JP2013175615A - 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
上記課題を解決するために、トンネルバリア層がスピネル構造の原子配列が不規則化し、スピネル構造の半分の格子定数の立方晶構造を有する非磁性物質からなる強磁性トンネル接合を創製した。これらの強磁性トンネル接合を利用した磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイスを提供するものである。
【選択図】図4
Description
TMR=2P1P2/(1−P1P2) (1)
ここで強磁性体のスピン分極率Pは0<P≦1の値をとる。従来、バリアとしてアモルファス構造のAl酸化膜(AlOx)及び(001)面配向したMgO膜が用いられている。前者の場合、Al金属をスパッタ法などで成膜し、その後プラズマ酸化などの方法で酸化して作製され、その構造はアモルファスであることがよく知られている(非特許文献1)。一方、MgOバリアはMgOターゲットを直接スパッタするか、あるいは電子ビームを用いてMgOショットを蒸着して得る方法などが用いられている。
下部磁性層となるFe薄膜を作製する。その後、200°C程度の温度でその場熱処理することで平坦かつ良好な結晶品質を持つFe膜を得ることができる。
成膜法としてはスパッタ法のほか、蒸着法、レーザアブレーション法、MBE法など通常の薄膜作製法を用いることができる。
<実施例1>
直流マグネトロンスパッタ装置を用いて、MgO(001)基板上にバッファー層としてCr膜を用い、室温でCr(40nm)/Fe(30nm)積層膜を作製した。その後Fe膜の結晶性をよくするため200°Cの温度で15分熱処理し、引き続き室温でMg(0.45nm)を成膜し、前記直流マグネトロンスパッタ装置を用いて作製したMgO(001)基板/Cr(40nm)/Fe(30nm)/Mg(0.45nm)構造の積層膜を酸化用チャンバー室に移動した。Mg33Al67合金組成ターゲットをスパッタしてMg33Al67(1.5nm)層を成膜し、ここでArと酸素を導入して誘導結合プラズマ酸化(ICP)処理を行いMg−Al酸化膜を作製した。このときのArと酸素の分圧比は3対17、全ガス圧は6Pa、酸化時間は15秒であった。
Mg−Al合金ターゲット組成がMg17Al83であること以外は実施例1と同様の方法を用いて、Cr(40nm)/Fe(30nm)/Mg(0.45nm)/Mg17Al83 (0.9nm)―O/Fe(7nm)/IrMn(12nm)/Ru(7nm)からなるMTJ素子を作製した。Mg−Al−O層は実施例1と同様に不規則スピネル構造を有していることが確認された。Al量が多いため、Mg−Al−Oの格子定数がより低減され、得られた接合ではバリア層とFe層との面内格子ミスマッチは0.1%と極めて小さいことが見出された。
15K、及び室温(RT)におけるTMR値は、それぞれ304%、185%と非常に大きかった。極めて高い格子整合性が実現されたことに伴い、図7に示すようにVhalfは正バイアス電圧で約1400mV、負バイアス電圧で約1200mVと極めて大きな値が得られた。ここで、正バイアスとは電子が上部層から下部層へ流れるときと定義する。
上下磁性層とバリア層間にCoFe合金層を挿入したこと以外は実施例1と同様の方法を用いて、Cr(40nm)/Fe(30nm)/Co50Fe50(2.5nm)/Mg(0.45nm)/Mg33Al67(0.9nm)―O/Co50Fe50(2.0nm)/Fe(5 nm)/IrMn(12nm)/Ru(7nm)からなるMTJを作製した。CoFe合金はbcc構造であり、Feと格子定数はほぼ等しいことからFe層とバリア層間に挿入されているCoFe層もエピタキシャル成長している。CoFe合金のスピン分極率は純Feよりも大きいことから、15K、及びRTにおけるTMR値は、それぞれ479%、308%とFeを用いたものよりも格段に大きくできた。
Mg層膜厚、Mg33Al67膜厚およびバリア層酸化方法以外は実施例3と同様の方法を用いて、Cr(40nm)/Fe(30nm)/Co50Fe50(2.5nm)/Mg(0.2nm)/Mg33Al67(0.45nm)―O/Co50Fe50(2.0nm)/Fe(7 nm)/IrMn(12nm)/Ru(7nm)からなるMTJ素子を作製した。バリア層の作製にはMg層およびMg33Al67層を成膜後にチャンバー内に酸素を5Paの圧力で620秒の間導入し、自然酸化膜を作製した。Mg層およびMg33Al67層膜厚の低減に合わせた酸化方法を用いることによって、単位面積当たりの抵抗値(RA値)を従来の1000〜2000 Ω・μm2程度から、5 Ω・μm2程度まで3桁の低減を達成しつつ、室温のTMR値を128%に保つことができた。
Mg−Al合金の代わりに純Alを用い、Mg挿入層を用いない以外は実施例1と同様の方法を用いて、Cr(40nm)/Fe(30nm)/Al(1.16nm)―O/Fe(7nm)/Ru(0.8nm)/Fe(1.5nm)/IrMn(12nm)/Ru(7nm)からなるMTJ素子を作製した。
Al層作製条件及びAl層の酸化条件を最適に選択することによって、図8に示すように、Al−O層はエピタキシャル成長し、立方晶を有している構造を実現した。このバリア層の構造は、スピネル類似構造γ−Al2O3(格子定数0.791nm)が不規則化した構造を有しており、面内格子定数は不規則Mg−Al−Oバリアとほぼ同等の0.408nmと求められた。
2 導電体層
3 下部強磁性層
4 不規則化スピネルトンネルバリア層
5 上部強磁性層
6 導電体層
Claims (7)
- スピネル構造の結晶質酸化物のトンネルバリア層を二つの強磁性層で直接挟んだ構造からなる強磁性トンネル接合体であって、前記トンネルバリア層は、スピネル構造を安定相とする結晶質酸化物と構成元素が同じであるがスピネル構造の原子配列が不規則化した結晶構造を持ち、空間群Fm−3mもしくはF−43mの対称性をもつ立方晶の非磁性酸化物からなり、かつ、前記非磁性酸化物の格子定数が、前記スピネル構造を安定相とする結晶質酸化物の格子定数の半分であることを特徴とする強磁性トンネル接合体。
- 請求項1に記載の強磁性トンネル接合体であって、前記強磁性層が金属又は金属合金よりなり、これらの強磁性層が前記トンネルバリア層の上下界面と直接接触していることを特徴とする金属強磁性トンネル接合体。
- 請求項1又は2に記載の強磁性トンネル接合体であって、コヒーレントトンネル効果によって室温において80%以上34000%以下のトンネル磁気抵抗を示す強磁性コヒーレントトンネル接合体。
- トンネルバリア層の非磁性酸化物の元素構成が(Mg1−xAlx)−O(0<x≦1)であることを特徴とする請求項1又は2記載の強磁性トンネル接合体。
- トンネルバリア層の非磁性酸化物の元素構成が(Mg1−xAlx)−O(0<x≦1)であることを特徴とする請求項3記載の強磁性コヒーレントトンネル接合体。
- トンネルバリア層を二つの強磁性層で挟んだ構造の強磁性トンネル接合体を用いた磁気抵抗効果素子であって、前記強磁性トンネル接合体が請求項1から5のいずれかに記載の強磁性トンネル接合体であることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
- トンネルバリア層を二つの強磁性層で挟んだ構造の強磁性トンネル接合体を用いたスピントロニクスデバイスであって、前記強磁性トンネル接合体が請求項1から6のいずれかに記載の強磁性トンネル接合体であることを特徴とするスピントロニクスデバイス。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039582A JP5988019B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス |
US13/627,664 US8872291B2 (en) | 2012-02-27 | 2012-09-26 | Ferromagnetic tunnel junction structure and magnetoresistive effect device and spintronics device utilizing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012039582A JP5988019B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013175615A true JP2013175615A (ja) | 2013-09-05 |
JP5988019B2 JP5988019B2 (ja) | 2016-09-07 |
Family
ID=49001921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012039582A Active JP5988019B2 (ja) | 2012-02-27 | 2012-02-27 | 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8872291B2 (ja) |
JP (1) | JP5988019B2 (ja) |
Cited By (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014107496A (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-09 | Tdk Corp | スピン注入電極構造、及びスピン伝導素子 |
WO2016158923A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
WO2016158910A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
WO2016158867A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
WO2016158849A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
JP2017004585A (ja) * | 2015-06-15 | 2017-01-05 | 国立大学法人東北大学 | 膜面垂直通電型巨大磁気抵抗素子及び磁気デバイス |
JP2017108071A (ja) * | 2015-12-11 | 2017-06-15 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子及び磁気抵抗効果素子の製造方法 |
WO2017115839A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | コニカミノルタ株式会社 | 磁気センサー、センサーユニット、磁気検出装置、及び磁気計測装置 |
WO2017135251A1 (ja) | 2016-02-02 | 2017-08-10 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体、これを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス並びに強磁性トンネル接合体の製造方法 |
JP2017183355A (ja) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | Tdk株式会社 | 強磁性トンネル接合体の製造方法、強磁性トンネル接合体及び磁気抵抗効果素子 |
KR20170125069A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-13 | 티디케이가부시기가이샤 | 자기 저항 효과 소자 |
JP2018056272A (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗素子及び磁気記憶装置 |
JP2018129423A (ja) * | 2017-02-09 | 2018-08-16 | Tdk株式会社 | 強磁性トンネル接合体の製造方法及び強磁性トンネル接合体 |
WO2018230466A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体、それを用いたスピントロニクスデバイス、及び強磁性トンネル接合体の製造方法 |
WO2019049740A1 (ja) | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 垂直磁化膜の前駆体構造、垂直磁化膜構造、およびその製造方法、これらを用いた垂直磁化型トンネル磁気抵抗接合膜およびその製造方法、ならびにこれらを用いた垂直磁化型トンネル磁気抵抗接合素子 |
US10263182B2 (en) | 2016-09-29 | 2019-04-16 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10319904B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-06-11 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10454022B2 (en) | 2016-09-29 | 2019-10-22 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
JP2020017670A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US10580974B2 (en) | 2015-12-11 | 2020-03-03 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
JP2020161810A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | Tdk株式会社 | トンネルバリア層、磁気抵抗効果素子、トンネルバリア層の製造方法及び絶縁層 |
WO2021029148A1 (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US10944043B2 (en) | 2017-07-14 | 2021-03-09 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element and method for manufacturing the same |
US11056639B2 (en) | 2018-05-16 | 2021-07-06 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11367834B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-06-21 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9236564B2 (en) | 2013-12-11 | 2016-01-12 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method and system for providing an engineered magnetic layer including Heusler layers and an amorphous insertion layer |
JP6754108B2 (ja) * | 2015-12-04 | 2020-09-09 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 単結晶磁気抵抗素子、その製造方法及びその使用方法 |
US9747930B2 (en) | 2015-12-07 | 2017-08-29 | International Business Machines Corporation | Tunnel valve read sensor with crystalline alumina tunnel barrier deposited using room temperature techniques |
JP2018056389A (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
JP2018056391A (ja) * | 2016-09-29 | 2018-04-05 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US10408896B2 (en) | 2017-03-13 | 2019-09-10 | University Of Utah Research Foundation | Spintronic devices |
US11264290B2 (en) | 2017-09-06 | 2022-03-01 | Tdk Corporation | Tunnel magnetoresistive effect element and magnetic memory |
WO2019077663A1 (ja) | 2017-10-16 | 2019-04-25 | Tdk株式会社 | トンネル磁気抵抗効果素子、磁気メモリ、及び内蔵型メモリ |
JP6628015B2 (ja) | 2017-10-16 | 2020-01-08 | Tdk株式会社 | トンネル磁気抵抗効果素子、磁気メモリ、及び内蔵型メモリ |
CN109937475B (zh) | 2017-10-16 | 2023-07-18 | Tdk株式会社 | 隧道磁阻效应元件、磁存储器及内置型存储器 |
WO2019092817A1 (ja) | 2017-11-08 | 2019-05-16 | Tdk株式会社 | トンネル磁気抵抗効果素子、磁気メモリ、及び内蔵型メモリ |
WO2019092816A1 (ja) | 2017-11-08 | 2019-05-16 | Tdk株式会社 | トンネル磁気抵抗効果素子、磁気メモリ、及び内蔵型メモリ |
US10700267B2 (en) * | 2017-11-13 | 2020-06-30 | Tdk Corporation | Magnetoresistive element, manufacturing method thereof and magnetic sensor |
CN110165046A (zh) * | 2018-02-16 | 2019-08-23 | Tdk株式会社 | 磁阻效应元件及其制造方法 |
US10923649B2 (en) * | 2018-05-22 | 2021-02-16 | Tdk Corporation | Spin current magnetization rotation magnetoresistance effect element, and magnetic memory |
JP7035851B2 (ja) | 2018-06-28 | 2022-03-15 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
JP2020107835A (ja) * | 2018-12-28 | 2020-07-09 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US11594674B2 (en) | 2019-03-22 | 2023-02-28 | Tdk Corporation | Tunnel barrier layer, magnetoresistance effect element, method for manufacturing tunnel barrier layer, and insulating layer |
WO2021199233A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US11585873B2 (en) | 2021-07-08 | 2023-02-21 | Tdk Corporation | Magnetoresistive effect element containing two non-magnetic layers with different crystal structures |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003229614A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | 磁性材料、この磁性材料を用いた磁気抵抗効果素子、およびこの磁気抵抗効果素子を用いた磁気デバイス |
WO2010119928A1 (ja) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子並びにスピントロニクスデバイス |
WO2010134435A1 (ja) * | 2009-05-22 | 2010-11-25 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体およびそれを用いた磁気抵抗効果素子 |
US20120212857A1 (en) * | 2011-02-17 | 2012-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magneto-resistive effect device, magnetic head assembly, and magnetic recording device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6574079B2 (en) * | 2000-11-09 | 2003-06-03 | Tdk Corporation | Magnetic tunnel junction device and method including a tunneling barrier layer formed by oxidations of metallic alloys |
US8125745B2 (en) | 2006-04-27 | 2012-02-28 | Japan Science And Technology Agency | Magnetic thin film, and magnetoresistance effect device and magnetic device using the same |
-
2012
- 2012-02-27 JP JP2012039582A patent/JP5988019B2/ja active Active
- 2012-09-26 US US13/627,664 patent/US8872291B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003229614A (ja) * | 2002-02-05 | 2003-08-15 | Mitsubishi Electric Corp | 磁性材料、この磁性材料を用いた磁気抵抗効果素子、およびこの磁気抵抗効果素子を用いた磁気デバイス |
WO2010119928A1 (ja) * | 2009-04-16 | 2010-10-21 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体とそれを用いた磁気抵抗効果素子並びにスピントロニクスデバイス |
US20120091548A1 (en) * | 2009-04-16 | 2012-04-19 | Hiroaki Sukegawa | Ferromagnetic tunnel junction structure, and magneto-resistive element and spintronics device each using same |
WO2010134435A1 (ja) * | 2009-05-22 | 2010-11-25 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体およびそれを用いた磁気抵抗効果素子 |
US20120212857A1 (en) * | 2011-02-17 | 2012-08-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magneto-resistive effect device, magnetic head assembly, and magnetic recording device |
Cited By (59)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014107496A (ja) * | 2012-11-29 | 2014-06-09 | Tdk Corp | スピン注入電極構造、及びスピン伝導素子 |
US10199570B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-02-05 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
WO2016158849A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
WO2016158867A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US10720178B2 (en) | 2015-03-31 | 2020-07-21 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10629231B2 (en) | 2015-03-31 | 2020-04-21 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10224067B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-03-05 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11367834B2 (en) | 2015-03-31 | 2022-06-21 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11871681B2 (en) | 2015-03-31 | 2024-01-09 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11763841B2 (en) | 2015-03-31 | 2023-09-19 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
KR20170123675A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-08 | 티디케이가부시기가이샤 | 자기 저항 효과 소자 |
KR20170125069A (ko) | 2015-03-31 | 2017-11-13 | 티디케이가부시기가이샤 | 자기 저항 효과 소자 |
US11600771B2 (en) | 2015-03-31 | 2023-03-07 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
EP4016652A2 (en) | 2015-03-31 | 2022-06-22 | TDK Corporation | Magnetoresistive effect element |
US10109788B2 (en) | 2015-03-31 | 2018-10-23 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
WO2016158923A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US10615336B2 (en) | 2015-03-31 | 2020-04-07 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10790440B2 (en) | 2015-03-31 | 2020-09-29 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
WO2016158910A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
US10573804B2 (en) | 2015-03-31 | 2020-02-25 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
EP3979346A1 (en) | 2015-03-31 | 2022-04-06 | TDK Corporation | Magnetoresistive effect element |
US10236441B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-03-19 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10255934B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-04-09 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11018293B2 (en) | 2015-03-31 | 2021-05-25 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11133028B2 (en) | 2015-03-31 | 2021-09-28 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10319904B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-06-11 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10446740B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-10-15 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US11056642B2 (en) | 2015-03-31 | 2021-07-06 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10468589B2 (en) | 2015-03-31 | 2019-11-05 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
JP2017004585A (ja) * | 2015-06-15 | 2017-01-05 | 国立大学法人東北大学 | 膜面垂直通電型巨大磁気抵抗素子及び磁気デバイス |
US11183630B2 (en) | 2015-12-11 | 2021-11-23 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
JP2017108071A (ja) * | 2015-12-11 | 2017-06-15 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子及び磁気抵抗効果素子の製造方法 |
US10580974B2 (en) | 2015-12-11 | 2020-03-03 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10830840B2 (en) | 2015-12-28 | 2020-11-10 | Konica Minolta, Inc. | Magnetic sensor, sensor unit, magnetic detection device, and magnetic measurement device |
JPWO2017115839A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2018-11-29 | コニカミノルタ株式会社 | 磁気センサー、センサーユニット、磁気検出装置、及び磁気計測装置 |
WO2017115839A1 (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | コニカミノルタ株式会社 | 磁気センサー、センサーユニット、磁気検出装置、及び磁気計測装置 |
JPWO2017135251A1 (ja) * | 2016-02-02 | 2018-11-29 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体、これを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス並びに強磁性トンネル接合体の製造方法 |
US11105867B2 (en) | 2016-02-02 | 2021-08-31 | National Institute For Materials Science | Magnetic tunnel junction, magnetoresistive element and spintronics device in which said magnetic tunnel junction is used, and method of manufacturing magnetic tunnel junction |
WO2017135251A1 (ja) | 2016-02-02 | 2017-08-10 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体、これを用いた磁気抵抗効果素子及びスピントロニクスデバイス並びに強磁性トンネル接合体の製造方法 |
JP2017183355A (ja) * | 2016-03-28 | 2017-10-05 | Tdk株式会社 | 強磁性トンネル接合体の製造方法、強磁性トンネル接合体及び磁気抵抗効果素子 |
JP2018056272A (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗素子及び磁気記憶装置 |
US10305027B2 (en) | 2016-09-28 | 2019-05-28 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistive element and magnetic memory device |
US10622548B2 (en) | 2016-09-29 | 2020-04-14 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10263182B2 (en) | 2016-09-29 | 2019-04-16 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
US10454022B2 (en) | 2016-09-29 | 2019-10-22 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
JP2018129423A (ja) * | 2017-02-09 | 2018-08-16 | Tdk株式会社 | 強磁性トンネル接合体の製造方法及び強磁性トンネル接合体 |
WO2018230466A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2018-12-20 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体、それを用いたスピントロニクスデバイス、及び強磁性トンネル接合体の製造方法 |
US11107976B2 (en) | 2017-06-14 | 2021-08-31 | National Institute For Materials Science | Magnetic tunnel junction, spintronics device using same, and method for manufacturing magnetic tunnel junction |
JPWO2018230466A1 (ja) * | 2017-06-14 | 2019-12-26 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 強磁性トンネル接合体、それを用いたスピントロニクスデバイス、及び強磁性トンネル接合体の製造方法 |
US11696513B2 (en) | 2017-07-14 | 2023-07-04 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element and method for manufacturing the same |
US10944043B2 (en) | 2017-07-14 | 2021-03-09 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element and method for manufacturing the same |
WO2019049740A1 (ja) | 2017-09-11 | 2019-03-14 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 垂直磁化膜の前駆体構造、垂直磁化膜構造、およびその製造方法、これらを用いた垂直磁化型トンネル磁気抵抗接合膜およびその製造方法、ならびにこれらを用いた垂直磁化型トンネル磁気抵抗接合素子 |
US11374168B2 (en) | 2017-09-11 | 2022-06-28 | National Institute For Materials Science | Precursor structure of perpendicularly magnetized film, perpendicularly magnetized film structure and method for manufacturing the same, perpendicular magnetization-type magnetic tunnel junction film in which said structure is used and method for manufacturing the same, and perpendicular magnetization-type magnetic tunnel junction element in which said structure or magnetic tunnel junction film is used |
US11056639B2 (en) | 2018-05-16 | 2021-07-06 | Tdk Corporation | Magnetoresistance effect element |
JP7081372B2 (ja) | 2018-07-26 | 2022-06-07 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
JP2020017670A (ja) * | 2018-07-26 | 2020-01-30 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
JP7400560B2 (ja) | 2019-03-22 | 2023-12-19 | Tdk株式会社 | トンネルバリア層、磁気抵抗効果素子、トンネルバリア層の製造方法及び絶縁層 |
JP2020161810A (ja) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | Tdk株式会社 | トンネルバリア層、磁気抵抗効果素子、トンネルバリア層の製造方法及び絶縁層 |
WO2021029148A1 (ja) * | 2019-08-09 | 2021-02-18 | Tdk株式会社 | 磁気抵抗効果素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5988019B2 (ja) | 2016-09-07 |
US8872291B2 (en) | 2014-10-28 |
US20130221461A1 (en) | 2013-08-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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