JP2013217890A - 除染処理方法とその方法に使用可能な表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高圧の処理水Wを噴射する複数の噴射ノズル80を配設させて回転する回転噴射体70と、回転噴射体を回転可能に支持するハウジング51と、ハウジングに接続される吸引手段62と、を備えた表面処理装置10を使用する。全体の処理水の供給量を20リットル/min以下となる数で、かつ、回転軌跡がずれるように噴射ノズル80を配設させた状態として、吸引手段を作動させ、各噴射ノズルと処理面1との距離を5〜20mmの範囲内とし、吐出圧を100〜280Mpaとした処理水Wを各噴射ノズルから噴射しつつ、回転噴射体を回転させ、かつ、ハウジング51を処理面1に沿って移動させつつ、処理面1の除染を行う。
【選択図】図4
Description
放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のcpm値を低減させる除染処理方法であって、
処理水の吐出圧を100〜280Mpaの範囲内として、それぞれ、0.2〜3.5リットル/minの吐出量となる複数の噴射ノズルと、
複数の前記噴射ノズルを配設させて、各前記噴射ノズルから噴射させつつ、回転面を処理面に沿わせた状態として回転可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持し、処理面近傍まで延びて前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
を備えた表面処理装置を使用するとともに、
前記噴射ノズルを、前記回転噴射体全体の処理水の給水量を20リットル/min以下とする範囲内とする数の使用とし、かつ、各前記噴射ノズルの処理水の噴射によって処理面の削れが抑制される範囲内として、前記回転噴射体の回転時の前記噴射ノズルの回転軌跡を相互にずらした配置とするように、前記回転噴射体に配設させ、
前記吸引手段を作動させて、各前記噴射ノズルと前記処理面との距離を5〜20mmの範囲内とし、吐出圧を100〜280Mpaとした処理水を各前記噴射ノズルから噴射しつつ、前記回転噴射体を回転させ、かつ、前記ハウジングを前記処理面に沿って移動させつつ行うことを特徴とする。
本発明に係る除染処理方法では、各噴射ノズルからの処理水の吐出圧を125〜225Mpaの範囲内とすることが望ましい。
あるいは、本発明に係る除染処理方法では、各噴射ノズルからの処理水の吐出圧を100Mpa以上、125Mpa未満の範囲内としてもよい。
本発明に係る除染処理方法では、前記回転噴射体全体への処理水の給水量を6〜12リットル/minの範囲内とすることが望ましい。
さらに、本発明に係る除染処理方法では、処理水の少なくとも一部には、吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液、を使用することが望ましい。
本発明に係る表面処理装置では、放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のcpm値を低減させる除染処理方法に使用可能な表面処理装置であって、
高圧の処理水を噴射する所定数の噴射ノズルを配置させたノズルアームを、回転中心から放射状に複数延ばすように配設させて構成され、回転面を処理面に沿わせた状態として、前記ノズルアームを回転させつつ、前記処理水を前記噴射ノズルから噴射させて、前記処理面を処理可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持して、前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
該ハウジングを支持して、前記回転噴射体と前記ハウジングとを前記処理面上に沿って移動可能とする車輪と、
を備え、
複数の前記噴射ノズルが、
吐出圧を100〜280Mpaの範囲内として、それぞれ、0.2〜3.5リットル/minの吐出量として構成されるとともに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、前記回転中心から2.3〜4.8mmの範囲内とした半径寸法差の多数の同心的な円弧とし、さらに、
前記処理面との距離を5〜20mmの範囲内とするように、
配設されていることを特徴とする。
本発明に係る表面処理装置では、既述の吐出圧を100〜280Mpaの範囲内として、0.2〜3.5リットル/minの吐出量となる噴射ノズルは、処理水を噴射する噴射口の開口径に換算すると、0.07〜0.4mmの範囲内のものが好適となる。
本発明に係る表面処理装置では、前記回転噴射体は、
全体の処理水の給水量を6〜20リットル/minの範囲内として、
前記ノズルアームを、回転中心からの長さ寸法を略150mmとした4〜8本の範囲内とし、回転中心から均等な放射状に配設するとともに、
一本の前記ノズルアームに配設する前記噴射ノズルを、5個以下として構成し、さらに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、同心的な20〜40個の範囲内の円弧とするように、前記各噴射ノズルを配置することが望ましい。
そして、本発明に係る表面処理装置では、前記回転噴射体は、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡のピッチを、均等とするように、前記各噴射ノズルを配設することが望ましい。
さらに、本発明に係る表面処理装置では、前記各噴射ノズルは、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際に、それぞれ、他の円弧と重ならない円弧の軌跡とするように、配設することが望ましい。
さらにまた、本発明に係る表面処理装置では、使用する前記噴射ノズルは、吐出量を異ならせた複数種類使用してもよく、その場合には、吐出量を大きくする前記噴射ノズルは、吐出量を小さくする前記噴射ノズルより、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記各噴射ノズルの回転軌跡において、前記回転中心から離れた外側の円弧となるように、配設することが望ましい。
また、本発明に係る表面処理装置では、前記ハウジングは、
前記回転噴射体の上方を覆う天井壁部と、前記回転噴射体の周囲を全周にわたって覆う周壁部と、を設けて構成するとともに、
前記周壁部の下端に、下端を前記処理面と接触させつつ撓み可能な円筒状のシール材を配設させて構成し、
前記シール材が、各々、可撓性を有した線材を、下端を自由端とするように束ねて、円筒状とした外周側の外側ブラシ層と、内周側の内側ブラシ層と、を備えて構成され、
前記外側ブラシ層は、前記内側ブラシ層より、線材の長さを長く、かつ、線材の曲げ剛性を低くして、構成することが望ましい。
そして、シール材が、外側ブラシ層と内側ブラシ層とを設けて構成される場合、前記外側ブラシ層と前記内側ブラシ層との間には、前記外側ブラシ層の内側面を覆い可能とした前記内側ブラシ層より長い円筒状とし、かつ、撓み可能としたゴムシートを、配設させてもよい。
さらに、本発明の除染処理方法では、放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のcpm値を低減させる除染処理方法であって、
前記吸引手段の吸引量を30〜40m3/minの範囲内、前記回転噴射体の回転数を1800〜2000回/minの範囲内、前記処理水吐出圧を100〜280Mpaの範囲内、望ましくは、125〜225Mpaの範囲内、移動速度を3〜8m/minの範囲内として、
請求項5乃至請求項12に記載の前記表面処理装置を、作動させつつ処理面上を移動させて行うことを特徴とする。
さらに、この場合の除染処理方法でも、処理水の少なくとも一部には、吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液、を使用することが望ましい。
35個の噴射ノズル80を配置して、回転軌跡のピッチPを2.7mm、
25個の噴射ノズル80を配置して、回転軌跡のピッチPを3.8mm、
21個の噴射ノズル80を配置して、回転軌跡のピッチPを4.6mm、
等と設定することができる。
Claims (15)
- 放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のcpm値を低減させる除染処理方法であって、
処理水の吐出圧を100〜280Mpaの範囲内として、それぞれ、0.2〜3.5リットル/minの吐出量となる複数の噴射ノズルと、
複数の前記噴射ノズルを配設させて、各前記噴射ノズルから噴射させつつ、回転面を処理面に沿わせた状態として回転可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持し、処理面近傍まで延びて前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
を備えた表面処理装置を使用するとともに、
前記噴射ノズルを、前記回転噴射体全体の処理水の給水量を20リットル/min以下とする範囲内とする数の使用とし、かつ、各前記噴射ノズルの処理水の噴射によって処理面の削れが抑制される範囲内として、前記回転噴射体の回転時の前記噴射ノズルの回転軌跡を相互にずらした配置とするように、前記回転噴射体に配設させ、
前記吸引手段を作動させて、各前記噴射ノズルと前記処理面との距離を5〜20mmの範囲内とし、吐出圧を100〜280Mpaとした処理水を各前記噴射ノズルから噴射しつつ、前記回転噴射体を回転させ、かつ、前記ハウジングを前記処理面に沿って移動させつつ行うことを特徴とする除染処理方法。 - 各前記噴射ノズルからの処理水の吐出圧を125〜225Mpaの範囲内とすることを特徴とする請求項1に記載の除染方法。
- 各前記噴射ノズルからの処理水の吐出圧を100Mpa以上、125Mpa未満の範囲内とすることを特徴とする請求項1に記載の除染方法。
- 前記回転噴射体全体への処理水の給水量を6〜12リットル/minの範囲内とすることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の除染処理方法。
- 前記処理水の少なくとも一部に、前記吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液が、使用されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の除染処理方法。
- 放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のcpm値を低減させる除染処理方法に使用可能な表面処理装置であって、
高圧の処理水を噴射する所定数の噴射ノズルを配置させたノズルアームを、回転中心から放射状に複数延ばすように配設させて構成され、回転面を処理面に沿わせた状態として、前記ノズルアームを回転させつつ、前記処理水を前記噴射ノズルから噴射させて、前記処理面を処理可能な回転噴射体と、
該回転噴射体を回転可能に支持して、前記回転噴射体の周囲を覆うハウジングと、
該ハウジングに接続されて、処理後の処理水と処理面付着物とが混ざり合った汚水を吸引可能な吸引手段と、
該ハウジングを支持して、前記回転噴射体と前記ハウジングとを前記処理面上に沿って移動可能とする車輪と、
を備え、
複数の前記噴射ノズルが、
吐出圧を100〜280Mpaの範囲内として、それぞれ、0.2〜3.5リットル/minの吐出量として構成されるとともに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、前記回転中心から2.3〜4.8mmの範囲内とした半径寸法差の多数の同心的な円弧とし、さらに、
前記処理面との距離を5〜20mmの範囲内とするように、
配設されていることを特徴とする表面処理装置。 - 前記噴射ノズルの前記処理水を噴射する噴射口が、開口径を0.07〜0.4mmの範囲内としていることを特徴とする請求項6に記載の表面処理装置。
- 前記回転噴射体が、
全体の処理水の給水量を6〜20リットル/minの範囲内として、
前記ノズルアームを、回転中心からの長さ寸法を略150mmとした4〜8本の範囲内とし、回転中心から均等な放射状に配設させるとともに、
一本の前記ノズルアームに配設する前記噴射ノズルを、5個以下として構成され、さらに、
前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡を、同心的な20〜40個の範囲内の円弧とするように、前記各噴射ノズルを配設させていることを特徴とする請求項6若しくは請求項7に記載の表面処理装置。 - 前記回転噴射体が、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記噴射ノズルの回転軌跡の半径寸法差を、均等とするように、前記各噴射ノズルを配設させていることを特徴とする請求項6乃至請求項8のいずれか1項に記載の表面処理装置。
- 前記各噴射ノズルが、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際に、それぞれ、他の円弧と重ならない円弧の軌跡とするように、配設されていることを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれか1項に記載の表面処理装置。
- 前記噴射ノズルが、吐出量を異ならせた複数種類使用されるとともに、
吐出量を大きくする前記噴射ノズルが、吐出量を小さくする前記噴射ノズルより、前記ハウジングの移動を停止させた状態で前記回転噴射体を回転させた際の前記各噴射ノズルの回転軌跡において、前記回転中心から離れた外側の円弧となるように、配設されていることを特徴とする請求項6乃至請求項10のいずれか1項に記載の表面処理装置。 - 前記ハウジングが、
前記回転噴射体の上方を覆う天井壁部と、前記回転噴射体の周囲を全周にわたって覆う周壁部と、を備えて構成されるとともに、
前記周壁部の下端に、下端を前記処理面と接触させつつ撓み可能な円筒状のシール材を配設させて構成され、
前記シール材が、各々、可撓性を有した線材を、下端を自由端とするように束ねて、円筒状とした外周側の外側ブラシ層と、内周側の内側ブラシ層と、を備えて構成され、
前記外側ブラシ層が、前記内側ブラシ層より、線材の長さを長く、かつ、線材の曲げ剛性を低くして、構成されていることを特徴とする請求項6乃至請求項11のいずれか1項に記載の表面処理装置。 - 前記シール材が、前記外側ブラシ層と前記内側ブラシ層との間に、前記外側ブラシ層の内側面を覆い可能とした前記内側ブラシ層より長い円筒状とし、かつ、撓み可能としたゴムシートを、配設させて構成されていることを特徴とする請求項12に記載の表面処理装置。
- 放射性物質の付着した処理面に対して高圧の処理水を噴射して、処理面のcpm値を低減させる除染処理方法であって、
前記吸引手段の吸引量を30〜40m3/minの範囲内、前記回転噴射体の回転数を1800〜2000回/minの範囲内、前記処理水吐出圧を100〜280Mpaの範囲内、望ましくは、125〜225Mpaの範囲内、移動速度を3〜8m/minの範囲内として、
請求項6乃至請求項13に記載の前記表面処理装置を、作動させつつ処理面上を移動させて行うことを特徴とする除染処理方法。 - 前記処理水の少なくとも一部に、前記吸引手段で吸引された汚水を、凝集剤を利用する沈殿処理と濾過処理とを行なった後の上澄み液が、使用されていることを特徴とする請求項14に記載の除染処理方法。
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