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KR1020147009752A KR102078888B1 (ko) 2011-09-16 2012-09-14 증착 마스크, 증착 마스크의 제조 방법 및 박막 패턴 형성 방법
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TW101133791A TWI555862B (zh) 2011-09-16 2012-09-14 蒸鍍遮罩、蒸鍍遮罩的製造方法及薄膜圖案形成方法
CN201280044893.9A CN103797149B (zh) 2011-09-16 2012-09-14 蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法
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Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5935628B2 (ja) * 2012-09-24 2016-06-15 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法
JP6594615B2 (ja) 2014-10-06 2019-10-23 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着用マスク及びそれを用いた有機el表示装置の製造方法、並びに、蒸着用マスクの製造方法
KR20200011585A (ko) 2015-07-17 2020-02-03 도판 인사츠 가부시키가이샤 메탈 마스크 기재, 메탈 마스크, 및 메탈 마스크의 제조 방법
KR102341452B1 (ko) 2015-07-17 2021-12-21 도판 인사츠 가부시키가이샤 증착용 메탈 마스크 기재, 증착용 메탈 마스크, 증착용 메탈 마스크 기재의 제조 방법, 및, 증착용 메탈 마스크의 제조 방법
CN113403574A (zh) 2015-07-17 2021-09-17 凸版印刷株式会社 金属掩模用基材及其制造方法、蒸镀用金属掩模及其制造方法
WO2017013904A1 (ja) 2015-07-17 2017-01-26 凸版印刷株式会社 メタルマスク基材、メタルマスク基材の管理方法、メタルマスク、および、メタルマスクの製造方法
CN105220110A (zh) * 2015-10-20 2016-01-06 昆山允升吉光电科技有限公司 一种蒸镀用复合磁性掩模板的制作方法
JP6417486B2 (ja) * 2015-12-25 2018-11-07 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 蒸着マスクおよび有機半導体素子の製造方法
CN108495947B (zh) * 2016-01-26 2020-09-08 鸿海精密工业股份有限公司 蒸镀掩模、其制造方法以及使用该蒸镀掩模的有机发光二极管的制造方法
WO2017138166A1 (ja) * 2016-02-10 2017-08-17 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク、および有機半導体素子の製造方法
JP6015874B2 (ja) * 2016-05-09 2016-10-26 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、及び蒸着マスク
CN113737128A (zh) 2017-01-31 2021-12-03 堺显示器制品株式会社 蒸镀掩模、蒸镀掩模及有机半导体元件的制造方法
JP7267762B2 (ja) 2019-02-01 2023-05-02 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク
CN113490762A (zh) 2019-03-15 2021-10-08 应用材料公司 沉积掩模、及制造和使用沉积掩模的方法
US11189516B2 (en) 2019-05-24 2021-11-30 Applied Materials, Inc. Method for mask and substrate alignment
US11538706B2 (en) 2019-05-24 2022-12-27 Applied Materials, Inc. System and method for aligning a mask with a substrate
WO2020251696A1 (en) 2019-06-10 2020-12-17 Applied Materials, Inc. Processing system for forming layers
US10916464B1 (en) 2019-07-26 2021-02-09 Applied Materials, Inc. Method of pre aligning carrier, wafer and carrier-wafer combination for throughput efficiency
JP7454934B2 (ja) 2019-11-29 2024-03-25 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク及びその製造方法
JP7445449B2 (ja) 2020-02-07 2024-03-07 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法および製造装置
JP7391719B2 (ja) 2020-03-05 2023-12-05 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクユニットの作製方法
JP2021143358A (ja) 2020-03-10 2021-09-24 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクユニットの作製方法
JP2021143365A (ja) 2020-03-11 2021-09-24 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法
JP2021161509A (ja) 2020-04-01 2021-10-11 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの作製方法
JP2022080753A (ja) * 2020-11-18 2022-05-30 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスクの製造方法
CN112376016B (zh) * 2020-11-24 2022-08-02 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 蒸镀掩膜板组件及其制作方法
JP2023163428A (ja) 2022-04-28 2023-11-10 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク
JP2024018694A (ja) 2022-07-29 2024-02-08 株式会社ジャパンディスプレイ 蒸着マスク

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09143677A (ja) * 1995-11-20 1997-06-03 Toppan Printing Co Ltd 透明導電膜の形成方法
JP2004043898A (ja) * 2002-07-12 2004-02-12 Canon Electronics Inc 蒸着用マスク、および有機エレクトロルミネセンス表示装置
JP4104964B2 (ja) * 2002-12-09 2008-06-18 日本フイルコン株式会社 パターニングされたマスク被膜と支持体からなる積層構造の薄膜パターン形成用マスク及びその製造方法
JP2008274373A (ja) * 2007-05-02 2008-11-13 Optnics Precision Co Ltd 蒸着用マスク
JP2009062565A (ja) * 2007-09-05 2009-03-26 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、電気光学装置の製造方法
US7674712B2 (en) * 2007-10-22 2010-03-09 Cok Ronald S Patterning method for light-emitting devices
JP5228586B2 (ja) * 2008-04-09 2013-07-03 株式会社Sumco 蒸着用マスク、ならびにそれを用いる蒸着パターン作製方法、半導体ウェーハ評価用試料の作製方法、半導体ウェーハの評価方法および半導体ウェーハの製造方法
JP2011195876A (ja) * 2010-03-18 2011-10-06 Sumitomo Metal Mining Co Ltd メタルマスクおよびその製造方法
JP3164800U (ja) * 2010-10-05 2010-12-16 Tdk株式会社 マスク

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