JP2013179373A5 - 積層型半導体装置、積層型半導体装置の製造方法および半導体基板 - Google Patents
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- 積層された複数の半導体チップを備える積層型半導体装置であって、
前記複数の半導体チップは、回路領域と、前記回路領域の素子と電気的に接続された複数の第1のバンプと、前記回路領域の素子に電気的に接続されない複数の第2のバンプと、
をそれぞれ有し、
重なり合う前記複数の半導体チップ間で対向する前記複数の第1のバンプ同士、および、重なり合う前記複数の半導体チップ間で対向する前記複数の第2のバンプ同士が接合され、
前記複数の第2のバンプは、前記回路領域の外側に配置され、
前記複数の第2のバンプの間隔は、前記複数の半導体チップの接合後に充填材が注入可能となる大きさに設定され、
前記複数の半導体チップ間には、前記複数の半導体チップの接合後に注入された前記充填材が充填される積層型半導体装置。 - 前記複数の半導体チップは、複数のTSV(Through Si Via)と、前記複数の半導体チップ上に設けられたメタルパターンとを有し、
前記複数の第1のバンプは、前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数の第2のバンプは、前記複数のTSVの先端と、前記メタルパターン上とに形成され、
前記複数の半導体チップのうち最外の半導体チップの少なくとも一面に接合されたヒートスプレッタを備え、
前記最外の半導体チップの前記複数の第1のバンプは前記ヒートスプレッタに接触せず、前記複数の第2のバンプが前記ヒートスプレッタに接合される請求項1に記載の積層型半導体装置。 - 前記複数の半導体チップは、複数のTSV(Through Si Via)と、前記複数の半導体チップ上に設けられたメタルパターンとを有し、
前記複数の第1のバンプは、前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数の第2のバンプの何れかは前記メタルパターン上に形成され、他は前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数の半導体チップのうち最外の半導体チップの少なくとも一面に接合されたヒートスプレッタを備え、
前記最外の半導体チップの前記複数の第1のバンプは前記ヒートスプレッタに接触せず、前記複数の第2のバンプが前記ヒートスプレッタに接合される請求項1に記載の積層型半導体装置。 - 前記複数の半導体チップは、複数のTSV(Through Si Via)と、前記複数の半導体チップ上に設けられたメタルパターンとを有し、
前記複数の第1のバンプは、前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数のTSVの上に前記メタルパターンが形成され、前記メタルパターン上に前記複数の第2のバンプが形成され、
前記複数の半導体チップのうち最外の半導体チップの少なくとも一面に接合されたヒートスプレッタを備え、
前記最外の半導体チップの前記複数の第1のバンプは前記ヒートスプレッタに接触せず、前記複数の第2のバンプが前記ヒートスプレッタに接合される請求項1に記載の積層型半導体装置。 - 前記メタルパターンは、前記複数の半導体チップの一つの外周部に接するパターンである請求項2から4の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記メタルパターンは、前記複数の半導体チップの一つの外周部から離間したパターンである請求項2から4の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記回路領域の発熱分布において、発熱の大きい領域に隣接する前記メタルパターンの幅は、発熱の小さい領域に隣接する前記メタルパターンの幅よりも大きい請求項2から6の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の半導体チップの一つは、前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとを有し、前記複数の第2のバンプの単位面積あたりの密度は、前記複数の第1のバンプの単位面積あたりの密度より大きい請求項1から7の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプはそれぞれ同一の材質である請求項1から8の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプはそれぞれ同一の大きさである請求項1から9の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の第1のバンプの直径と前記複数の第2のバンプの直径は同一である請求項1から10の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第1のバンプの接合面の高さは、前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第2のバンプの接合面の高さと同一である請求項1から11の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第1のバンプの接合面の高さは、前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第2のバンプの接合面の高さよりも高い請求項1から11の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとは、同一工程により形成される請求項1から13の何れか1項に記載の積層型半導体装置。
- 回路領域を有する半導体チップに、前記回路領域の素子と電気的に接続された複数の第1のバンプと、前記回路領域の素子とは電気的に接続されない複数の第2のバンプとを形成するバンプ形成ステップと、
前記バンプ形成ステップを経た複数の前記半導体チップを積み重ね、対向する複数の第1のバンプ同士、および対向する複数の第2のバンプ同士を接合する積層ステップと、
積層した半導体チップ間に充填材を注入する充填材注入ステップと
を備え、
前記バンプ形成ステップでは、
前記複数の第2のバンプを、前記回路領域の外側に配置し、前記複数の第2のバンプの間隔は、接合後に前記充填材が注入可能となる大きさに設定し、
する積層型半導体装置の製造方法。 - 前記半導体チップに、複数のTSV(Through Si Via)を形成するTSV形成ステップと、
前記半導体チップ上に、メタルパターンを形成するメタルパターン形成ステップと、
積層した半導体チップの最外面の少なくとも一面にヒートスプレッタを接合するヒートスプレッタ接合ステップを更に備え、
前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプを前記TSVの先端に形成し、前記複数の第2のバンプを前記TSVの先端と前記メタルパターン上とに形成し、
前記ヒートスプレッタ接合ステップにおいて、前記最外面の前記複数の第1のバンプを前記ヒートスプレッタに接触させず、前記複数の第2のバンプを前記ヒートスプレッタに接合する請求項15に記載の積層型半導体装置の製造方法。 - 前記半導体チップに、複数のTSV(Through Si Via)を形成するTSV形成ステップと、
前記半導体チップ上に、メタルパターンを形成するメタルパターン形成ステップと、
積層した半導体チップの最外面の少なくとも一面にヒートスプレッタを接合するヒートスプレッタ接合ステップを更に備え、
前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプを前記TSVの先端に形成し、前記複数の第2のバンプの何れかを前記メタルパターン上に形成し、他を前記複数のTSVの先端に形成し、
前記ヒートスプレッタ接合ステップにおいて、前記最外面の前記複数の第1のバンプを前記ヒートスプレッタに接触させず、前記複数の第2のバンプを前記ヒートスプレッタに接合する請求項15に記載の積層型半導体装置の製造方法。 - 前記半導体チップに、複数のTSV(Through Si Via)を形成するTSV形成ステップと、
前記半導体チップ上に、メタルパターンを形成するメタルパターン形成ステップと、
積層した半導体チップの最外面の少なくとも一面にヒートスプレッタを接合するヒートスプレッタ接合ステップを更に備え、
前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプを前記TSVの先端に形成し、前記複数のTSVの上に前記メタルパターンを形成し、前記メタルパターン上に前記複数の第2のバンプを形成し、
前記ヒートスプレッタ接合ステップにおいて、前記最外面の前記複数の第1のバンプを前記ヒートスプレッタに接触させず、前記複数の第2のバンプを前記ヒートスプレッタに接合する請求項15に記載の積層型半導体装置の製造方法。 - 前記メタルパターン形成ステップにより形成する前記メタルパターンは、前記回路領域を閉じて囲むパターンである請求項16から18のいずれか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記メタルパターン形成ステップにより形成する前記メタルパターンは、前記半導体チップの外周部に接するパターンである請求項16から19の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記メタルパターン形成ステップにより形成する前記メタルパターンは、前記半導体チップの外周部に接しないパターンである請求項16から19の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとを形成し、
前記バンプ形成ステップにより形成する前記複数の第2のバンプの単位面積あたりの密度は、前記複数の第1のバンプの単位面積あたりの密度より大きい請求項15から21の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。 - 前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとをそれぞれ同一の材質で形成する請求項15から22の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとをそれぞれ同一の大きさで形成する請求項15から23の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプの直径と前記複数の第2のバンプの直径が同一になるように形成する請求項15から24の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記バンプ形成ステップでは、前記半導体チップの表面からの前記複数の第1のバンプの接合面の高さが、前記半導体チップの表面からの前記複数の第2のバンプの接合面の高さと同一になるように形成する請求項15から25の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記バンプ形成ステップでは、前記半導体チップの表面からの前記複数の第1のバンプの接合面の高さが、前記半導体チップの表面からの前記複数の第2のバンプの接合面の高さよりも高くなるように形成する請求項15から25の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記バンプ形成ステップでは、前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとを同一工程で形成する請求項15から27の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記積層ステップは、前記バンプ形成ステップを経た前記半導体チップが2次元的に複数配置された半導体基板を、積み重ねて接合する請求項15から28の何れか1項に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 前記積層ステップは、2次元的に複数配置される半導体チップの境界に設けられた指標をアライメントマークとして位置合わせを行い、複数の半導体基板を積み重ねる請求項29に記載の積層型半導体装置の製造方法。
- 回路領域と、
前記回路領域の素子と電気的に接続された複数の第1のバンプと、
前記回路領域の素子に電気的に接続されない複数の第2のバンプと、
をそれぞれ有する半導体基板であって、
前記半導体基板は、複数の半導体チップを含み、
他の半導体基板と積層されるときに、前記複数の第1のバンプは、前記他の半導体基板に設けられた、前記他の半導体基板の前記回路領域の素子と電気的に接続された前記複数の第1のバンプと接合され、前記複数の第2のバンプは、前記他の半導体基板に設けられた、前記他の半導体基板の前記回路領域の素子と電気的に接続されない前記複数の第2のバンプと接合され、
前記複数の第2のバンプは、前記回路領域の外側に配置され、
前記複数の第2のバンプの間隔は、前記複数の半導体チップの接合後に充填材が注入可能となる大きさに設定され、
積層された前記複数の半導体チップ間には、前記複数の半導体チップの接合後に注入された前記充填材が充填される半導体基板。 - 前記半導体基板は、複数のTSV(Through Si Via)と、
メタルパターンと、を有し
前記複数の第1のバンプは、前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数の第2のバンプは、前記複数のTSVの先端と前記メタルパターン上とに形成され、
積層された前記複数の半導体チップのうち最外の半導体チップの少なくとも一面に接合されたヒートスプレッタを備え、
前記最外の半導体チップの前記複数の第1のバンプは、前記ヒートスプレッタに接触せず、前記複数の第2のバンプが前記ヒートスプレッタに接合される請求項31に記載の半導体基板。 - 前記半導体基板は、複数のTSV(Through Si Via)と、
メタルパターンと、を有し
前記複数の第1のバンプは、前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数の第2のバンプの何れかは前記メタルパターン上に形成され、他は前記複数のTSVの先端に形成され、
積層された前記複数の半導体チップのうち最外の半導体チップの少なくとも一面に接合されたヒートスプレッタを備え、
前記最外の半導体チップの前記複数の第1のバンプは、前記ヒートスプレッタに接触せず、前記複数の第2のバンプが前記ヒートスプレッタに接合される請求項31に記載の半導体基板。 - 前記半導体基板は、複数のTSV(Through Si Via)と、
メタルパターンと、を有し
前記複数の第1のバンプは、前記複数のTSVの先端に形成され、
前記複数のTSVの上に前記メタルパターンが形成され、前記メタルパターン上に前記複数の第2のバンプが形成され、
積層された前記複数の半導体チップのうち最外の半導体チップの少なくとも一面に接合されたヒートスプレッタを備え、
前記最外の半導体チップの前記複数の第1のバンプは、前記ヒートスプレッタに接触せず、前記複数の第2のバンプが前記ヒートスプレッタに接合される請求項31に記載の半導体基板。 - 前記メタルパターンは、前記回路領域を閉じて囲むパターンである請求項32から34のいずれか1項に記載の半導体基板。
- 前記メタルパターンは、前記複数の半導体チップの一つの外周部に接するパターンである請求項32から35の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記メタルパターンは、前記複数の半導体チップの一つの外周部から離間したパターンである請求項32から35の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記回路領域の発熱分布において、発熱の大きい領域に隣接する前記メタルパターンの幅は、発熱の小さい領域に隣接する前記メタルパターンの幅よりも大きい請求項32から37の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記複数の半導体チップの一つは、前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとを有し、前記複数の第2のバンプの単位面積あたりの密度は、前記複数の第1のバンプの単位面積あたりの密度より大きい請求項31から38の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプはそれぞれ同一の材質である請求項31から39の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記複数の第1のバンプの直径と前記複数の第2のバンプの直径は同一である請求項31から40の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第1のバンプの接合面の高さは、前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第2のバンプの接合面の高さと同一である請求項31から41の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第1のバンプの接合面の高さは、前記複数の半導体チップの一つの表面からの前記複数の第2のバンプの接合面の高さよりも高い請求項31から41の何れか1項に記載の半導体基板。
- 前記複数の第1のバンプと前記複数の第2のバンプとは、同一工程により形成される請求項31から43の何れか1項に記載の半導体基板。
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