JP2013177224A - 粉体供給装置 - Google Patents

Abstract

【課題】安息角の小さい粉体の安定的な定量供給を可能とする粉体供給装置を提供する。
【解決手段】粉体を貯留するホッパー１と、ホッパー１の下方に水平方向に延設され、出口部３に向けて紛体の搬送通路ＰＡを形成するトラフ２と、紛体がトラフ２上を出口部３に向かって移動するように、トラフ２を加振する加振装置４と、搬送通路ＰＡの途中に設けられ、紛体の搬送方向に直交する軸線Ｌ２を中心に回転する円筒形状の回転ゲート５と、回転ゲート５の周面とトラフ２の上面２ａとの間に所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２をあけて、回転ゲート５を回転可能に支持する支持部５０とを備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、紛体搬送用のトラフを備える紛体供給装置に関する。

従来より、ホッパーの下方にトラフを配置し、ホッパーからトラフに落下した紛体を、トラフを加振することによりトラフ端部の出口部に向けて搬送し、出口部を介して質量検出器に供給するようにした紛体供給装置が知られている（例えば特許文献１参照）。

特許文献１記載の装置では、浅底の矩形状容器であるトラフの途中に上下方向に移動可能なゲート板を設け、ゲート板の下方を通過する粉体の量を規制することで、トラフの出口から定量の粉体を供給する。

特開２００１−２１５１４７号公報

ところで、粉体の流動性は、一般に安息角によって表される。安息角とは、粉体を自然落下させて粉体の山を形成したときに、崩れることなく安定を保つ山の斜面の角度であり、流動性のよい粉体ほど安息角は小さい。例えば、ろう付け部に塗布されるフラックスは、粒の表面に微細形状の不規則な突起があるために堆積しやすく、安息角は大きい。

このような安息角の大きい粉体を、上記特許文献１記載の装置により搬送する場合、次のような問題がある。すなわち、上記特許文献１記載の装置は、搬送通路の途中にゲート板が介在するため、ゲート板によって粉体の流れが堰き止められ、粉体の山が生じやすい。その結果、ゲート板とトラフとの間の隙間を粉体が安定的に通過することができず、粉体の定量供給が困難となる。

本発明は、上記問題に鑑み、安息角の大きい粉体であっても、安定的に定量供給することができる粉体供給装置を提供するものである。

上記課題を解決するために、本発明による粉体供給装置（１００）は、粉体を貯留するホッパー（１）と、ホッパー（１）の下方に水平方向に延設され、出口部（３）に向けて紛体の搬送通路（ＰＡ）を形成するトラフ（２）と、紛体がトラフ（２）上を出口部（３）に向かって移動するように、トラフ（２）を加振する加振装置（４）と、搬送通路（ＰＡ）の途中に設けられ、紛体の搬送方向に直交する軸線（Ｌ２）を中心に回転する円筒形状の回転ゲート（５）と、回転ゲート（５）を回転可能に支持する支持部（５０）と、を備える。支持部（５０）は、回転ゲート（５）の周面とトラフ（２）の上面（２ａ）との間に所定量（ΔＳ２）の隙間（ＳＰ２）をあけて回転ゲート（５）を支持する。

これにより、回転ゲート前に搬送される粉体の山が回転ゲートによって崩される。このため、回転ゲートの上流側で粉体が滞留することを防止でき、安息角が大きい粉体であっても、回転ゲートの隙間を介して粉体を安定的に定量供給することができる。

なお、上記に付した符号は、後述する実施形態に記載の具体的実施態様との対応関係を示す一例である。

本発明の実施形態に係る粉体供給装置の全体構成を示す側面図である。 本発明の実施形態に係る粉体供給装置の全体構成を示す平面図である。 図２のIII-III線断面図である。 安息角を説明する図である。 図１の要部拡大図である。 回転ゲートによる効果を説明する図である。 図２の要部拡大図である。 図１の噴射部の構成を示す図である。 図８のエゼクターの内部構成を示す図である。 図８の噴射ノズルの内部構成を示す図である。 図１０の噴射ノズルの配置を示す図である。

以下、図１〜図１１を参照して、本発明の粉体供給装置の一実施形態について説明する。図１は、本発明の実施形態に係る粉体供給装置１００の全体構成を示す側面図であり、図２は平面図、図３は、図２のIII-III線断面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図示のように互いに直行する三方向をそれぞれ前後方向（長さ方向）、左右方向（幅方向）および上下方向（高さ方向）と定義し、この定義に従い各部の構成を説明する。前後方向および左右方向は水平面上に存在し、このうち前方は、粉体が搬送される方向である。上下方向のうち下方は、重力が作用する方向である。

本実施形態に係る粉体供給装置１００は、種々の紛体を供給することができるが、以下ではとくに、フラックスを例にして説明する。フラックスは、例えばラジエータやコンデンサ等の車両用熱交換器の表面のろう付け部（アルミろう付け）に塗布される。フラックスは、一般の樹脂材とは異なり、粒の表面に微細形状の不規則な突起があり、粒子径のばらつきも大きい。このため、流動性に劣り、安息角θ１が大きい。安息角θ１とは、図４に示すように、ロートなどから紛体を自然落下させ、紛体の山を形成したときに、崩れることなく安定を保つ、水平面と山の斜面とのなす角度（山の仰角）である。一般の樹脂材は、安息角θ１が例えば２０°〜４５°程度であるのに対し、フラックスは、粒子同士の結び付きが強いため、安息角θ１が例えば５０°〜６０°程度である。

図１，２に示すように、粉体供給装置１００は、粉体ＧＲ（フラックス）を貯留するホッパー１と、ホッパー１の下方に前後方向に延設され、粉体ＧＲの搬送通路ＰＡを形成するトラフ２と、紛体ＧＲが搬送通路ＰＡの出口部３に向かってトラフ２上を移動するようにトラフ２を加振する加振装置４と、搬送通路ＰＡの途中に、搬送通路ＰＡの上面から所定量の間隔をあけて設けられ、紛体ＧＲの搬送量を規制する回転ゲート５および固定ゲート６と、出口部３に搬送された粉体ＧＲを対象物（熱交換器）に向けて噴射する噴射部７（図８参照）とを備える。

ホッパー１は、下端部に開口部１０を有し、開口部１０にかけて内部の断面積が徐々に小さくなったロート形状を呈する。開口部１０には開閉可能なシャッタ１１が設けられ、ホッパー１内の粉体はシャッタ１１を介してトラフ２上に落下する。ホッパー１の前方かつ左右方向中央部には、粉体確認センサ１２がその検出部を下方に向けて配置されている。

粉体確認センサ１２は、粉体ＧＲがセンサの検出部に所定距離まで近づいたことを検出する非接触型の近接センサであり、粉体確認センサ１２のオンオフに応じてシャッタ１１が開閉される。すなわち、粉体確認センサ１２がオンすると、シャッタ１１は閉鎖し、ホッパー１からトラフ２への粉体ＧＲの落下を阻止する。粉体確認センサ１２がオフすると、シャッタ１１は開放し、ホッパー１からトラフ２への粉体ＧＲの落下を許容する。これによりトラフ２上に粉体ＧＲが過不足なく堆積される。なお、粉体確認センサ１２のオフ時間が所定時間より長いときは、ホッパー１内の粉体が不足していると判定し、警報を発生するようにしてもよい。

図２，３に示すように、トラフ２は、左右側端部に側壁２０を有する平面視矩形状の浅底の容器であり、左右一対の支持フレーム２１の間に配置されている。トラフ２の下方にはベースフレーム２２が配置されている。ベースフレーム２２は、例えば床面に固定的に支持され、トラフ２は、ベースフレーム２２上に、ばね２３および加振装置４を介して前後方向に揺動可能に弾性支持されている。支持フレーム２１は、ベースフレーム２２上に立設された縦フレーム２１ａと、縦フレーム２１ａの上面に前後方向に延設された横フレーム２１ｂとを有する。

図１に示すように、加振装置４は、トラフ２の下方に配置され、ベースフレーム２２に弾性的に支持されている。加振装置４は、例えば振動発生源であるボイスコイルモータと、ボイスコイルモータの駆動によって前後方向に振動する振動体とを有する。振動体は、トラフ２の下端部に連結され、振動体の振動によりトラフ２が前後方向に振動する。ボイスコイルモータは不図示の制御装置により制御され、トラフ２の前方移動時の加速度と後方移動時の加速度とに差を生じさせることにより、粉体ＧＲはトラフ２上を相対移動して、前方の出口部３に向けて搬送される。

固定ゲート６はホッパー１の前方に配置され、この固定ゲート６の前方に回転ゲート５が配置されている。図５は、図１の要部拡大図である。図中の曲線Ｌ１は、トラフ２上に堆積した粉体ＧＲの上面を示しており、この曲線Ｌ１の下方領域ＡＲに粉体ＧＲが存在する。なお、以下では、領域ＡＲのうち、固定ゲート６より後方を第１領域ＡＲ１、固定ゲート６と回転ゲート５の間を第２領域ＡＲ２、回転ゲート５の前方を第３領域ＡＲ３と呼ぶ。

図２，５に示すように、固定ゲート６は、搬送通路ＰＡの幅方向全域にわたって延在する矩形状の板部材である。固定ゲート６は、左右一対の支持フレーム２１にそれぞれ立設されたスタンド６０、およびスタンド６０に固定されたブラケット６１を介して鉛直姿勢で支持されている。固定ゲート６とトラフ２の上面２ａとの間には、所定量ΔＳ１の隙間ＳＰ１が形成されている。隙間ＳＰ１の大きさΔＳ１は、粉体確認センサ１２による粉体ＧＲの検出高さよりも小さく、第１領域ＡＲ１における粉体ＧＲの高さはΔＳ１よりも高い。隙間ＳＰ１は、ブラケット取付用のナット６２を緩めてブラケット６１の上下方向の取り付け位置を調整することで、変更可能である。固定ゲート６を設けることで、第２領域ＡＲ２における粉体ＧＲの高さがΔＳ１に制限される。

図３，５に示すように、回転ゲート５は、左右方向の軸線Ｌ２を中心に回転可能な円筒形状の回転体である。回転ゲート５は、搬送通路ＰＡの幅方向全域にわたって延在し、その周面には全域にわたって凹凸部５ａが形成されている。凹凸部５ａは、例えば回転ゲート５の表面をローレット加工することにより形成される。回転ゲート５は、その周面とトラフ２の上面２ａとの間に所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２をあけて、支持部５０により回転可能に支持されている。隙間ＳＰ２の大きさΔＳ２は、固定ゲート６の隙間ＳＰ１の大きさΔＳ１よりも小さく、例えばΔＳ１の半分以下である。回転ゲート５を設けることで、第３領域ＡＲ３における粉体ＧＲの高さがΔＳ２に制限される。

支持部５０は、回転ゲート５の回転軸５ｂの左右両端部を回転可能に支持する左右一対の軸受け５１と、軸受け５１を内蔵する左右一対のレバー５２とを有する。図２，５に示すように、各レバー５２の前端部は、支持フレーム２１の上面に設けられた支持ブロック５３に、ピン部５４を支点にして上下方向に回動可能に支持されている。

図３，５に示すように、左側のレバー５２の後端部左側面には、複数本（図では４本）のロッド５５が取り付けられ、ロッド５５の左端部にモータ６５が固定されている。回転ゲート５の回転軸５ｂの左端部は、継手６７を介してモータ６５の出力軸６６に連結されている。モータ６５は例えば電動モータであり、一定回転数で回転する。このモータ６５の回転により回転ゲート５が左側面視で時計方向（図５のＲ１方向）に所定回転数で回転し、回転ゲート５の周面がその後方に堆積した粉体ＧＲの山に衝突して、粉体ＧＲの山が崩される。これにより、回転ゲート５の下方を通過して第２領域ＡＲ２から第３領域ＡＲ３に、スムーズに粉体ＧＲを導くことができる。

すなわち、安息角θ１が大きい粉体ＧＲ（フラックス）は堆積しやすいため、図６（ａ）に示すように、隙間ＳＰ２が小さい単なる固定ゲート５０１とすると、ゲートの上流側で粉体ＧＲの流れが堰き止められる（斜線部）。その結果、粉体ＧＲに滞留が生じ、粉体ＧＲがスムーズに隙間ＳＰ２を通過することが困難となる。この点、本実施の形態では、図６（ｂ）に示すように回転ゲート５により粉体ＧＲの山（点線）が崩されるため、安息角θ１が大きい粉体ＧＲであっても、粉体ＧＲは滞留することなく、スムーズに隙間ＳＰ２を通過することができる。なお、固定ゲート６のようにゲートの隙間が大きければ、安息角θ１が小さい粉体ＧＲであってもスムーズな流れが可能である。本実施形態の固定ゲート６の隙間ＳＰ１は、このスムーズな流れを妨げないような大きさΔＳ１に設定されている。

図２，５に示すように、回転ゲート５の前方には、スクレーパ５６が配置されている。スクレーパ５６は、回転ゲート５の周面から微小の隙間をあけて、あるいは周面に接するように左右方向に延在するスクレーパ本体５６ａと、スクレーパ本体５６ａの左右両端部から後方に延びるスクレーパ支持部５６ｂとを有し、平面視コ字形状を呈する。スクレーパ支持部５６ｂは、レバー５２に固定され、回転ゲート５はスクレーパ５６に対し相対回転する。これにより回転ゲート５の回転に伴い、回転ゲート５の周面に付着した粉体ＧＲがスクレーパ５６により削ぎ落とされ、回転ゲート５の周面から粉体ＧＲが除去される。したがって、回転ゲート５とトラフ２の上面２ａとの間に、常に所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２を確保することができる。

図３，５に示すように、左右の支持フレーム２１（横フレーム２１ｂ）には、軸線Ｌ２と同一位置ないしほぼ同一位置に、それぞれ下方から調整ねじ５７が取り付けられている。調整ねじ５７は横フレーム２１を貫通し、その上端部はレバー５３の下端面に当接している。調整ねじ５７をねじ込むと、レバー５２はピン部５４を支点に上方に回動する。これによりレバー５２を介して回転ゲート５が上方に移動し、回転ゲート５とトラフ２の上面２ａとの間の隙間ＳＰ２を増加することができる。一方、調整ねじ５７を緩めると、レバー５２はピン部５４を支点に下方に回動する。これによりレバー５２を介して回転ゲート５が下方に移動し、隙間ＳＰ２を減少することができる。

図７は、回転ゲート５の後方におけるトラフ２の構成を示す平面図（図２の要部拡大図）である。図７に示すように、トラフ２の上面２ａには、左右の側壁２０の間に、側壁２０と平行に複数（図では７枚）の仕切り板２５が互いに左右方向等間隔に立設されている。この仕切り板２５により、搬送通路ＰＡは複数の通路（ＰＡ１〜ＰＡ８）に分割（８分割）されている。仕切り板２５の前端部（入口）の間隔は変更可能であり、搬送通路ＰＡ１〜ＰＡ８の供給量は入口の間隔を変更することによって増減できる。すなわち、粉体ＧＲの搬送量に、振動体とトラフ２の特性に応じた幅方向のばらつきがある場合に、仕切り板２５の間隔を調整することで、回転ゲート５を通過した粉体ＧＲが、各通路ＰＡ１〜ＰＡ８に均等に分配される。なお、搬送量のばらつきを無視できる場合、搬送通路ＰＡ１〜ＰＡ８の通路面積を互いに等しく設定してもよい。

隣り合う仕切り板２５および側壁２０の間にはそれぞれ終端壁２６（２６１〜２６８）が立設され、終端壁２６１〜２６８により仕切り板２５の後端部が支持されるとともに、各通路ＰＡ１〜ＰＡ８の後端が規定されている。各仕切り板２５の前端部には、トラフ上面２ａの粉体ＧＲの移動を妨げないように仕切り板２５の上端部をボルト２７が貫通している。ボルト２７の左右両端部は、ナット２８を介して左右の側壁２０に固定されている。各仕切り板２５は、ナット２８を介してボルト２７に固定され、これにより仕切り板２５の前端部が位置調整可能に支持されている。

各終端壁２６１〜２６８の前方には、トラフ２を上下方向に貫通する円形の貫通孔が設けられ、この貫通孔により、各通路ＰＡ１〜ＰＡ８に対応した出口部３（３１〜３８）が構成されている。終端壁２６１〜２６８は、互い違いに前後方向に位置をずらして配置され、終端壁２６１，２６３，２６５，２６７は終端壁２６２，２６４，２６６，２６８よりも前方に位置する。したがって、出口部３１，３３，３５，３７も出口部３２，３４，３６，３８よりも前方に位置する。これにより出口部３１〜３８が密集して配置されることを防止でき、出口部３１〜３８の下方に効率よく部品（後述のエゼクターなど）を配置できる。

図８は、噴射部７の構成を示す図である。なお、噴射部７は、搬送通路ＰＡ１〜ＰＡ８に対応して複数設けられているが、図８では単一の噴射部７の構成を示す。図８に示すように、噴射部７は、出口部３から鉛直下方に延在するパイプ７１と、パイプ７１の下端部に接続され、パイプ７１を介して供給された粉体ＧＲを霧化するエゼクター７２と、一端部がエゼクター７２に接続された導管７３と、導管７３の他端部に接続され、エゼクター７２で霧化された粉体を対象物Ｗに向けて噴射する噴射ノズル７４とを有する。

パイプ７１は、出口部３に連通してトラフ２から鉛直下方に突設された出口パイプ７１ａと、出口パイプ７１ａの下端部に連結された第１連結パイプ７１ｂと、第１連結パイプ７１ｂの下端部に連結された第２連結パイプ７１ｃとを有する。出口パイプ７１ａは、トラフ２と一体に振動するのに対し、連結パイプ７１ｂ，７１ｃは、エゼクター７２を介してベースフレーム２２から支持されており、トラフ２と一体には振動しない。本実施形態では、出口パイプ７１ａと第１連結パイプ７１ｂとの接続部（図８のａ部）における粉体の漏れを防ぐため、Ｖリング７５が設けられ、Ｖリング７５により接続部がシールされている。トラフ２上の粉体ＧＲは、出口部３から落下し、パイプ７１内を通過する。パイプ７１を鉛直下方に設けたことで、パイプ７１内における粉体ＧＲの詰まりを防止できる。

図９は、エゼクター７２の内部構成を示す断面図である。図９に示すように、エゼクター７２の上端部はプレート７２０に固定され、エゼクター７２は、プレート７２０を介してベースプレート２２（図８）に支持されている。エゼクター７２は、第２連結パイプ７１ｃに連通して鉛直下方に延在する第１通路７２１と、第１通路７２１の途中の交差部７２３において第１通路７２１に所定角度θ２で交差する第２通路７２２とを有する。第２通路７２２は、その先端の開口部７２４が斜め下方を向くように形成されている。開口部７２４には導管７３が接続され、開口部７２４を介して導管７３に粉体ＧＲが導かれる。

第２通路７２２の延長線上の上方には、交差部７２３に向けてエアを噴射するノズル７２５が介装されている。第１通路７２１を通過して落下した粉体ＧＲは、ノズル７２５から噴射したエアによって霧化され、導管７３に導かれる。第１通路７２１と第２通路７２２の交差角θ２が大きすぎると、交差部７２３における粉体ＧＲが堆積し、粉体ＧＲを十分に霧化することが困難である。一方、交差角θ２が小さすぎると、交差部７２３において粉体ＧＲが滑落し、粉体ＧＲの霧化が妨げられるおそれがある。本実施形態では、この点を考慮して交差角θ２を設定している。交差角θ２は、０°より大きく９０°より小さい角度、好ましくは３０°〜６０°、最も好ましくは４０°〜５０°（例えば４５°）である。

図１０は、噴射ノズル７４の内部構成を示す断面図である。図１０に示すように、噴射ノズル７４の上端部はプレート７４０に固定され、噴射ノズル７４は、プレート７４０を介して対象物Ｗに対し所定位置に配置されている。噴射ノズル７４の内部には、鉛直下方に向けて断面積が一定ないしほぼ一定の通路７４１が形成され、噴射ノズル７４の下端部にノズル部７４２が設けられている。ノズル部７４２は、通路７４１よりも断面積の大きなひさし部７４３を有し、ひさし部７４３から下端の開口部７４４に向けて断面積が徐々に減少している。ひさし部７４３を設けたことにより、図１０の矢印に示すように、ノズル部７４２の内壁面に反射した粉体がひさし部７４３で再度反射し、開口部７４４から流出する。これによりノズル部７４２の圧力損失を低減できる。

図１１は、噴射ノズル７４の配置を示す対象物Ｗ（熱交換器）の平面図である。図１１に示すように、対象物Ｗの上方には、搬送通路ＰＡ１〜ＰＡ８に対応した複数（８個）の噴射ノズル７４が左右方向等間隔に配列されている。噴射ノズル全体の噴射領域は、対象物Ｗ全体の幅よりも大きく、これにより対象物Ｗの表面全体に均一にフラックスを塗布することができる。噴射ノズル７４はプレート７４０（図１０）に固定されているのに対し、対象物Ｗは、ベルトコンベア等の搬送装置７５上に載置され、搬送装置７５により矢印Ａ方向に搬送される。これにより噴射ノズル７４に対し対象物Ｗが相対移動し、対象物Ｗの表面に自動的にフラックスを塗布することができる。なお、対象物Ｗに対して噴射ノズル７４を移動可能に設け、噴射ノズル７４を移動させてフラックスを塗布するように構成することもできる。対象物Ｗの端部Ｗ１がノズル位置を通過した時点で折り返し、対象物Ｗを投入部に戻すようにしてもよい。これにより対象物Ｗの投入および取出しを、同一位置で一人で行うことができる。

本実施形態に係る粉体供給装置１００の主要な動作を説明する。図１において、粉体確認センサ１２がオフすると、シャッタ１１が開放し、ホッパー１内に貯留された粉体ＧＲ（フラックス）がトラフ２上に落下する。粉体確認センサ１２がオンすると、シャッタ１１が閉鎖し、ホッパー１からの粉体ＧＲの供給が停止する。粉体確認センサ１２による検出高さは固定ゲート６の隙間ＳＰ１よりも高く設定されている。このため、第１領域ＡＲ１における粉体ＧＲの山の高さは、固定ゲート６の高さΔＳ１よりも高い。

トラフ２は加振装置４により加振され、トラフ２が前後方向に振動することで粉体ＧＲが前方に搬送される。固定ゲート６の隙間ＳＰ１は、安息角θ１が大きい粉体ＧＲであっても、その粉体ＧＲの滞留が生じないように大きめの値ΔＳ１に設定されている。このため、粉体ＧＲは、その搬送量が固定ゲート６で制限されながら、第１領域ＡＲ１から第２領域ＡＲ２へとスムーズに搬送される。このとき、単位時間当たりの固定ゲート６を通過する粉体ＧＲの量は一定であり、固定ゲート６を通過する際、粉体ＧＲは左右方向に広がる。第２領域ＡＲ２では、粉体ＧＲの高さは固定ゲート６の設定高さΔＳ１に等しくなり、粉体ＧＲは通路幅方向に均一に分布する。

粉体ＧＲが回転ゲート５に到達すると、回転ゲート５により粉体ＧＲの山が崩される。とくに回転ゲート５の表面には凹凸部５ａが設けられているため、粉体ＧＲの山を確実に崩すことができる。これにより、回転ゲート５の下方の隙間ＳＰ２が小さい場合であっても、粉体ＧＲに滞留が生じることはなく、粉体ＧＲは、その搬送量が回転ゲート５で制限されながら、スムーズに隙間ＳＰ２を通過することができる。回転ゲート５の表面に粉体ＧＲが付着した場合には、スクレーパ５６によりその付着物が除去される。このため、回転ゲート５の下方に常に所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２を形成することができ、粉体ＧＲの安定的な定量供給が可能となる。

粉体供給装置１００による粉体ＧＲの供給量は、第３領域ＡＲ３の粉体ＧＲの搬送量によって決定される。第３領域ＡＲ３の粉体ＧＲの搬送量は、回転ゲート５の高さ、すなわち隙間ＳＰ２の大きさΔＳ２に応じて変化する。この搬送量を変更するときは、レバー５２を支持する調整ねじ５７のねじ込み量を調整する。これによりピン部５４を支点にレバー５２が回動し、回転ゲート５の高さを容易に変更することができる。なお、加振装置４を制御してトラフ２の振動パターンを変更することによっても、搬送量を変更することができる。

回転ゲート５の後方の搬送通路ＰＡは仕切り板２５（図７）によって仕切られており、粉体ＧＲは複数の搬送通路ＰＡ１〜ＰＡ８に分配される。第３領域ＡＲ３では、粉体ＧＲは例えば幅方向不均一分布しており、搬送通路ＰＡ１〜ＰＡ８の通路面積を変化させることで、粉体ＧＲは各通路ＰＡ１〜ＰＡ８に均等に分配される。各通路ＰＡ１〜ＰＡ８に沿って搬送された粉体は、出口部３１〜３８から落下し、図８に示すようにパイプ７１内を通ってエゼクター７２に供給される。パイプ７１は鉛直下方に延在しているため、粉体ＧＲがパイプ７１の内壁に付着して滞留することを防止でき、粉体ＧＲを安定的にエゼクター７２に供給できる。

エゼクター７２に供給された粉体は、図９の第１通路７２１、第２通路７２２を通り、導管７３に導かれる。このとき、第１通路７２１と第２通路７２２の交差部７２３においてノズル７２４からエアが噴射され、第１通路７２１内を落下した粉体ＧＲが霧化されて第２通路７２２を流れる。通路７２１，７２２の交差角θ２は４０°〜５０°の範囲（例えば４５°）に設定しているため、粉体ＧＲは、第２通路７２２の内壁に堆積および滑落することなく、粉体ＧＲを良好に霧化することができる。

エゼクター７２によって霧化された粉体ＧＲは、導管７３を経由して噴射ノズル７４（図１０）に導かれ、噴射ノズル７４から対象物Ｗに向けて噴射される。噴射ノズル７４の先端のノズル部７４２は先細形状であり、ノズル部７４２の内壁に粉体ＧＲの一部が反射するが、その反射した粉体ＧＲは、ひさし部７４３で再度反射して開口部７４４から流出する。このため、ノズル部７４２における圧力損失を低減できる。図１１に示すように各噴射ノズル７４は対象物Ｗに向かって等間隔に配置されているため、幅広の対象物Ｗの表面に、一度に均等に粉体ＧＲ（フラックス）を塗布することができる。このため、作業効率が向上する。なお、対象物Ｗの移動方法によっては、対象物Ｗの投入および取り出しを一人で行うこともできる。

本実施形態によれば以下のような作用効果を奏することができる。
（１）トラフ２上の搬送通路ＰＡの途中に、トラフ２の上面２ａから所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２をあけて回転ゲート５を設けるようにした。これにより隙間ＳＰ２の上流側で粉体ＧＲが滞留することを防止でき、安息角θ１が大きい粉体ＧＲ（フラックス）であっても安定的に定量供給することができる。また、粉体ＧＲを安定的に定量供給できるため、出口部３の下流で粉体ＧＲの実際の供給量を検出する必要がない。したがって、質量検出器等が不要であり、構成を簡素化できる。

（２）回転ゲート５よりも搬送方向上流側に、トラフ２の上面２ａから所定量ΔＳ１の隙間ＳＰ１をあけて固定ゲート６を設けるとともに、固定ゲート６の隙間ＳＰ１の大きさΔＳ１を回転ゲート５の隙間ＳＰ２の大きさΔＳ２よりも大きくした。これにより回転ゲート５の上流側で粉体ＧＲが幅方向均一に、かつ、均一高さΔＳ１に分布し、粉体ＧＲのばらつきがないため、回転ゲート５の隙間ＳＰ２に粉体ＧＲを容易に通過させることができる。

（３）回転ゲート５の周面に全周にわたって凹凸部５ａを設けるようにしたので、回転ゲート５により粉体ＧＲの山を確実に崩すことができる。これにより、回転ゲート５の周面に沿って粉体ＧＲの山の境界面ＧＲ１が形成されたまま粉体ＧＲが滞留するようなことを防止できる。したがって、粒子同士の結びつきが強い粉体ＧＲであっても、回転ゲート５の隙間ＳＰ２に、スムーズに粉体ＧＲを通過させることができる。

（４）回転ゲート５の周面とトラフ２の上面２ａとの間の隙間ＳＰ２の大きさΔＳ２を、調整ねじ５７（図３，５）のねじ込み量を調整することで変更可能とした。これにより出口部３から送られる単位時間当たりの粉体ＧＲの供給量を容易に変更することができる。

（５）回転ゲート５にスクレーパ５６（図２）を設け、スクレーパ５６により、回転ゲート５の周面に付着した粉体を除去するようにした。これにより、回転ゲート５の周面とトラフ２の上面２ａとの間に常に所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２を確保することができ、粉体ＧＲを安定的に供給できる。

（６）回転ゲート５よりも搬送方向下流側において、搬送通路ＰＡを仕切り板２５により幅方向複数の通路ＰＡ１〜ＰＡ８に分割するとともに、各通路ＰＡ１〜ＰＡ８にそれぞれ出口部３１〜３８を設けるようにした。これにより単一の装置１００によって定量供給された粉体ＧＲを、複数個所に同時に供給することができ、装置全体を安価に構成できる。すなわち、仮に出口部３が１つしかないと、粉体ＧＲを複数個所に供給するためには複数の装置（複数のホッパー、複数のゲート等）が必要となるが、本実施形態では、単一の装置から複数個所に粉体ＧＲを供給することができる。また、単一の装置を用いるため、複数の出口部３からの粉体ＧＲの噴射量のばらつきが小さい。仕切り板２５の間隔を調整可能としたので、各通路ＰＡ１〜ＰＡ８への粉体ＧＲの供給量を増減させることができ、粉体ＧＲを各通路ＰＡ１〜ＰＡ８に均等に分配できる。

（７）出口部３から供給された粉体ＧＲを霧化して噴射する噴射部７を設けるようにした。すなわち、粉体ＧＲの定量供給部と、霧化部とを別々に備え、定量供給された粉体ＧＲを霧化して噴射するようにした。これにより、例えば粉体ＧＲをタンク内で浮遊状態にしてからポンプを用いて吸い込むような構成と比べ、装置の構成を簡素化でき、装置全体を安価に構成できる。

（変形例）
本実施形態の変形例として以下のようなものが考えられる。上記実施形態では、粉体ＧＲの搬送方向に直交する軸線Ｌ２を中心に回転する回転ゲート５を設け、回転ゲート５を支持部５０により支持するようにした。ここで、支持部５０を回動可能なレバー５２、調整ねじ５７等により構成したが、トラフ２の上面２ａから所定量ΔＳ２の隙間ＳＰ２をあけて回転ゲート５を支持するのであれば、支持部５０の構成はいかなるものでもよい。ホッパー１の下方に水平方向（前後方向）に延設されて、出口部３に向けて粉体ＧＲの搬送通路ＰＡを形成するのであれば、トラフ２の構成もいかなるものでもよい。

回転ゲート５の表面に全周にわたって凹凸部５ａを設けるようにしたが、凹凸部５ａを設ける代わりに、例えば回転ゲート５の周面の面粗度を大きくするようにしてもよい。調整ねじ５７により回転ゲート５の隙間ＳＰ２を調整するようにしたが、隙間調整部として例えばシリンダ等のアクチュエータを用いてもよい。粉体ＧＲの付着が問題とならないようであれば、スクレーパ５６を省略してもよい。回転ゲート５の回転方向は上述したのと逆であってもよい。粉体ＧＲの流れをセンサ等によって監視し、粉体ＧＲのスムーズな流れが停止したときに、モータ６５を駆動して回転ゲート５を回転させるようにしてもよい。モータ６５の回転数を、粉体ＧＲの特性や搬送量等に応じて変更するようにしてもよい。

回転ゲート５の搬送方向上流側に固定ゲート６を設け、ブラケット６１（図５）の取付位置を調整することで固定ゲート６の隙間ＳＰ１を変更可能としたが、アクチュエータにより固定ゲート５を上下動させて隙間ＳＰ１を変更するようにしてもよい。固定ゲート５を板部材により構成したが、固定ゲート５の構成はこれに限らない。固定ゲート５を省略することもできる。トラフ２の下端部に加振装置４を設けたが、他の位置（例えばトラフ２の前後端部等）に加振装置４を設けることもできる。搬送通路ＰＡを仕切り板２５によって通路幅方向（左右方向）に複数の通路ＰＡ１〜ＰＡ８に分割するようにしたが、例えば複数のパイプを並設して入口部を可変にし複数の通路ＰＡ１〜ＰＡ８を形成してもよく、分割壁の構成は上述したものに限らない。粉の特性により仕切り板２５（分割壁）を省略して、出口部３を複数設けるようにしてもよい。

幅方向均一に搬送されている粉体ＧＲを複数個所に同時に供給する必要がなければ、出口部３を複数設けなくてもよい。複数個所に供給する必要があったとしても、単一の出口部３の下流で粉体ＧＲを複数に分配するようにしてもよい。トラフ２に円形の貫通穴を設けることで出口部３を形成したが、例えばトラフ２の後端面に開口部を設けて出口部３を形成してもよい。出口部３に噴射部７を接続し、粉体ＧＲを霧化して噴射するようにしたが、噴射部の構成はいかなるものでもよい。使用用途によっては、出口部３からの粉体ＧＲを噴射部７以外に供給してもよい。複数の出口部３１〜３８を、前後方向に互い違いにずらして配置したが（図７）、これら出口部３１〜３８を前後方向にずらすことなく、互いに前後方向同一位置に並設してもよい。

本発明による粉体供給装置は、フラックス以外の粉体に対しても同様に適用することができるが、安息角の大きい粉体に対して特に好適である。以上の実施形態では、自動車用熱交換器を対象物としたが、本発明による粉体供給装置は、他の対象物に対しても同様に適用することができる。

以上の説明はあくまで一例であり、本発明の特徴を損なわない限り、上述した実施形態および変形例により本発明が限定されるものではない。上記実施形態および変形例の構成要素には、発明の同一性を維持しつつ置換可能かつ置換自明なものが含まれる。すなわち、本発明の技術的思想の範囲内で考えられる他の形態についても、本発明の範囲内に含まれる。また、上記実施形態と変形例の１つまたは複数を任意に組み合わせることも可能である。

１ ホッパー
２ トラフ
３ 出口部
４ 加振装置
５ 回転ゲート
５０ 支持部
ＰＡ 搬送通路
Ｌ２ 軸線
ＳＰ２ 隙間

Claims (7)

1. 粉体を貯留するホッパー（１）と、
   前記ホッパー（１）の下方に水平方向に延設され、出口部（３）に向けて紛体の搬送通路（ＰＡ）を形成するトラフ（２）と、
   紛体が前記トラフ（２）上を前記出口部（３）に向かって移動するように、前記トラフ（２）を加振する加振装置（４）と、
   前記搬送通路（ＰＡ）の途中に設けられ、紛体の搬送方向に直交する軸線（Ｌ２）を中心に回転する円筒形状の回転ゲート（５）と、
   前記回転ゲート（５）の周面と前記トラフ（２）の上面（２ａ）との間に所定量（ΔＳ２）の隙間（ＳＰ２）をあけて、前記回転ゲート（５）を回転可能に支持する支持部（５０）と、を備えることを特徴とする紛体供給装置。
2. 請求項１に記載の紛体供給装置において、
   前記回転ゲート（５）よりも紛体の搬送方向上流側に配置され、前記トラフ（２）の上面（２ａ）との間に前記所定量（ΔＳ２）よりも大きな隙間（ＳＰ１）を形成する固定ゲート（６）をさらに備えることを特徴とする紛体供給装置。
3. 請求項１または２に記載の紛体供給装置において、
   前記回転ゲート（５）は、その周面に全周にわたって凹凸部（５ａ）を有することを特徴とする紛体供給装置。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の紛体供給装置において、
   前記回転ゲート（５）の周面と前記トラフ（２）の上面（２ａ）との間の隙間（ＳＰ２）の大きさ（ΔＳ２）を調整する隙間調整部（５２，５７）をさらに備えることを特徴とする紛体供給装置。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の紛体供給装置において、
   前記回転ゲート（５）の周面に付着した粉体を除去するスクレーパ（５６）をさらに備えることを特徴とする紛体供給装置。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の紛体供給装置において、
   前記トラフ（２）は、前記回転ゲート（５）よりも粉体の搬送方向下流側で、前記搬送通路（ＰＡ）を通路幅方向において複数の搬送通路（ＰＡ１〜ＰＡ８）に分割する分割壁（２５）を有し、
   前記出口部（３）は、前記複数の前記搬送通路（ＰＡ１〜ＰＡ８）にそれぞれ設けられていることを特徴とする紛体供給装置。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の紛体供給装置において
   前記出口部（３）から供給された粉体を霧化して噴射する噴射部（７）をさらに備えることを特徴とする粉体供給装置。

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