JP2013211366A - 静電塗布方法を用いた薄膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レジスト膜形成方法は、静電帯電させた状態の塗布液を、逆極性に静電帯電させた薄膜形成対象の媒体の塗布面に向けて霧化状態で吹き付けて、塗布液の溶媒に溶解あるいは分散している塗布液固形成分を塗布面に静電吸着させて堆積する静電塗布工程ST1と、塗布面に堆積した塗布液固形成分からなる塗膜を、塗布液の溶媒蒸気に晒して湿潤させることで、当該塗膜の膜質の均一化および表面の平滑化を図る塗膜湿潤工程ST2とを備えている。
【選択図】図1
Description
図1を参照して本実施の形態に係るレジスト膜形成方法の工程を説明する。まず、静電塗布工程ST1では、静電帯電した状態のレジスト液を、逆極性に静電帯電した状態のタイコウエハのウエハ表面に対して霧化状態で吹き付けて、レジスト液溶媒に溶解あるいは分散しているレジスト液固形成分をウエハ表面に静電吸着させて堆積する。
図2は、静電塗布工程ST1において用いるのに適したレジスト塗布装置の一例を示す説明図である。レジスト塗布装置1は、複数本のスプレーノズル2を備えたノズルユニット3、塗布対象のウエハ4を載せるウエハ載置台(ウエハチャック)5、スプレーノズル2とウエハ載置台5を逆極性で帯電させるための帯電用電源装置6、および、各部の駆動制御を司るコンピュータを中心に構成されている駆動制御装置7を備えている。また、ノズルユニット3にレジスト液8aを供給するためのレジスト液タンク8および液供給ポンプ9と、各スプレーノズル2からレジスト液8aをミスト状に噴出するために用いるキャリアガス10aをノズルユニット3に供給するためのキャリアガスタンク10およびガス供給ポンプ11を備えている。
上記の例はウエハ表面にレジスト膜を形成する場合のものであるが、本発明の方法は、レジスト液以外の塗布液を用いて、半導体基板、ガラス基板等の各種素材からなる媒体の表面に薄膜を形成する場合にも適用することができる。例えば、有機材料を含む塗布液を用いて半導体基板表面に有機機能性の薄膜を形成でき、導電性高分子材料を含む塗布液を用いて基板上に導電性有機薄膜を形成することができる。
2 スプレーノズル
2a ノズル開口
2b ノズル本体
2c ノズル側電極
3 ノズルユニット
4 ウエハ
4a 塗布面
4b 本体部分
4c 環状突起
5 ウエハ載置台
5a ウエハ載置面
6 帯電用電源装置
7 駆動制御装置
8 レジスト液タンク
8a レジスト液
9 液供給ポンプ
10 キャリアガスタンク
10a キャリアガス
11 ガス供給ポンプ
12 昇降機構
13 台側電極
Claims (5)
- 静電帯電した状態の塗布液を、逆極性に静電帯電した薄膜形成対象の媒体の塗布面に対して霧化状態で吹き付けて、前記塗布液の溶媒に溶解あるいは分散している塗布液固形成分を前記塗布面に静電吸着させて堆積する静電塗布工程と、
前記塗布面に堆積した前記塗布液固形成分からなる塗膜を、前記溶媒の蒸気に晒して湿潤させることで、当該塗膜の膜質の均一化および表面の平滑化を図る塗膜湿潤工程とを備えていることを特徴とする静電塗布方法を用いた薄膜形成方法。 - 請求項1において、
前記塗膜湿潤工程では、前記塗膜を、前記溶媒の蒸気雰囲気中に晒すことを特徴とする静電塗布方法を用いた薄膜形成方法。 - 請求項1または2において、
前記溶媒によって湿潤させた後の前記塗膜から前記溶媒を蒸発させて乾燥する乾燥工程を備えていることを特徴とする静電塗布方法を用いた薄膜形成方法。 - 請求項1ないし3のうちのいずれかの項において、
前記媒体は半導体基板あるいはガラス基板であり、
前記塗布液はレジスト液であり、
前記媒体の少なくとも一方の表面が前記塗布面であり、
前記薄膜は前記塗布面に形成したレジスト膜であることを特徴とする静電塗布方法を用いた薄膜形成方法。 - 請求項4において、
前記媒体の前記塗布面は、外周縁全周に亘って変形防止用の突起が形成されていることを特徴とする静電塗布方法を用いた薄膜形成方法。
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