JP2013197334A - 基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置 - Google Patents
基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013197334A JP2013197334A JP2012063301A JP2012063301A JP2013197334A JP 2013197334 A JP2013197334 A JP 2013197334A JP 2012063301 A JP2012063301 A JP 2012063301A JP 2012063301 A JP2012063301 A JP 2012063301A JP 2013197334 A JP2013197334 A JP 2013197334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mark
- image
- simulation
- unit
- parameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【課題】プロセス変動によりパターン変形等による検出ノイズが大きい画像でも位置検出を高精度に行うことができるようにする。
【解決手段】試料上の位置を検知するためのアライメントマークを光学的手段で検出し、該アライメントマークの位置を求める。テンプレートとして用いる基準マークを初期マークとして予め保存しておき、この初期マークを所定のパラメータに基づいて変形させたシミュレーションマークを生成する。そして、実画像マークとミュレーションマークとを比較照合し、その結果が所定の閾値以下(相関が低い)と判断された場合には、シミュレーションマークを生成するためのパラメータを最適化する制御を行う。
【選択図】 図4
Description
本発明は、特に半導体装置や液晶表示装置などの製造工程における基板等の位置合わせに用いられる基準マークを生成するための基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置に関する。
従来、半導体装置や液晶表示装置などの製造工程においては、その露光工程や現像工程が設けられているが、これら全ての工程において、基板等の位置合わせのために、基準位置を示す基準マークを生成することが不可欠である。
例えば、基板上のパターンの位置をより精度よく検出する技術として、テンプレート画像を用意し、この用意したテンプレート画像を実画像と比較してテンプレートマッチング処理を行うものが提案されている(特許文献1参照)。この特許文献1に記載の技術は、特に、テンプレート画像と実画像のサブピクセル単位のずれを修正してテンプレート画像の更新処理を行うものである。
例えば、基板上のパターンの位置をより精度よく検出する技術として、テンプレート画像を用意し、この用意したテンプレート画像を実画像と比較してテンプレートマッチング処理を行うものが提案されている(特許文献1参照)。この特許文献1に記載の技術は、特に、テンプレート画像と実画像のサブピクセル単位のずれを修正してテンプレート画像の更新処理を行うものである。
一般に、光学式アライメントマーク検出機構においては、検出したマーク画像と基準登録マーク(テンプレートマーク)のマッチングによってマーク位置を演算する。検出画像中で背景輝度と検出マークとの輝度差が少ない場合、つまりコントラストが低い場合には、位置検出精度が低下する問題がある。また、設計データなどから作成した基準登録マークと検出したマークとの差異を見る場合でも、特にコントラストが低い場合には、位置検出精度の低下を招くという問題があった。
このような低コントラストでマークが認識しにくい画像の場合には、画像処理でコントラストを強調する処理を施すか、マークエッジを検出してマッチング処理を行うなどの方法が知られている。
しかし、低コントラスト画像では、信号対雑音比(S/N)が低下している場合が殆どであり、またエッジ状態も光学系の特性によって鈍っているため、マーク検出を適切に行い、それを処理することは決して簡単ではなかった。また、基準マークとして実際に検出したマーク画像を用いることも実施されているが、設計データによるものと比較すると、S/Nが低く、量産工程の多様性に欠けるなどの問題があった。
しかし、低コントラスト画像では、信号対雑音比(S/N)が低下している場合が殆どであり、またエッジ状態も光学系の特性によって鈍っているため、マーク検出を適切に行い、それを処理することは決して簡単ではなかった。また、基準マークとして実際に検出したマーク画像を用いることも実施されているが、設計データによるものと比較すると、S/Nが低く、量産工程の多様性に欠けるなどの問題があった。
また、半導体製造のためのリソグラフィ工程等において、被露光基板であるウェハまたはマスクなどのマークなどの位置計測に使用する基準パターン情報を、アライメントマークや回路パターンの一部などを用いて生成する方法も提案されている(特許文献2参照)。特に、特許文献2に記載される技術では、照明条件等の位置計測の計測条件の変化に対応して、アライメントマークや回路パターンの一部からなる基準パターンを、いわゆる計測条件毎に作成し、位置計測に最適な計測条件を考慮したテンプレートを作成している。
しかしながら、特許文献1に記載の技術では、実画像を基準マークとしているため、画像を取得する際に生じるノイズや、製造プロセス変動におけるアライメントマークの変形や輝度変化により基準マークが変化してしまう。そして、位置検出誤差を生じさせてしまうという問題があった。
また、特許文献2に記載の技術においても、実サンプルの製造プロセス変動によるマークの変形や輝度変化については、考慮されていないものであった。例えば、特許文献2に記載のものでは、マークの変形が生じると、一致度が低下するので、位置検出誤差が生じるという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑み、基板等のアライメントマークとして用いられる基準マークの生成に際して、製造プロセス変動によるマークの変形や輝度変化を考慮した基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の基準マーク生成装置は、予めユーザが設定する条件に基づいて、基板上の所定の箇所に描かれているアライメントマークを実画像マークとして検出する画像入力部を備える。また、テンプレートとして用いる基準マークを初期マークとして予め保存する画像保存部と、この初期マークを所定のパラメータに基づいて変形させたシミュレーションマークを生成するシミュレーションマーク生成部を備える。更に、画像入力部から取り込んだ実画像マークとシミュレーションマーク生成部で作成されたシミュレーションマークとの相関度をとって、比較照合する一致度演算部を備える。
そして、一致度演算部におけるシミュレーションマークと実画像マークとの相関度が予め設定した閾値より低いと判断されたときに、パラメータ最適化部でパラメータの最適化を行うようにする。
そして、一致度演算部におけるシミュレーションマークと実画像マークとの相関度が予め設定した閾値より低いと判断されたときに、パラメータ最適化部でパラメータの最適化を行うようにする。
本発明の基準マーク生成方法の第1の方法は、基板上の任意の設計マーク形状をアライメントマークとして光学系で検出し、該アライメントマークの位置を求める基準マーク生成方法であり、以下の工程(a)〜(e)を含む。
(a) 予めユーザが設定する条件に基づいて、試料である基板上の所定の箇所に描かれているアライメントマークを実画像マークとして検出する工程、
(b)テンプレートとして用いる基準マークを初期マークとして保存する工程、
(c) 初期マークを所定のパラメータに基づいて変形させたシミュレーションマークを生成する工程、
(d)検出した実画像マークとシミュレーションマークとの相関度をとって、比較照合する工程、
(e)この比較照合の結果、シミュレーションマークと実画像マークとの相関が所定の閾値以下であった時、パラメータを最適化する工程。
(a) 予めユーザが設定する条件に基づいて、試料である基板上の所定の箇所に描かれているアライメントマークを実画像マークとして検出する工程、
(b)テンプレートとして用いる基準マークを初期マークとして保存する工程、
(c) 初期マークを所定のパラメータに基づいて変形させたシミュレーションマークを生成する工程、
(d)検出した実画像マークとシミュレーションマークとの相関度をとって、比較照合する工程、
(e)この比較照合の結果、シミュレーションマークと実画像マークとの相関が所定の閾値以下であった時、パラメータを最適化する工程。
本発明の基準マーク生成方法の第2の方法は、基板上の任意の設計マーク形状をアライメントマークとして光学系で検出し、該アライメントマークの位置を求める基準マーク生成方法であり、以下の工程(A)〜(E)を含む。
(A) 基板上の所定の設計マーク形状を実画像マークとして検出する工程、
(B) 検出した実画像マークを初期マークとして保存する工程、
(C) 初期マークとしての設計マーク形状を所定のパラメータを用いた画像処理によって変形させて、テンプレートとして用いるシミュレーションマークを生成する工程、
(D) 光学系によって検出された実画像マークと画像処理によって変形されたシミュレーションマークを比較照合する工程、
(E)比較照合の結果、実画像マークとシミュレーションマークとの一致度が所定の閾値以下である場合には、所定のパラメータを最適化する工程。
(A) 基板上の所定の設計マーク形状を実画像マークとして検出する工程、
(B) 検出した実画像マークを初期マークとして保存する工程、
(C) 初期マークとしての設計マーク形状を所定のパラメータを用いた画像処理によって変形させて、テンプレートとして用いるシミュレーションマークを生成する工程、
(D) 光学系によって検出された実画像マークと画像処理によって変形されたシミュレーションマークを比較照合する工程、
(E)比較照合の結果、実画像マークとシミュレーションマークとの一致度が所定の閾値以下である場合には、所定のパラメータを最適化する工程。
本発明の基準マーク生成装置及び基準マーク生成方法によれば、予め最適なテンプレートパターンを生成するようにしている。このため、プロセス変動によりパターン変形を生じている場合や、パターンコントラストが低い場合のように、検出ノイズが大きいS/Nが低い画像でも、この最適なテンプレートパターンを用いて高精度に位置検出を行うことができる。また、テンプレートパターンの生成は、予め条件設定(レシピ作成)時に実施するため、量産時の処理時間を削る必要がない。そして、従来のパターンマッチング処理を変更する必要がないので、既に稼働しているシステムに対する親和性も高いという利点がある。
以下、図1〜図8を参照して、本発明の第1及び第2の実施の形態例を説明する。
図1は、本発明の第1及び第2の実施の形態例に共通に用いられる基準パターン生成装置と基準パターン生成方法を実施するためのアライメントマーク位置検出装置の構成図である。
図1は、本発明の第1及び第2の実施の形態例に共通に用いられる基準パターン生成装置と基準パターン生成方法を実施するためのアライメントマーク位置検出装置の構成図である。
[アライメントマーク位置検出装置の構成]
図1に示すように、アライメントマーク位置検出装置100(以下、簡易的に「位置検出装置」という)は、基板サンプル130上に形成されたアライメントマーク131の位置を検出する装置である。位置検出装置100は、基板サンプル130を保持して移動する試料ステージ120を備える。また、位置検出装置100には、基板サンプル130上のアライメントマーク131を検出するための光学系101と、検出した光学像を電気信号に変換する光電変換部110と、電気信号をデジタル画像に変換する画像入力部112が設けられる。なお、光学系101は、白色光源102、反射鏡103、光学フィルタ104、光源レンズ105、ハーフミラー106,絞り107、対物レンズ108及び結像レンズ109から構成されている。光電変換部110は、例えばCCDカメラなどで構成される。
図1に示すように、アライメントマーク位置検出装置100(以下、簡易的に「位置検出装置」という)は、基板サンプル130上に形成されたアライメントマーク131の位置を検出する装置である。位置検出装置100は、基板サンプル130を保持して移動する試料ステージ120を備える。また、位置検出装置100には、基板サンプル130上のアライメントマーク131を検出するための光学系101と、検出した光学像を電気信号に変換する光電変換部110と、電気信号をデジタル画像に変換する画像入力部112が設けられる。なお、光学系101は、白色光源102、反射鏡103、光学フィルタ104、光源レンズ105、ハーフミラー106,絞り107、対物レンズ108及び結像レンズ109から構成されている。光電変換部110は、例えばCCDカメラなどで構成される。
位置検出装置100は、光電変換部110から入力されるアライメントマークを予め保存されている基準マークと照合する画像処理部114と、テンプレートとなる基準マークを実画像として予め保存する画像保存部115を備える。また、位置検出装置100は、画像及び設定画面を作業者に表示する画像表示部116、作業者がデータ及び設定値を入力する作業者入力部117、及び画像処理部114において照合に使うための基準マークを生成する基準マーク生成部118を備えている。
更に、位置検出装置100は、試料ステージ120の移動を制御するステージ制御部119と、光学系101を制御する光学系制御部111と、位置検出装置100の全体の制御を司る装置制御部113を備える。
[アライメントマーク位置検出装置の動作説明]
以上のように構成された位置検出装置100におけるアライメントマークの検出は、以下のような手順で行われる。
まず、光学系101において、白色光源102から照射された白色光は反射鏡103で反射された後、光学フィルタ104を介して光源レンズ105で集光される。
以上のように構成された位置検出装置100におけるアライメントマークの検出は、以下のような手順で行われる。
まず、光学系101において、白色光源102から照射された白色光は反射鏡103で反射された後、光学フィルタ104を介して光源レンズ105で集光される。
そして、集光された光がハーフミラー106で照明方向(照射方向)に曲げられ、対物レンズ108を通って基板サンプル130に照射される。基板サンプル130からの反射光(検出光)は、対物レンズ108を経由して、絞り107に入射し、この絞り107で、視野領域が制限される。絞り107で視野領域が制限された検出光は、ハーフミラー106を通過して、結像レンズ109で結像され、光電変換部(CCDカメラ)110に送られる。そして、光電変換部110で電気信号に変換され、画像入力部112でデジタル画像に変換されて画像処理部114に供給される。
ここで、光学系101の光学フィルタ104と絞り107は、基板サンプル130とアライメントマーク131の形状や反射率に応じて、アライメントマーク131のコントラストが最も高くなるように、光学系制御部111によって調整される。光学フィルタ104は、例えば、レボルバ変更式の波長制限フィルタとすることにより、照明波長を変更することができる。レボルバ変更式というのは、複数種類の波長制限フィルタを回転させて切り替える方式のことである。また、光学フィルタ104は、波長制限するいわゆる干渉フィルタの他に、照明の偏光方向を可変する偏光フィルタを用いることもできる。
次に、図2を参照して、本例のアライメントマークの検出手順を更に詳しく説明する。図2(A)は、検出対象パターンの断面構造を示し、図2(B)はその上面図を示す。図2(C)は、光学系101及び光電変換部110を用いて検出した場合のアライメントマーク131の位置211(図2(B)参照)における輝度プロファイル220を示したものである。なお、ここでは絞り207は全開放としている。
図2から分かるように、ベース基板203上に矩形形状パターン202が形成され、その上部をカバー層201が覆っている。図2(B)はこれを上側から見た上面図(210)である。この上面図は、材質201の上部から基板203の上面201bを透過してみた図であり、矩形形状パターン202の上面202bとその枠部分202aが観察されている。以降、この矩形形状パターン202をアライメントマーク202と呼ぶことにする。
ここで、カバー層201の上面201b、及びアライメントマーク202等の反射率あるいは透過率は、通常照明光の波長によって変化する。このような場合には、光学フィルタ104によって照明光の波長を変えることにより、位置211における輝度プロファイルを変化させることができる。すなわち、光学フィルタ104を変えることにより、図2(C)に示すように輝度プロファイルを変えることができる。これは、照明光が光の波動性のために、カバー層201表面で反射する成分とカバー層内を通過して基板上面201bにて反射して膜外に出て行く成分、あるいはパターン上面202bにて反射して膜外に出て行く成分とが互いに干渉して、膜厚と波長に依存して弱め合ったり、強め合ったりするためである。例えば、カバー層201の厚さに応じて照明光の波長を適当に変えることによって、輝度プロファイルは、221から222へ,更に222から223に変化する。
図2(C)に示すように、照明光の輝度プロファイルが221となるように光学フィルタ104を選定することが望ましい。
例えば、図1の光学系101において、絞り107を、全開放とすればレンズの開口数(NA)が最大となるため、アライメントマークの輪郭がはっきりした、明るく解像度の高いパターン像となる。逆に、絞り107を絞ると解像度は低下する(輪郭がぼける)が、被写界深度が深くなるため、基板サンプル130のZ方向の高さ変動に対して変化の少ないパターン像が得られる。
図3は、光学フィルタ104を調整して輝度プロファイル221を得た場合に、更に絞り107を調整した例を示す。図3に示すように、絞り107を変えて断面構造200に示すようなアライメントマークを検出した場合の輝度プロファイルは絞りの開口度によって変化する。すなわち、輝度プロファイル300は絞り107が全開の場合、輝度プロファイル301は絞り107が中程度の開口度である場合、輝度プロファイル303は絞り107の開口度が301よりも少ない状態を示している。通常、アライメントマーク202を検出する際には、パターンコントラストの高い輝度プロファイル300が選択されるが、Z方向の被写界深度を高く取りたい場合などには、パターンコントラストに拘わらず輝度プロファイル303を用いる場合もある。
一般に、解像度(R)と焦点深度(D)は、対物レンズに入射する光線の光軸に対する最大角度θによって決まる開口数(NA=sinθ)と波長λによって、式(1)、(2)のように定式化される。
解像度(R) : R=0.61λ/NA・・・・・・(1)
焦点深度(D): D=±0.5λ/NA2・・・・・(2)
解像度(R) : R=0.61λ/NA・・・・・・(1)
焦点深度(D): D=±0.5λ/NA2・・・・・(2)
式(1)に示すように、絞り107を絞って開口数NAが小さくなるほど、解像度(R)は大きくなり(粗くなり)、輪郭がぼけた画像になる。したがって、絞り107を絞るほど、図3に示すように、輝度プロファイルは、300→301→303と変化し、エッジ部がなだらかになる。図3の上面図(300a、300b、300c)はアライメントマーク202を上面から見た図であり、この図からも絞り107の変化に応じてマークエッジが変化していることが分かる。つまり、解像度(R)の変化とマークエッジの状態変化とは高い相関を持っていることが分かる。
このように絞り107の設定により、検出画像のエッジ状態が異なり、例えば、Z方向(高さ方向)の被写界深度を高く取りたい場合などには、輝度プロファイル303が用いられる。
例えば、Z方向(基板サンプル130に垂直な方向)に異なる位置にある複数のアライメントマークを一度に見たい場合には、被写界深度の深い光学系を使うことが必要になる。つまり、絞り107を絞って、像をぼかして撮影することが必要になる。つまり、結果として式(1)の開口NAが小さくなるため、解像度Rは大きくなる(粗くなる)。
例えば、Z方向(基板サンプル130に垂直な方向)に異なる位置にある複数のアライメントマークを一度に見たい場合には、被写界深度の深い光学系を使うことが必要になる。つまり、絞り107を絞って、像をぼかして撮影することが必要になる。つまり、結果として式(1)の開口NAが小さくなるため、解像度Rは大きくなる(粗くなる)。
[基準マーク生成装置の概要]
図4は、本実施形態例の基準マーク生成装置を具体的に実現するための機能ブロック図であり、図5はその動作説明のためのフローチャートとマーク画像を示す。図1で説明した基準マーク生成部118は、設計パターン画像生成部400、エッジ情報パラメータ設定部401、光学シミュレーション部402及びパラメータ最適化部404を備える。
なお、この設計パターン画像生成部400、エッジ情報パラメータ設定部401及び光学シミュレーション部402を合わせてシミュレーションマーク生成部と呼ぶこととする。
図4は、本実施形態例の基準マーク生成装置を具体的に実現するための機能ブロック図であり、図5はその動作説明のためのフローチャートとマーク画像を示す。図1で説明した基準マーク生成部118は、設計パターン画像生成部400、エッジ情報パラメータ設定部401、光学シミュレーション部402及びパラメータ最適化部404を備える。
なお、この設計パターン画像生成部400、エッジ情報パラメータ設定部401及び光学シミュレーション部402を合わせてシミュレーションマーク生成部と呼ぶこととする。
ここで、エッジ情報パラメータ設定部401で用いられるパラメータの種類としては、背景輝度、パターン輝度、エッジ強度、エッジプロファイルなどが考えられる。
エッジ強度とは、例えば図2の四角形で表される上面202bの輪郭部分202bの輝度変化をいう。つまり、図2(C)において3種類の輝度プロファイル221,222、223が示されているが、輝度プロファイル221はエッジ強度が高く、輝度プロファイル223はエッジ強度が低いということができる。ここでいうエッジプロファイルとは図2(C)、図3に示す輝度プロファイルのパターンエッジ部の輝度変化である。
エッジ強度とは、例えば図2の四角形で表される上面202bの輪郭部分202bの輝度変化をいう。つまり、図2(C)において3種類の輝度プロファイル221,222、223が示されているが、輝度プロファイル221はエッジ強度が高く、輝度プロファイル223はエッジ強度が低いということができる。ここでいうエッジプロファイルとは図2(C)、図3に示す輝度プロファイルのパターンエッジ部の輝度変化である。
設計パターン画像生成部400は、例えば、エッジ情報パラメータ設定部401から供給される上述したパラメータに関する情報(例えば、エッジ強度情報など)に基づいて、CADデータ等の設計データからテンプレートマークとなるマーク画像を生成する。このテンプレートマークは、最適化処理が行われる前の初期マーク画像であり、必ずしも実際のマーク(実画像マーク)と一致していなくてもよい。しかし、初期マーク(テンプレートマーク)と実画像マークとの一致度が高ければ高いほど、最適化への収束が早くなることは言うまでもない。
図4の光学シミュレーション部402は、設計パターン画像生成部400において所定のパラメータに基づいて生成されたマーク画像(初期マーク画像)に対して光学シミュレーションを行う。この光学シミュレーションでは、図7で後述する光学的条件パラメータとしての絞り107の開口度NAや照明光の波長を変えることにより、シミュレーションマーク画像を作成する。つまり、設計パターン画像生成部400で作成されたマーク画像(初期マーク画像)を、実際の光学系で検出した画像に近い輝度プロファイルを持つマーク画像(シミュレーションマーク画像)に変形する。なお、シミュレーションマーク画像とは、本来このようなパターンの画像になるであろうと思われるマーク画像に変形して近づけた画像である。そして、光学シミュレーション部402は、このシミュレーションマーク画像を画像処理部114の一致度演算部403に供給する。
画像処理部114の一致度演算部403は、光学シミュレーション部402で生成されたシミュレーションマーク画像と、図1の画像保存部115に予め登録されているテンプレートマークを比較し、その一致度を演算する。この一致度演算のためのアルゴリズムとしては、様々なアルゴリズムが知られているが、ここでは、比較的よく使われるアルゴリズムである正規化相関アルゴリズム(NCC:Normalized Cross- Correlation)を用いて説明する。
正規化相関においては、2枚の画像を構成するすべての画素を比較し、その平均と分散を計算する。そして、2枚の画像の対応する画素の分散同士及び平均同士を加算して、全画素の相関度を求める。この相関度が所定の閾値(例えば75%)以上であれば、相関度が高く、所定の閾値以下であれば相関度が低いということになる。
一致度演算部403では、このような相関度を求める演算が行われ、この演算の結果、相関度が低い、つまり所定の閾値以下の場合には、この演算結果が基準マーク生成部118のパラメータ最適化部404に送られる。パラメータ最適化部404は、これを受けてエッジ情報パラメータ設定部401にパラメータを変更するための信号を送る。
そして、エッジ情報パラメータ設定部401で変更されたパラメータが、設計パターン画像生成部400に送られて、より本来の実画像パターンに近づいた新たな設定パターンが得られる。これが設計パターンの最適化である。
そして、エッジ情報パラメータ設定部401で変更されたパラメータが、設計パターン画像生成部400に送られて、より本来の実画像パターンに近づいた新たな設定パターンが得られる。これが設計パターンの最適化である。
ここで、上述した例では、光学系101で検出した特定の1枚の実画像マークについて、保存されているテンプレートマーク(アライメントマーク)との一致度演算を行っている。しかし、複数枚の実画像マークを画像保存部115に保存しておき、これらの実画像マークとテンプレートマークの一致度演算を行うことで、複数枚の基板の実画像マーク全てについて、一致度が所定の閾値を超えるようにパラメータを設定してもよい。
図5は、本発明の実施形態例の基準マーク生成方法を実現するためのフローチャートであり、量産時のアライメントマークの検出及びその位置の算出に先立って行う処理を示している。
まず、設計パターン画像生成部400において、例えばCADデータ等の設計データあるいは実画像マークを参考にして、テンプレートマークとして用いる初期マーク400aを生成する(ステップS400)。なお、この段階での初期マーク400aの生成では、エッジの状態を正確に生成する必要はない。
まず、設計パターン画像生成部400において、例えばCADデータ等の設計データあるいは実画像マークを参考にして、テンプレートマークとして用いる初期マーク400aを生成する(ステップS400)。なお、この段階での初期マーク400aの生成では、エッジの状態を正確に生成する必要はない。
次に、エッジ情報パラメータ設定部401において、マークの輝度コントラスト、エッジ強度、エッジプロファイルなどからパラメータを選定して、初期マーク400aに変形を生じさせた変形マーク画像401aを生成する(ステップS401)。この変形の度合いはパラメータ最適化部404で決定される。
次に、既にユーザが入力し決定している光学的条件(図7で後述)に基づいて、光学シミュレーション部402により、変形マーク画像401aからシミュレーションマーク画像402aを生成する(ステップS402)。その後、一致度演算部403において、ステップS402で生成したシミュレーションマーク画像402aと、光学系101で読み込み画像保存部115に保存されている実画像マーク403aとの一致度を比較する(ステップS403)。この一致度演算は、上述した正規化相関法により行われる。なお、一致度演算を行う手法(アルゴリズム)としては、正規化相関法アルゴリズム以外にも、幾何学マッチング法や位相限定相関法等の周知のアルゴリズムを代用して用いることも可能である。
次に、一致度演算部403において、正規化相関を行った結果、2つのマーク画像の相関度が所望の閾値(75%)以上になった場合には、その時点でのシミュレーションマーク画像402aを基準マークとして出力する(ステップS405)。そして、このシミュレーションマークを新たなテンプレートマーク(次の照合の初期マーク)として画像保存部115に登録する。
この相関度の閾値(例えば75%)についても、図7で後述するように、ユーザが作業者入力部117より予め入力する値である。ステップS405において、2つの画像の相関度が所望の閾値未満である場合には、パラメータ最適化部404で、それ以前のシミュレーションマークを設定した際のパラメータを変更して、新しいパラメータを設定する(ステップS404)。
そして、この設定した新しいパラメータに基づいて、エッジ情報パラメータ設定部401において、エッジ情報パラメータを変更し、設計パターン画像生成部400で変形マーク画像401aを生成する。なお、パラメータ最適化部404では、例えば一致度を評価関数とした遺伝的アルゴリズム(GA:Genetic Algorithm)によりパラメータ変更を行うようにしてもよい。遺伝的アルゴリズムについては、当該技術分野でよく用いられる技術なのでここでは説明を省略する。
ここでエッジ情報パラメータ設定部401及び光学シミュレーション部402におけるシミュレーションマークの生成方法について、再び図2に戻って説明する。アライメントマーク202の設計データが分かっている場合には、ベース基板203上のカバー層201及びマーク上面202bなどの反射率、及びマークエッジに相当する枠部分202aの幅等から断面構造200の上面202bが設定される。この際、プロセス変動パラメータとして、マーク上面202bの大きさ及び輝度値、枠部分202aの幅及び輝度値、そして基板203の上面201bの輝度値が定義される。そして、最後にこれらのプロセス変動パラメータを変更することにより、プロセス変動に対応した変形マークを、シミュレーションマークとして生成することができる。また、予め設計されたアライメントマークの特性として通常、左右上下の対称性を有することから、プロセス変動パラメータにおいても同様な対称性の制限を加えることとしても良い。
<第2の実施形態例の説明>
図6、図7は、プリント基板上の特定の箇所の実画像をアライメントマークとして取り込んで利用する手順とそれに対応して変化するアライメントマークを示したものである。
図6は、図5とは別のアライメントマークを生成する第2の実施形態例の流れを説明するためのフローチャートであり、例えば、アライメントマークとして、配線などの設計パターンの一部を用いる場合を示している。図7に示すような複雑なパターンをアライメントマークとして用いる場合には、設計データを基にプロセス変動パラメータを設定することは極めて煩雑である。
図6、図7は、プリント基板上の特定の箇所の実画像をアライメントマークとして取り込んで利用する手順とそれに対応して変化するアライメントマークを示したものである。
図6は、図5とは別のアライメントマークを生成する第2の実施形態例の流れを説明するためのフローチャートであり、例えば、アライメントマークとして、配線などの設計パターンの一部を用いる場合を示している。図7に示すような複雑なパターンをアライメントマークとして用いる場合には、設計データを基にプロセス変動パラメータを設定することは極めて煩雑である。
図6に示す初期マーク検出工程(ステップS601)では、図7に示すように、初期マーク600を実画像あるいは設計データなどから画像データとして描画する。ここで、初期マーク600上の配線パターン601のコーナーエッジ603をマーク基準点と定義する。次に画像のエッジ検出工程(ステップS604)で、初期マーク600のエッジ部分の画像(エッジ画像)604を得る。そして、エッジ変形画像作成工程(ステップS605)で、画像のエッジ部605aのエッジ幅及び輝度を強調したエッジ変形画像605を得る。このエッジ変形画像605を作成するに際しても、エッジ幅及びエッジ輝度が一種のプロセス変動パラメータとなる。
一方、ステップS601で得られる初期マーク600は、2値化工程(ステップS606)で2値化されて、2値画像606となる。この2値画像606は、パターン領域607bの他に、非パターン領域607aを有している。そして、輝度変化画像作成工程(ステップS607)において、この非パターン領域607aの輝度をプロセス変動パラメータとして定義し、輝度変化画像607を得る。最後にステップS605で得られたエッジ変形画像605とステップS607で得られた輝度変化画像607が合成されて、合成変化画像608が得られる。
図6、図7の例では2種類の画像処理パラメータ(エッジ輝度と非パターン領域の輝度)をプロセス変動パラメータとして輝度変化画像を作成した。このように、いくつかの画像処理パラメータをプロセス変動パラメータとすることで、変形マーク画像を生成することができる。
その後、図4に示す光学シミュレーション部402によってシミュレーションマーク画像が生成され、一致度演算部403でシミュレーションマーク画像と実画像とのマッチング処理が行われる。この実画像とのマッチング処理では、実画像に対応する変形画像が分かっているので、光学的なボケを生じる前のパターンで、マーク基準点を正確に知ることができる。
その後、図4に示す光学シミュレーション部402によってシミュレーションマーク画像が生成され、一致度演算部403でシミュレーションマーク画像と実画像とのマッチング処理が行われる。この実画像とのマッチング処理では、実画像に対応する変形画像が分かっているので、光学的なボケを生じる前のパターンで、マーク基準点を正確に知ることができる。
なお、図4に示す光学シミュレーション部402では、例えば結像光学系を簡略化したFFT−逆FFTシミュレーションを行うようにしてもよい。つまり、変形画像パターンを2次元FFT変換して、FFT変換後のデータの一部を、絞り形状にマスクする。そして、マスクした画像を逆FFTによって元の画像に復元することで、絞り開度とパターンエッジのボケ度合いをシミュレーションすることができる。
また、図4の一致度演算部403では、シミュレーションマーク画像402aと1枚の実画像マーク403aとの一致度演算だけではなく、プロセス変動による影響を考慮して、複数の実画像マークとの総合的な一致度の演算を行うようにしてもよい。その場合、複数の実画像マークに対して平均的に一致度が高くなる基準マークを採用してもよい。但し、少なくとも一致度が閾値以上となるような基準マークを採用する必要がある。ここで、プロセス変動による影響とは、具体的には、パターン製造装置によって、図2のパターンエッジ部202aの傾斜角度がばらついたり、膜塗布装置によってカバー層201の膜厚が変化することによって、前述した照明光の干渉の影響で輝度プロファイルが変化したりすることである。
図8は、本例の基準マーク生成方法に用いられるユーザーインターフェイス(操作画面)の例を示したものである。試料上のアライメントマークの検出画像を表示する表示エリア700を操作画面上に設け、この操作画面上にアライメントマーク701を表示する。アライメントマーク701を含むエリア702は、実アライメント画像とされ、画像データとして保存される。そして、このユーザーインターフェイス画像を用いて、作業者入力部117(図1参照)から、基準マーク最適化のための条件パラメータ703、光学系条件パラメータ704及びサンプル条件パラメータ705等がユーザによって入力される。
基準マーク最適化条件パラメータ703としては、反復回数(例えば10000回)、終了しきい値(例えば75%)、及び評価アルゴリズム(例えば、正規化相互相関アルゴリズム(NCC))等がユーザによって入力される。ここで、反復回数が10000回というのは、図5に示したパラメータ最適化を一致度判定がOKに成らずとも最大10000回繰り返したら停止する条件である。これは無限ループを防止するためである。反復回数以下で最適化が完了しない場合には、他の条件を変えて再度最適化を実行する必要がある。終了しきい値75%とは、比較する2つのマークの画像の一致度が75%以上とすることを意味する。
また、光学的条件パラメータ704としては、絞り(開口度)の大きさ(例えば、50%)、光源の波長(例えば、白色光、緑光等)が入力される。更に、サンプル条件パラメータ705として、アライメントマークの線幅、エッジ強度、パターン反射率、バック反射率などが用いられる。ここでは、アライメントマークの線幅を10μm、エッジ強度50%、パターン反射率20%、バック反射率50%をユーザが入力した例が示されている。エッジ強度50%とは、例えば図2の四角形の枠部分202aの傾斜が50%、つまり直線の傾きが1/2であることを示している。
このように、ユーザが図7に示すように、各種のパラメータを入力することで、図5のフローチャートで示すような処理が行われ、基準マーク画像の最適化がなされ、最適基準マーク706が表示される。
このように、ユーザが図7に示すように、各種のパラメータを入力することで、図5のフローチャートで示すような処理が行われ、基準マーク画像の最適化がなされ、最適基準マーク706が表示される。
このようにして、プロセス変動や光学系に対応した最適な基準マークの生成が行われる。実際に試料上のマーク位置を検出する際に、この生成した基準マークを用いることにより、高精度な位置検出が可能となる。
本発明の基準マーク生成装置及び基準マーク生成方法によれば、低コントラストの基準マークを用いても、アライメントマークを安定して高精度に位置検出することができる。また、予め基準登録マーク(テンプレート)を最適化することにより、量産工程での多様性にも対応可能である。
更に、本発明では、CADデータ等の設計データから得た初期マーク(テンプレートマーク)を使うため、ノイズの影響を考慮する必要がない。更に、光学シミュレーションを適用したシミュレーションマーク画像を得て、これを実画像と比較している。このため、類似度が最大となるようにマークコントラストやエッジ強度を最適化することができる。
更に、本発明では、CADデータ等の設計データから得た初期マーク(テンプレートマーク)を使うため、ノイズの影響を考慮する必要がない。更に、光学シミュレーションを適用したシミュレーションマーク画像を得て、これを実画像と比較している。このため、類似度が最大となるようにマークコントラストやエッジ強度を最適化することができる。
以上、本発明の実施の形態例について図面に基づいて説明したが、本発明の基準マーク生成装置及び基準マーク生成方法は、上述の実施形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変形例及び応用例を含むものである。
100・・・アライメントマーク位置検出装置、130・・・基板、131・・・アライメントマーク、101・・・光学系、102・・・光源、103・・・反射鏡、104・・・光学フィルタ、106・・・ハーフミラー、107・・・絞り、110・・・光電変換部(カメラ)、111・・・光学系制御部、112・・・画像入力部、113・・・装置制御部、114・・・画像処理部、115・・・画像保存部、116・・・画像表示部、117・・・作業者入力部、118・・・基準マーク生成部、119・・・ステージ制御部、120・・・試料ステージ、200・・・パターンの断面構造、210・・・パターンの上面図、220、300、301、303・・・輝度プロファイル、400・・・設計パターン画像生成部、401・・・エッジ情報パラメータ設定部、402・・・光学シミュレーション部、403・・・一致度演算部、404・・・パラメータ最適化部、601・・・配線パターン、603・・・コーナーエッジ、604・・・エッジ画像、605・・・エッジ変形画像、606・・・2値画像、607・・・輝度変化画像、608・・・合成変化画像、700・・・表示エリア、701・・・アライメントマーク、703・・・基準マーク最適化のための条件パラメータ、704・・・光学系条件パラメータ、705・・・サンプル条件パラメータ、706・・・最適マーク
Claims (10)
- 予めユーザが設定する条件に基づいて、基板上の所定の箇所に描かれているアライメントマークを実画像マークとして検出する画像入力部と、
テンプレートとして用いる基準マークを初期マークとして予め保存する画像保存部と、
前記初期マークを所定のパラメータに基づいて変形させたシミュレーションマークを生成するシミュレーションマーク生成部と、
前記画像入力部から取り込んだ実画像マークと前記シミュレーションマーク生成部で作成された前記シミュレーションマークとの相関度をとって、比較照合する一致度演算部と、
前記一致度演算部における前記シミュレーションマークと前記実画像マークとの相関度が予め設定した閾値より低いと判断されたときに、前記パラメータの最適化を行うパラメータ最適化部と、
を備えることを特徴とする基準マーク生成装置。 - 前記シミュレーションマーク生成部は、
前記画像保存部に予めテンプレートとして保存されている前記初期マークを変形させるための所定のパラメータを生成するエッジ情報パラメータ設定部と、
前記エッジ情報パラメータ設定部からのパラメータに基づいて前記初期マークを変形させる設計パターン画像生成部と、
前記パターン画像生成部において変形された初期マークに対して、光学的条件を考慮して更に変形を加えたシミュレーションマークを生成する光学シミュレーション部と、
を含む、請求項1に記載の基準マーク生成装置。 - 前記パラメータの変更は、前記パラメータ最適化部からの信号を前記エッジ情報パラメータ設定部に供給することによって行う、請求項2に記載の基準マーク生成装置。
- 前記エッジ情報パラメータ設定部からのパラメータは、前記実画像マークの背景輝度、パターン輝度、エッジ強度あるいはエッジプロファイルのいずれか又は複数の組み合わせである、請求項2または3に記載の基準マーク生成装置。
- 前記光学的条件は、照明光学系の波長及び/又は絞りの開口値である、請求項2に記載の基準マーク生成装置。
- 試料である基板上の位置を検知するために、基板上の任意の設計マーク形状をアライメントマークとして光学系で検出し、該アライメントマークの位置を求める基準マーク生成方法において、
予めユーザが設定する条件に基づいて、試料である基板上の所定の箇所に描かれているアライメントマークを実画像マークとして検出する工程と、
テンプレートとして用いる基準マークを初期マークとして保存する工程と、
前記初期マークを所定のパラメータに基づいて変形させたシミュレーションマークを生成する工程と、
検出した前記実画像マークと前記シミュレーションマークとの相関度をとって、比較照合する工程と、
前記比較照合の結果、前記シミュレーションマークと前記実画像マークとの相関が所定の閾値以下であった時、前記所定のパラメータを最適化する工程と、 を含む、基準マーク生成方法。 - 前記シミュレーションマークを生成する工程は、
前記テンプレートとして用いる初期マークをエッジ情報パラメータに基づいて変形させた変形マークを生成する工程と、
前記変形マークに対して、光学的条件を考慮して更に変形したシミュレーションマークを生成する工程と、
を含む請求項6に記載の基準マーク生成方法。 - 試料である基板上の位置を検知するために、基板上の任意の設計マーク形状をアライメントマークとして光学系で検出し、該アライメントマークの位置を求める基準マーク生成方法において、
前記基板上の設計マーク形状を実画像マークとして検出する工程と、
検出した前記実画像マークを初期マークとして保存する工程と、
前記初期マークとしての設計マーク形状を所定のパラメータを用いた画像処理によって変形させて、テンプレートとして用いるシミュレーションマークを生成する工程と、
光学系によって検出された前記実画像マークと前記画像処理によって変形された前記シミュレーションマークを比較照合する工程と、
前記比較照合の結果、前記実画像マークと前記シミュレーションマークとの一致度が所定の閾値以下である場合には、前記所定のパラメータを変更する最適化処理を行う工程と、
を含む基準マーク生成方法。 - 前記所定のパラメータは、前記実画像マークのエッジ情報または輝度情報である、請求項8に記載の基準マーク生成方法。
- 前記設計マーク形状を画像処理によって変形させる工程は、
前記設計マーク形状のエッジ情報を検出してエッジ変形画像を作成する工程と、
前記設計マーク形状を2値化して輝度変化画像を作成する工程と、
前記エッジ変形画像と前記輝度変化画像を合成して合成変化画像を作成する工程と、
を含む請求項8又は9に記載の基準マーク生成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012063301A JP2013197334A (ja) | 2012-03-21 | 2012-03-21 | 基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012063301A JP2013197334A (ja) | 2012-03-21 | 2012-03-21 | 基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013197334A true JP2013197334A (ja) | 2013-09-30 |
Family
ID=49395915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012063301A Pending JP2013197334A (ja) | 2012-03-21 | 2012-03-21 | 基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013197334A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017139377A (ja) * | 2016-02-04 | 2017-08-10 | キヤノン株式会社 | 検出装置、検出方法、リソグラフィ装置および物品の製造方法 |
KR101801549B1 (ko) * | 2016-08-10 | 2017-11-28 | 디아이티 주식회사 | 라인 선택장치 및 선택방법과, 이를 이용한 시스템 |
JP2018530773A (ja) * | 2015-08-27 | 2018-10-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
WO2019005542A1 (en) * | 2017-06-26 | 2019-01-03 | Applied Materials, Inc. | IMAGE ENHANCEMENT FOR MIXING INCOHERENT LIGHTING |
JP2019179275A (ja) * | 2017-08-30 | 2019-10-17 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、決定方法、プログラム、情報処理装置及び物品の製造方法 |
CN112859331A (zh) * | 2021-02-26 | 2021-05-28 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 多畴垂直取向液晶显示面板的模拟方法 |
CN112985276A (zh) * | 2019-12-13 | 2021-06-18 | 万润科技精机(昆山)有限公司 | 电路板的厚度量测方法及厚度量测系统 |
CN113048905A (zh) * | 2019-12-27 | 2021-06-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 对准标记图像制作方法、对准标记测量方法及测量装置 |
JP2021117237A (ja) * | 2020-01-22 | 2021-08-10 | ウシオ電機株式会社 | アライメントマーク検出装置およびアライメントマーク検出方法 |
CN115132882A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-09-30 | 晶科能源(海宁)有限公司 | 提升抓点精度的方法 |
CN117974910A (zh) * | 2024-03-29 | 2024-05-03 | 南京航空航天大学苏州研究院 | 图像仿真、伪随机缺陷数据集生成及微纳缺陷检测方法 |
-
2012
- 2012-03-21 JP JP2012063301A patent/JP2013197334A/ja active Pending
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018530773A (ja) * | 2015-08-27 | 2018-10-18 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
JP2017139377A (ja) * | 2016-02-04 | 2017-08-10 | キヤノン株式会社 | 検出装置、検出方法、リソグラフィ装置および物品の製造方法 |
KR101801549B1 (ko) * | 2016-08-10 | 2017-11-28 | 디아이티 주식회사 | 라인 선택장치 및 선택방법과, 이를 이용한 시스템 |
WO2019005542A1 (en) * | 2017-06-26 | 2019-01-03 | Applied Materials, Inc. | IMAGE ENHANCEMENT FOR MIXING INCOHERENT LIGHTING |
US10429744B2 (en) | 2017-06-26 | 2019-10-01 | Applied Materials, Inc. | Image improvement for alignment through incoherent illumination blending |
JP2019179275A (ja) * | 2017-08-30 | 2019-10-17 | キヤノン株式会社 | パターン形成装置、決定方法、プログラム、情報処理装置及び物品の製造方法 |
CN112985276B (zh) * | 2019-12-13 | 2023-03-10 | 万润科技精机(昆山)有限公司 | 电路板的厚度量测方法及厚度量测系统 |
CN112985276A (zh) * | 2019-12-13 | 2021-06-18 | 万润科技精机(昆山)有限公司 | 电路板的厚度量测方法及厚度量测系统 |
CN113048905A (zh) * | 2019-12-27 | 2021-06-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 对准标记图像制作方法、对准标记测量方法及测量装置 |
JP2021117237A (ja) * | 2020-01-22 | 2021-08-10 | ウシオ電機株式会社 | アライメントマーク検出装置およびアライメントマーク検出方法 |
JP7310617B2 (ja) | 2020-01-22 | 2023-07-19 | ウシオ電機株式会社 | アライメントマーク検出装置およびアライメントマーク検出方法 |
CN112859331A (zh) * | 2021-02-26 | 2021-05-28 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 多畴垂直取向液晶显示面板的模拟方法 |
CN112859331B (zh) * | 2021-02-26 | 2023-04-07 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 多畴垂直取向液晶显示面板的模拟方法 |
CN115132882A (zh) * | 2022-07-20 | 2022-09-30 | 晶科能源(海宁)有限公司 | 提升抓点精度的方法 |
CN115132882B (zh) * | 2022-07-20 | 2023-08-25 | 晶科能源(海宁)有限公司 | 提升抓点精度的方法 |
CN117974910A (zh) * | 2024-03-29 | 2024-05-03 | 南京航空航天大学苏州研究院 | 图像仿真、伪随机缺陷数据集生成及微纳缺陷检测方法 |
CN117974910B (zh) * | 2024-03-29 | 2024-06-18 | 南京航空航天大学苏州研究院 | 图像仿真、伪随机缺陷数据集生成及微纳缺陷检测方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013197334A (ja) | 基準マーク生成方法及び基準マーク生成装置 | |
JP5921990B2 (ja) | 欠陥検出方法 | |
JP5923824B2 (ja) | 画像処理装置 | |
US10600667B2 (en) | Systems and methods for wafer alignment | |
JP5948138B2 (ja) | 欠陥解析支援装置、欠陥解析支援装置で実行されるプログラム、および欠陥解析システム | |
JP6608658B2 (ja) | 反射抑制を伴う画像撮影装置および方法 | |
JP3739550B2 (ja) | ウェハの測定位置決定方法 | |
JP5775949B2 (ja) | パターンマッチング用テンプレートの作成方法、及び画像処理装置 | |
KR20190094425A (ko) | 이미지 분석을 위한 장치 및 방법 | |
KR20140101420A (ko) | 패턴 평가 방법 및 패턴 평가 장치 | |
JPWO2005008753A1 (ja) | テンプレート作成方法とその装置、パターン検出方法、位置検出方法とその装置、露光方法とその装置、デバイス製造方法及びテンプレート作成プログラム | |
JP2006066478A (ja) | パターンマッチング装置及びそれを用いた走査型電子顕微鏡 | |
EP2463618A1 (en) | Surface profile inspection device | |
JP2010139693A (ja) | レーザリペア装置、レーザリペア方法、および情報処理装置 | |
JP4067677B2 (ja) | 走査電子顕微鏡の自動検出シーケンスファイル作成方法及び走査電子顕微鏡の自動測長シーケンス方法 | |
TWI809043B (zh) | 用於光學成像系統中之自動聚焦之範圍區別器 | |
JP2016541028A (ja) | 3d顕微鏡の較正 | |
CN112289726B (zh) | 晶圆对准模板图像生成方法 | |
JP2014035196A (ja) | 形状計測装置 | |
JP5508734B2 (ja) | パターン描画装置およびパターン描画方法 | |
JP5685665B1 (ja) | 画像認識装置 | |
US20230408932A1 (en) | Deep learning based adaptive alignment precision metrology for digital overlay | |
JP4532640B2 (ja) | 位置検出装置及びそれを用いた露光装置 | |
EP3070432B1 (en) | Measurement apparatus | |
JP2021173915A (ja) | 情報処理装置、及び情報処理方法 |