されている。
光ファイバ81,82の各ファイバ素線81a,82aは、V溝よりなる光導波路体実装部53に実装されて位置決め固定される。固定は接着により行われる。
凹溝41gの延伸方向一端側には凹溝41gに続いて凹溝41gより一段深い段部41hが形成されており、この段部41hは本体部41の側面41iに至るように形成されている。一方、凹溝41gの延伸方向他端側には凹溝41gに続いて凹溝41gより一段深い凹部41jが形成されており、ファイバ素線81a,82aの各先端はこの凹部41jに位置されている。
ファイバ素線81a,82aの各先端が位置する凹部41jの先には本体部41の下面41bの端部が切り欠かれて傾斜面41kが形成されている。傾斜面41kの、ファイバ素線81a,82aの延長上に位置する領域には図7Cに示したように凸面形状をなす反射面41mがそれぞれ形成されている。
一対の反射面41mは光ファイバ81,82と面受光素子70、面発光素子60との各間の光路を変換して光軸を一致させるもので、図7Cに示したように光ファイバ素線81aから出射された光は反射面41mで反射され、集光されて面受光素子70に入射される。一方、面発光素子60から出射された光は反射面41mで反射され、集光されて光ファイバ素線82aに入射される。このようにこの例では樹脂構造体40内を光が透過して光ファイバ81,82と面受光素子70、面発光素子60との各間の光接続が行われるものとなっており、樹脂構造体40はこれら透過する光に対して透明な絶縁樹脂によって構成されている。
次に、光モジュール用基体20への基板90の搭載、接続について説明する。
基板90は樹脂構造体40に形成されている基板搭載部42bに搭載されて固定される。リードフレーム31〜35の内、電気的接続を担うリードフレーム31〜34の各リード部31b〜34bはワイヤボンディングにより基板90に搭載されているICと電気的に接続される。図5では2つのIC91,92を例示している。IC91は例えばトランスインピーダンス増幅器(TIA:Trans Impedance Amplifier)であり、この例ではIC91は電極が上向きとされて(上面側とされて)基板90に接着固定されている。IC91は面受光素子70が実装されているリードフレーム31,32のリード部31b,32bとワイヤボンディングにより接続される。図5中、95はボンディングワイヤを示す。なお、図5では面発光素子60が実装されているリードフレーム33,34のリード部33b,34bとワイヤボンディングにより接続されるICの図示は省略している。
光モジュール用基体20におけるリードフレーム31〜35のリード部31b〜35bが位置する高さと基板搭載部42bの高さとの差(段差)は、図7B中に示したように基板90の厚さをT1、リード部と接続されるIC91の厚さをT2とした時、T1+T2とされる。このように設定することにより、ICのワイヤボンディング面の高さがリード部のワイヤボンディング面の高さと等しくなり、よってボンディングワイヤ95の長さは短かくなる。
以上、この発明による光モジュール用基体の一実施例の構成及びそれを用いて構成された光モジュールについて説明したが、図1に示した光モジュール用基体20の構成によれば、以下に示したような作用効果を得ることができる。
(1)光素子の電極と接続されるリードフレーム31〜35の接続部31a〜35aは、その厚さ方向の一部が樹脂構造体40に埋め込まれているため、樹脂構造体40に対する十分な固定強度を確保することができる。よって、フリップチップボンディングにおいて超音波印加による接合方式を用いる場合であっても、接続部31a〜35a自体の振動を抑制することができ、接合部に超音波振動を集中させることができるので接合を良好に行うことができ、十分な接合強度を得ることができる。これにより、低パワーの超音波印加でも接合が可能となる。
(2)リードフレーム31〜35の接続部31a〜35aは、リード部31b〜35bと接続されている基端側が折り曲げられてリード部31b〜35bより1段高くされており、これにより光素子の電極との接合面が小さく限定されているので、例えば超音波印加による接合方式を用いる場合に接合部に超音波振動をより集中させることができる。
(3)各光素子実装部51,52にはそれぞれリードフレームの接続部が3つ位置し、それら3つの接続部は一直線上ではなく、三角形の頂点を構成し、実装される光素子はそれぞれ3つの接続部によって3点支持される構成となっている。よって、光素子の実装が安定すると共に、良好な電気的接続状態(接合状態)を得ることができ、また位置決め作業(光軸合わせ作業)もやりやすいものとなる。
(4)基板搭載部42bとリードフレーム31〜35のリード部31b〜35bとの高さの差により、基板搭載部42bに搭載される基板90に実装されているICのワイヤボンディング面の高さとリードフレームのリード部のワイヤボンディング面の高さが等しくなるようにされているため、ボンディングワイヤを短かくすることができ、よって高速伝送に有利となり、その点で高性能化を図ることができる。
次に、図8に示した構成について説明する。
図8はこの発明による光モジュール用基体の他の実施例の要部構成を示したものであり、この例ではリードフレーム31〜35の各接続部31a′〜35a′は曲げ加工が施されておらず、リード部31b〜35bと同一平面をなすものとされている。
一方、樹脂構造体40に設けられている光素子実装部51,52の内部底面51a,52aはリードフレーム31〜35の上面より低くされており、段差面41fのうち、これら内部底面51a,52aに続く部分41f′もリードフレーム31〜35の上面より低くされ、内部底面51a,52aと同一平面をなすものとされている。
リードフレーム31〜35の接続部31a′〜35a′はこの例においてもその厚さ方向の一部が樹脂構造体40に埋め込まれた構造になっており、樹脂構造体40に対する十分な固定強度を確保することができる。
以上、この発明の実施例について説明したが、光モジュール用基体は光素子実装部を2つではなく、1つだけ有するものであってもよく、面発光素子及び面受光素子のいずれか一方が実装される構成のものであってもよい。
光ファイバを位置決めする光導波路体実装部はV溝に替えて光ファイバを収容固定する収容穴とすることもでき、また光導波路体は光ファイバに限らず、光導波路基板であってもよい。
なお、リードフレームは金めっきが施されたものとしているが、例えばリードフレームの、光素子の電極との接続部に金バンプを設けるといった構成を採用してもよい。
11 リードフレーム 11a〜11e 端子
11f 受光素子搭載領域 11g 開口
11h プリアンプ搭載領域 12 受光素子
12a 受光面 13 封止体
13a 位置決め部 13b 光路変換部
13c 素子配置部 13d フェルール収容部
13e 光ファイバ収容部 13f 入射面
13g 反射面 14 フェルール
15 プリアンプ 16 コンデンサ
17 光ファイバ 20 光モジュール用基体
30 キャリア 30a〜30e ブリッジ
30f パイロット穴 31〜35 リードフレーム
31a〜35a,31a′〜35a′ 接続部 31b〜35b リード部
31c〜34c 延長部 40 樹脂構造体
41 本体部 41a 上面
41b 下面 41c 側面
41d 凹部 41e 段部
41f,41f′ 段差面 41g 凹溝
41h 段部 41i 側面
41j 凹部 41k 傾斜面
41m 反射面 42 腕部
42a 基部 42b 基板搭載部
51,52 光素子実装部 51a,52a 内部底面
51b,52b テーパ面 53 光導波路体実装部
60 面発光素子 61 発光面
62〜64 電極 70 面受光素子
71 受光面 72,73 電極
81,82 光ファイバ 81a,82a ファイバ素線
90 基板 91,92 IC
95 ボンディングワイヤ 100 光モジュール

Claims (11)

  1. 複数のリードフレームと、それらリードフレームと一体成形された樹脂構造体とよりなり、光素子実装部と光導波路体実装部が前記樹脂構造体に形成されている光モジュール用基体であって、
    前記リードフレームは光素子が搭載されて電気的接続される接続部と、その接続部に続くリード部とを有し、
    前記接続部はその厚さ方向の一部が前記樹脂構造体に埋め込まれて前記光素子実装部に位置されていることを特徴とする光モジュール用基体。
  2. 請求項1記載の光モジュール用基体において、
    前記接続部は前記リード部と接続されている基端側が折り曲げられて前記リード部より1段高くされていることを特徴とする光モジュール用基体。
  3. 請求項2記載の光モジュール用基体において、
    前記接続部と前記リード部の段差は前記リードフレームの厚さよりも小さくされていることを特徴とする光モジュール用基体。
  4. 請求項1乃至3記載のいずれかの光モジュール用基体において、
    前記光素子実装部に前記接続部が3つ位置され、それら3つの接続部によって前記光素子が3点支持される構造とされていることを特徴とする光モジュール用基体。
  5. 請求項1乃至4記載のいずれかの光モジュール用基体において、
    前記光素子実装部は前記樹脂構造体の一面の端縁に形成された凹部とされ、
    前記凹部は前記一面に続く前記樹脂構造体の側面に開放されていることを特徴とする光モジュール用基体。
  6. 請求項5記載の光モジュール用基体において、
    前記リード部は前記側面に導出されていることを特徴とする光モジュール用基体。
  7. 請求項5又は6記載の光モジュール用基体において、
    前記樹脂構造体は前記光素子が扱う光に対して透明とされ、
    前記光導波路体実装部は前記樹脂構造体の前記一面と反対側の面に形成されていることを特徴とする光モジュール用基体。
  8. 請求項7記載の光モジュール用基体において、
    前記光素子は面発光素子及び面受光素子のいずれか一方もしくは双方とされ、
    前記光導波路体実装部に実装される光導波路体と前記光素子との間の光路を変換して光軸を一致させる反射面が前記樹脂構造体の前記反対側の面に形成されていることを特徴とする光モジュール用基体。
  9. 請求項8記載の光モジュール用基体において、
    前記光導波路体実装部に実装される光導波路体は光ファイバとされ、
    前記光導波路体実装部は前記光ファイバを位置決めする溝もしくは収容穴とされていることを特徴とする光モジュール用基体。
  10. 請求項5乃至9記載のいずれかの光モジュール用基体において、
    前記樹脂構造体は前記側面から突出延長された基板搭載部を有することを特徴とする光モジュール用基体。
  11. 請求項10記載の光モジュール用基体と、
    前記光素子実装部に実装された光素子と、
    前記光導波路体実装部に実装された光導波路体と、
    前記リード部とワイヤボンディングにより接続されるICが実装された基板とよりなり、
    前記基板は前記基板搭載部に搭載され、
    前記ICのワイヤボンディング面の高さが前記リード部のワイヤボンディング面の高さと等しくされていることを特徴とする光モジュール。
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