JP2013168425A - リニアソレノイド - Google Patents

Abstract

【課題】サイドフォースを抑え、厚メッキを廃止できるリニアソレノイドを提供する。
【解決手段】「プランジャ４、シャフト９、磁気結合阻害手段１１」を一体に設け、「プランジャ４の第１凸部１３」と「シャフト９の第２凸部１４」を摺動穴１０に直接摺動させる。サイドフォースを抑えるための非磁性距離を、第１凸部１３および第２凸部１４によって確保できるため、厚メッキを廃止してメッキ層を薄く設けることができる。これにより、メッキ後の研磨仕上げを廃止することができ、リニアソレノイド１の生産性を高め、コストを抑えることができる。また、第１凸部１３を第１磁気遮断部６の軸方向範囲内で摺動させるとともに、第２凸部１４を第２磁気遮断部１２の軸方向範囲内で摺動させる。これにより、第１、第２凸部１３、１４の磁束の流れを無くし、サイドフォースの発生をより確実に防ぐことができる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、プランジャがステータコアに対して直接摺動するリニアソレノイドに関する。

（従来技術）
プランジャがステータコアに対して直接摺動するリニアソレノイドを、図７を参照して説明する。なお、符号は後述する［発明を実施するための形態］および［実施例］と同一機能物に同一符号を付したものである。

ステータコア８の摺動穴１０に対するプランジャ４の径方向の偏心によって生じる磁力の偏り（以下、径方向の磁力の偏りによって生じる力をサイドフォースと称する）を抑える技術として、プランジャ４の外周面に非磁性体のメッキ層Ｍを形成する技術が提案されている。
即ち、磁性体製のプランジャ母材４ａの表面に、非磁性体のメッキ層Ｍを形成したプランジャ４が提案されている。

（従来技術の問題点）
プランジャ４に生じるサイドフォースを抑えるには、メッキ層Ｍの厚みを大きくする必要がある。
しかるに、メッキ層Ｍを厚く設けるには、メッキの処理時間を長くする必要がある。

さらに、プランジャ４の外径寸法には、高い精度が要求される。
しかるに、メッキ処理により厚く設けたメッキ層Ｍは、厚みの誤差が大きい。このため、メッキ処理後、プランジャ４に研磨仕上げを施さねばならず、製造コストが高くなってしまう。

特許第４５６９３７１号公報

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、サイドフォースを抑え、且つ厚メッキを廃止できるリニアソレノイドの提供にある。

［請求項１の手段］
請求項１のリニアソレノイドは、「プランジャ、シャフト、磁気結合阻害手段」を一体に設け、「プランジャに設けた第１凸部」と「シャフトに設けた第２凸部」が摺動穴の内周面に直接摺動する。
これにより、サイドフォースを抑えるために要求されるステータコアとプランジャ母材との径方向の非磁性距離を、第１凸部および第２凸部によって確保することができる。その結果、厚メッキを廃止して、メッキ層を薄く設けたり、あるいはメッキ層を廃止することが可能になる。
このように、厚メッキを廃止することができるため、サイドフォースを抑えたリニアソレノイドの生産性を高めることができ、結果的にリニアソレノイドのコストを抑えることができる。

［請求項２の手段］
第１凸部は、第１磁気遮断部の軸方向範囲内で摺動する。
これにより、第１凸部における磁束の流れが抑えられ、第１凸部におけるサイドフォースの発生が抑えられる。

［請求項３の手段］
第２凸部は、第２磁気遮断部（第１磁気遮断部から軸方向へ離れた部位に設けられた磁気遮断部）の軸方向範囲内で摺動する。
これにより、第２凸部における磁束の流れが抑えられ、第２凸部におけるサイドフォースの発生が抑えられる。

［請求項４の手段］
第１凸部および第２凸部は、環状凸部である。
これにより、第１、第２凸部とステータコアの接触面積を大きく確保することができ、長期に亘って第１、第２凸部の摩耗を抑えることができる。

［請求項５の手段］
第１凸部および第２凸部は、外径寸法が同径に設けられる。

［請求項６の手段］
「プランジャ母材における第１凸部の外径寸法Ｐｘ」＝「シャフト母材における第２凸部の外径寸法Ｓｘ」に設ける。
また、「磁気受渡コアと径方向で対向するプランジャ母材の外径寸法Ｐ１」＜「磁気吸引コアと径方向で対向するシャフト母材の外径寸法Ｓ１」に設ける。
これにより、磁気受渡コアとプランジャ母材との径方向の非磁性距離を大きくすることができ、磁気受渡コアとプランジャの間で生じるサイドフォースを低減できる。

［請求項７の手段］
プランジャ母材は、磁気結合阻害手段に近い側の外周に縮径部を備える。
これにより、「磁気吸引コア」と「磁気吸引コアの内側に侵入する部位のプランジャ母材」との径方向距離を大きくすることができ、磁気吸引コアとプランジャの間で生じるサイドフォースを低減できる。

（ａ）電磁弁の軸方向に沿う断面図、（ｂ）リニアソレノイドの要部断面図である（実施例１）。 プランジャ、シャフトおよび磁気結合阻害手段を一体に設けた可動子の断面図である（実施例１）。 プランジャ、シャフトおよび磁気結合阻害手段を一体に設けた可動子の断面図である（実施例２）。 プランジャ、シャフトおよび磁気結合阻害手段を一体に設けた可動子の断面図である（実施例３）。 プランジャ、シャフトおよび磁気結合阻害手段を一体に設けた可動子の断面図である（実施例４）。 プランジャ、シャフトおよび磁気結合阻害手段を一体に設けた可動子の断面図である（実施例５）。 電磁弁の軸方向に沿う断面図である（従来例）。

図面を参照して［発明を実施するための形態］を説明する。
リニアソレノイド１は、バルブなどの駆動対称物（後述する実施例ではスプール弁２）を、直接または間接的に駆動するための電磁アクチュエータであり、
・通電により磁力を発生するコイル３と、
・軸方向へ摺動自在に支持されるプランジャ４と、
・磁気吸引コア５、第１磁気遮断部６、磁気受渡コア７を一体に設けたステータコア８と、
・プランジャ４に生じる吸引力をステータコア８の外部に伝えるシャフト９と、
を備えて構成される。

プランジャ４とシャフト９は、プランジャ４とシャフト９の直接的な磁束結合を阻害する磁気結合阻害手段１１を介して一体に設けられる。
磁気吸引コア５は、第１磁気遮断部６から軸方向へ離れた部位に磁路の形成を阻害する第２磁気遮断部１２を備える。
プランジャ４の外周面には、第１磁気遮断部６の軸方向範囲内で摺動する第１凸部１３が設けられる。
シャフト９の外周面には、第２磁気遮断部１２の軸方向範囲内で摺動する第２凸部１４が設けられる。

以下において本発明の具体的な一例（実施例）を、図面を参照して説明する。以下の実施例は具体的な一例を示すものであって、本発明が実施例に限定されないことはいうまでもない。なお、以下の実施例において、上記「発明を実施するための形態」と同一符号は同一機能物を示すものである。
また、以下では、実施例の説明のために、図１（ａ）の左側を前、右側を後として説明するが、この前後方向は説明のための方向であり、実際の搭載方向を限定するものではない。

［実施例１］
図１、図２を参照して実施例１を説明する。
この実施例は、自動変速機に搭載される油圧制御用の電磁弁に本発明を適用したものである。
具体的に、電磁弁は、自動変速機内の下部に配置される油圧コントローラに組み付けられるものであり、この実施例の電磁弁は、油圧をコントロールするスプール弁２と、このスプール弁２を駆動するリニアソレノイド１とで構成される。

（スプール弁２の説明）
スプール弁２は、スリーブ２１、スプール２２およびリターンスプリング２３を備えて構成される。なお、図面では、ノーマリ・クローズ・タイプのスプール弁２を示すが、具体的な一例であって、限定されるものではない。

スリーブ２１は、略円筒形状を呈するものであり、中心にはスプール２２を軸方向へ摺動自在に支持する挿通穴が形成され、径方向には複数のオイルポート２４が形成されている。
なお、オイルポート２４は、図示しないオイルポンプのオイル吐出口に連通して入力圧が供給される入力ポート、電磁油圧制御弁で調圧した出力圧が出力される出力ポート、低圧側に連通する排出ポート、および後述する呼吸路（ドレンポート）Ｘである。

スプール２２は、スリーブ２１内に摺動可能に配置され、オイルポート２４の開口面積を可変するとともに、オイルポート２４の連通状態を切り替えるものであり、オイルポート２４を閉塞可能な複数のランド２５と、ランド２５間に設けられた小径部２６とを備える。
このスプール２２の後部には、後方へ延びる軸部２７が設けられており、その軸部２７の後端が後述するシャフト９の前端面に当接し、リニアソレノイド１の駆動力を受けるとともに、リターンスプリング２３の付勢力をシャフト９に伝えるように設けられている。

リターンスプリング２３は、スプール２２を後方へ付勢する圧縮コイルスプリングであり、スリーブ２１の前側のバネ室内に圧縮された状態で配置される。このリターンスプリング２３は、一端がスプール２２の前面に当接し、他端がスリーブ２１の挿通穴の前端を閉塞する調整ネジ２８の底面に当接するものであり、調整ネジ２８の螺合量（ねじ込み量）により、リターンスプリング２３の付勢力を調整できるようになっている。

ここで、リターンスプリング２３が配置される空間（バネ室）と、軸部２７の周囲の空間（シャフト９の前端の空間）とは、スリーブ２１に形成された呼吸路（呼吸ポート）Ｘを介して外部（自動変速機の内部空間）と連通する。
即ち、ステータコア８の前端の空間（後述するシャフト９の前端が触れる空間）は、呼吸路Ｘを介して外部に連通して、容積変動可能に設けられている。

（リニアソレノイド１の説明）
リニアソレノイド１は、コイル３、プランジャ４、ステータコア８、シャフト９、ヨーク３１、コネクタ３２を備えて構成される。
コイル３は、通電されると磁力を発生するものであり、樹脂性のボビンの周囲に、絶縁被覆が施された導線（エナメル線等）を多数巻回したものである。

プランジャ４は、コイル３の発生する磁力によって軸方向（前方）へ向けて駆動されるものであり、ステータコア８の内側において軸方向（左右方向）へ摺動自在に支持される。なお、プランジャ４の詳細は後述する。

シャフト９は、プランジャ４に生じた軸力をスプール２２に伝達するとともに、リターンスプリング２３の付勢力をスプール２２を介してプランジャ４に伝達するものであり、ステータコア８の内側において軸方向（左右方向）へ摺動自在に支持される。なお、シャフト９の詳細は後述する。

ステータコア８は、磁気吸引コア５、第１磁気遮断部６、磁気受渡コア７が一体に設けられ、コイル３の内側に差し入れられる磁性体製（例えば、鉄などの強磁性材料）であり、ステータコア８の内側には、軸方向に沿う円筒状の摺動穴１０が設けられている。

磁気吸引コア５は、コイル３の発生する磁力によってプランジャ４を前方へ磁気吸引するものであり、磁気吸引コア５とプランジャ４との軸方向間に磁気吸引部（メイン磁気ギャップ）が形成される。
なお、磁気吸引コア５には、ヨーク３１の開口端と磁気的に結合されるフランジ部が設けられる。このフランジ部は、磁気吸引コア５と別体で設けても良い。

第１磁気遮断部６は、磁気吸引コア５と磁気受渡コア７との間で直接磁束が流れるのを阻害する磁気飽和部であり、磁気抵抗の大きい薄肉部により形成されている。
具体的に、この第１磁気遮断部６は、ステータコア８の外周面に環状の溝を形成することで設けられた薄肉部であり、磁気遮断効果を高めるために、レーザ加工により多数の微細孔が全周に亘って設けられている。
なお、この実施例では、第１磁気遮断部６を磁気吸引コア５および磁気受渡コア７と同じ素材で設ける例を示すが、第１磁気遮断部６を別素材（非磁性部材）で設けて一体化しても良い。

磁気受渡コア７は、プランジャ４と径方向の磁束の受け渡しを行うものであり、磁気受渡コア７とプランジャ４との径方向間に磁気受渡し部（サイド磁気ギャップ）が形成される。
磁気受渡コア７の後端は、ヨーク３１と磁気的に結合される。なお、図面では、磁気受渡コア７の後端を、ヨーク３１のカップ底部（後側）の中心部に形成された挿入凹部に挿入して磁気結合を行う例を示すが、磁性体のリング部材を用いて磁気結合を行っても良い。

ヨーク３１は、コイル３の外周を覆う略カップ形状を呈した磁性体金属（例えば、鉄などの強磁性材料）であり、内部にリニアソレノイド１の構成部品を組み込んだ後、端部に形成された爪部をカシメることでスリーブ２１と強固に結合される。

コネクタ３２は、電磁油圧制御弁を制御する電子制御装置（図示しないＡＴ−ＥＣＵ）と接続線を介して電気的な接続を行う接続手段である。このコネクタ３２は、ボビンおよびコイル３をモールドする２次成形樹脂の一部によって形成されるものであり、樹脂製のコネクタ３２の内部にはコイル３の両端にそれぞれ接続されるターミナル端子３３が配置されている。

ここで、プランジャ４の後端とヨーク３１の底部との間の空間は、ヨーク３１および２次成形樹脂に形成された呼吸路Ｙを介して外部（自動変速機の内部空間）と連通する。
即ち、ステータコア８の後端の空間（プランジャ４の後端が触れる空間）は、呼吸路Ｙを介して外部に連通して、容積変動可能に設けられている。

〔実施例１の特徴技術〕
プランジャ４とシャフト９は、プランジャ４とシャフト９の直接的な磁束結合を阻害する磁気結合阻害手段１１を介して一体に設けられている。
この実施例の磁気結合阻害手段１１は、プランジャ４とシャフト９との間で直接磁束が流れるのを阻害する小径軸であり、プランジャ４およびシャフト９の同芯上に設けられている。

プランジャ４とシャフト９と磁気結合阻害手段１１を一体に設けた可動子の具体例は、プランジャ母材４ａ、シャフト母材９ａおよび磁気結合阻害手段１１を共通の素材（鉄）から削り出し、その表面に非磁性体よりなる薄いメッキ層Ｍを施したものである。
なお、以下の説明では、磁気結合阻害手段１１（磁性体金属より成る部位）の外径寸法をＤ１とする。

磁気吸引コア５は、その前端（第１磁気遮断部６から軸方向へ離れた部位に相当）に第２磁気遮断部１２が設けられている。
この第２磁気遮断部１２は、第１磁気遮断部６と同様、ステータコア８に形成された円環状の薄肉部であり、内周面は摺動穴１０の一部である。即ち、第２磁気遮断部１２の内周面は、他の摺動穴１０と連続し、且つ内径寸法も他の摺動穴１０と同径に設けられている。

プランジャ４は、略円柱形状を呈した磁性体製のプランジャ母材４ａの表面に非磁性の薄いメッキ層Ｍを施したものであり、プランジャ４の外周面には外径方向に突出する第１凸部１３が設けられている。
この第１凸部１３は、摺動穴１０の内周面に直接摺動するものであり、外周面の全周に亘って形成される環状凸部である。
また、第１凸部１３は、第１磁気遮断部６の軸方向範囲内において常に摺動するように設けられている。

第１凸部１３の具体的な構成は、プランジャ母材４ａの外周面に、外径方向へ突出する環状の膨出部（以下、第１凸部磁性体１３ａと称す）を設け、その表面にメッキ層Ｍを設けたものである。即ち、第１凸部１３は、「第１凸部磁性体１３ａ」＋「メッキ層Ｍ」によって設けられる。
そして、「第１凸部磁性体１３ａの径方向の突出量とメッキ層Ｍの厚み」によって、サイドフォースを抑えるために要求される「ステータコア８（具体的には、磁気受渡コア７）とプランジャ母材４ａとの径方向の非磁性距離」が設けられる。

なお、以下の説明では、
・第１凸部１３の外径寸法をＰ０、
・第１凸部磁性体１３ａの外径寸法をＰｘ
・磁気受渡コア７と径方向で対向するプランジャ母材４ａの外径寸法をＰ１、
・メッキ層Ｍの厚みをβ、
とする。
即ち、Ｐ０−Ｐｘ＝２Ｐβの関係に設けられる。

シャフト９は、上述したプランジャ４と同様、略円柱形状を呈した磁性体製のシャフト母材９ａの表面に非磁性のメッキ層Ｍを施したものであり、シャフト９の外周面には外径方向に突出する第２凸部１４が設けられている。
この第２凸部１４は、摺動穴１０の内周面に直接摺動する環状凸部である。
また、第２凸部１４は、第２磁気遮断部１２の軸方向範囲内において常に摺動するように設けられている。

第２凸部１４の具体的な構成は、シャフト母材９ａの外周面に、外径方向へ突出する環状の膨出部（以下、第２凸部磁性体１４ａと称す）を設け、その表面にメッキ層Ｍを設けたものである。即ち、第２凸部１４は、「第２凸部磁性体１４ａ」＋「メッキ層Ｍ」によって設けられる。
そして、「第２凸部磁性体１４ａの径方向の突出量とメッキ層Ｍの厚み」によって、サイドフォースを抑えるために要求される「ステータコア８（具体的には、磁気吸引コア５）とシャフト母材９ａとの径方向の非磁性距離」が設けられる。

なお、以下の説明では、
・第２凸部１４の外径寸法をＳ０、
・第２凸部磁性体１４ａの外径寸法をＳｘ
・磁気吸引コア５と径方向で対向するシャフト母材９ａの外径寸法をＳ１、
とする。

この実施例における摺動穴１０は、ステータコア８の軸芯において前後方向に貫通する円筒形状を呈する貫通穴であり、前端から後端に至る全範囲（両端に面取りが施される場合は、面取り部分を除く）において内径寸法が一定に設けられている。
そして、第１凸部１３の外径寸法Ｐ０と、第２凸部１４の外径寸法Ｓ０とは、同一寸法に設けられている。
即ち、
Ｓ０＝Ｐ０、
Ｓｘ＝Ｐｘ、
の関係に設けられている。

また、この実施例では、「磁気受渡コア７と径方向で対向するプランジャ母材４ａの外径寸法Ｐ１」と「磁気吸引コア５と径方向で対向するシャフト母材９ａの外径寸法Ｓ１」が同じに設けられている。
即ち、Ｐ１＝Ｓ１の関係に設けられている。

（実施例１の効果１）
この実施例のリニアソレノイド１は、上述したように、「プランジャ４、シャフト９、磁気結合阻害手段１１」を一体に設け、「プランジャ４に設けた第１凸部１３」と「シャフト９に設けた第２凸部１４」を摺動穴１０の内周面に直接摺動させる。
これにより、サイドフォースを抑えるために要求される径方向の非磁性距離を、第１凸部１３および第２凸部１４によって確保することができ、厚メッキを廃止して、メッキ層Ｍを薄く設けることができる。

このように、メッキ層Ｍを薄く設けることにより、メッキの処理時間を短くすることができる。
また、メッキ層Ｍを薄く設けることにより、メッキの厚みの誤差を小さく抑えることができる。具体的には、例えば、１０μｍのメッキ層Ｍを形成した場合、誤差が最大で２０％ほど生じても、厚みの誤差範囲を２μｍ以内に抑えることができる。これにより、メッキ後の研磨仕上げを廃止することができ、リニアソレノイド１の生産性を高めることができ、リニアソレノイド１のコストを抑えることができる。

（実施例１の効果２）
この実施例のリニアソレノイド１は、上述したように、第１凸部１３が、第１磁気遮断部６の軸方向範囲内で常に摺動する。
これにより、第１凸部１３には、磁束がほとんど流れなくなり、第１凸部１３におけるサイドフォースの発生を防ぐことができる。

同様に、この実施例の第２凸部１４は、第２磁気遮断部１２の軸方向範囲内で常に摺動する。
これにより、第２凸部１４には、磁束がほとんど流れなくなり、第２凸部１４におけるサイドフォースの発生を防ぐことができる。
また、第２磁気遮断部１２は、スプール弁２のデットスペース（軸部２７の周囲の空間内）に設けられるため、第２磁気遮断部１２を設けたことによって電磁弁が大型化する不具合が生じない。

（実施例１の効果３）
この実施例の第１凸部１３および第２凸部１４は、上述したように、全周に亘る環状凸部である。
これにより、第１、第２凸部１３、１４とステータコア８の接触面積を大きく確保することができ、長期に亘って第１、第２凸部１３、１４の摩耗を抑えることができる。即ち、第１、第２凸部１３、１４で摺動を行うものであっても、摩耗が抑えられるため、長期に亘ってリニアソレノイド１の信頼性を確保できる。

（実施例１の効果４）
この実施例のリニアソレノイド１は、上述したように、第１凸部１３および第２凸部１４を同径で設けるため、摺動穴１０の内部に容積変動室が形成されない。
これにより、従来技術においてプランジャ４に設けられていた呼吸孔Ａ（符号、図７参照）を廃止することができ、プランジャ４の外径寸法を小さくできる。その結果、コイル３の小径化が可能になり、リニアソレノイド１を小型化できる。

また、従来技術においてプランジャ４に設けられていた呼吸孔Ａ（符号、図７参照）は、軸方向に細く且つ長いため、加工コストの増加の要因になっていたが、この実施例では、呼吸孔Ａを廃止することで、リニアソレノイド１の製造コストを抑えることができ、結果的に電磁弁のコストを抑えることができる。

さらに、コイル３の通電時（コイル３が磁力を発生する際）に、磁気吸引コア５を流れる磁束Ｊ１とは別に、磁気吸引コア５とシャフト９との間でも磁束Ｊ２が流れる。
これにより、磁気吸引コア５の磁気飽和を抑制でき、磁気吸引コア５とプランジャ４との間に生じる磁気吸引力の低下を防ぐことができる。

［実施例２］
実施例２を、図３を参照して説明する。なお、以下の実施例において、上記実施例１と同一符号は、同一機能物を示すものである。
上記の実施例１では、「磁気受渡コア７と径方向で対向するプランジャ母材４ａの外径寸法Ｐ１」と「磁気吸引コア５と径方向で対向するシャフト母材９ａの外径寸法Ｓ１」を同径に設ける例を示した（Ｐ１＝Ｓ１）。

これに対し、この実施例２は、「磁気受渡コア７と径方向で対向するプランジャ母材４ａの外径寸法Ｐ１」を「磁気吸引コア５と径方向で対向するシャフト母材９ａの外径寸法Ｓ１」より小さく設けるものである（Ｐ１＜Ｓ１）。
このように設けることで、プランジャ４と磁気受渡コア７の径方向の非磁性距離を大きくでき、「磁気受渡コア７とプランジャ４の間で生じるサイドフォース」を低減することができる。これにより、電磁弁のヒステリシスを小さくすることができる。

［実施例３］
実施例３を、図４を参照して説明する。
この実施例３は、上記実施例１の構成（Ｐ１＝Ｓ１）に加え、プランジャ母材４ａにおける磁気結合阻害手段１１に近い側（第２凸部磁性体１４ａの前側）の外周に、「磁気受渡コア７と径方向で対向するプランジャ母材４ａの外径寸法Ｐ１」より小径の縮径部３４を設けたものであり、この縮径部３４は、プランジャ４の同芯上に設けられている。

なお、以下の説明では、縮径部３４の外径寸法をＰ２とする。
この縮径部３４の外径寸法Ｐ２は、もちろん磁気結合阻害手段１１の外径寸法Ｄ１より大径なものである。
即ち、Ｐ１＞Ｐ２＞Ｄ１の関係に設けられている。

このように、プランジャ母材４ａの前端に縮径部３４を設けることにより、「磁気吸引コア５」と「磁気吸引コア５の内側に侵入する部位のプランジャ母材４ａ」との径方向距離を大きくすることができ、「磁気吸引コア５とプランジャ４の間で生じるサイドフォース」を低減することができる。これにより、電磁弁のヒステリシスを小さくすることができる。

［実施例４］
実施例４を、図５を参照して説明する。
この実施例４は、上記実施例２の構成（Ｐ１＜Ｓ１）に、上記実施例３で示した縮径部３４を設けるものである。

即ち、
（ｉ）「磁気受渡コア７と径方向で対向するプランジャ母材４ａの外径寸法Ｐ１」を「磁気吸引コア５と径方向で対向するシャフト母材９ａの外径寸法Ｓ１」より小さく設けるとともに（Ｐ１＜Ｓ１）、
（ｉｉ）プランジャ母材４ａにおける磁気結合阻害手段１１に近い側（第２凸部磁性体１４ａの前側）の外周に、縮径部３４を設けたものである。

これにより、「磁気受渡コア７とプランジャ４の間で生じるサイドフォース」と「磁気吸引コア５とプランジャ４の間で生じるサイドフォース」の両方を低減することができ、電磁弁のヒステリシスを、より小さく抑えることができる。

［実施例５］
実施例５を、図６を参照して説明する。
上記の各実施例では、プランジャ４およびシャフト９の表面に薄いメッキ層Ｍを施す例を示した。
これに対し、この実施例５は、メッキ層Ｍを廃止したものである。即ち、第１、第２凸部磁性体１３ａ、１４ａが、そのまま第１、第２凸部１３、１４として用いられるものである。

具体的に、この実施例では、プランジャ４およびシャフト９を構成する素材に、磁気飽和密度の高い部材（例えば、磁気ステンレスなど）を用いて、メッキ層Ｍを廃止するものである。
このようにメッキ層Ｍを廃止しても、上述した実施例の効果を得ることができる。
なお、この実施例５を上述した他の実施例と組み合わせて用いても良いことは言うまでもない。

上記の実施例３、４では、縮径部３４の一例として一定径の円柱形状に設ける例を示したが、前方へ向けて縮径するテーパ形状であっても良い。

上記の各実施例では、第１、第２凸部１３、１４を周方向に連続する環状凸部に設ける例を示したが、周方向へ分離して設けても良い。即ち、複数の突起（例えば、周方向に分離した３つの突起など）によって、第１凸部１３と第２凸部１４を設けても良い。
その場合は、第１凸部１３における周方向の隙間（突起と突起の間）や、第２凸部１４の周方向隙間（突起と突起の間）を、呼吸路として利用しても良い。

上記の各実施例では、「第１凸部１３の外径寸法Ｐ０」と「第２凸部１４の外径寸法Ｓ０」を同径に設ける例を示したが、異なる径で設けても良い（Ｐ０≠Ｓ０）。
その場合は、摺動穴１０の内部に容積変動室が形成されるが、上述したように、第１、第２凸部１３、１４の少なくとも一方を複数の突起で設けて、突起と突起の周方向間を呼吸路に利用して容積変動室の容積変動を可能にしても良い。

上記の各実施例では、リニアソレノイド１がスプール弁２を駆動する例を示したが、ボール弁など他の形式のバルブを駆動するものであっても良い。

上記の実施例では、自動変速機の油圧制御装置に用いられる電磁弁に本発明を適用する例を示したが、自動変速機とは異なる用途の電磁弁に本発明を適用しても良い。

上記の実施例では、リニアソレノイド１の駆動する駆動対象物の一例としてバルブ（実施例ではスプール弁２）を駆動する例を示したが、バルブとは異なる他の駆動対象物を直接あるいは間接的に駆動するリニアソレノイド１に本発明を適用しても良い。

１ リニアソレノイド
３ コイル
４ プランジャ
４ａ プランジャ母材（プランジャにおける磁性部材）
５ 磁気吸引コア
６ 第１磁気遮断部
７ 磁気受渡コア
８ ステータコア
９ シャフト
９ａ シャフト母材（シャフトにおける磁性部材）
１０ 摺動穴
１１ 磁気結合阻害手段
１２ 第２磁気遮断部
１３ 第１凸部
１４ 第２凸部
３４ 縮径部

Claims (7)

1. 通電により磁力を発生するコイル（３）と、
   軸方向へ摺動自在に支持されるプランジャ（４）と、
   前記コイル（３）の発生する磁力により前記プランジャ（４）を軸方向へ吸引する磁気吸引コア（５）、前記プランジャ（４）と径方向の磁気の受け渡しを行う磁気受渡コア（７）、および前記磁気吸引コア（５）と前記磁気受渡コア（７）の間に設けられて前記磁気吸引コア（５）と前記磁気受渡コア（７）の直接的な磁束結合を阻害する第１磁気遮断部（６）が一体に設けられるステータコア（８）と、
   このプランジャ（４）に生じる吸引力を前記ステータコア（８）の外部に伝えるシャフト（９）と、
   を備えるリニアソレノイド（１）において、
   前記プランジャ（４）と前記シャフト（９）は、前記プランジャ（４）と前記シャフト（９）の直接的な磁束結合を阻害する磁気結合阻害手段（１１）を介して一体に設けられ、
   前記プランジャ（４）の外周面には、外径方向へ突出する第１凸部（１３）が設けられ、
   前記シャフト（９）の外周面には、外径方向へ突出する第２凸部（１４）が設けられ、
   前記第１凸部（１３）と前記第２凸部（１４）が、前記ステータコア（８）の内側に設けられた摺動穴（１０）の内周面に直接摺動することを特徴とするリニアソレノイド。
2. 請求項１に記載のリニアソレノイド（１）において、
   前記第１凸部（１３）は、前記第１磁気遮断部（６）の軸方向範囲内で摺動することを特徴とするリニアソレノイド。
3. 請求項１または請求項２に記載のリニアソレノイド（１）において、
   前記磁気吸引コア（５）は、前記第１磁気遮断部（６）から軸方向へ離れた部位に磁路の形成を阻害する第２磁気遮断部（１２）を備え、
   前記第２凸部（１４）は、前記第２磁気遮断部（１２）の軸方向範囲内で摺動することを特徴とするリニアソレノイド。
4. 請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載のリニアソレノイド（１）において、
   前記第１凸部（１３）および前記第２凸部（１４）は、環状凸部であることを特徴とするリニアソレノイド。
5. 請求項１〜請求項４のいずれか１つに記載のリニアソレノイド（１）において、
   前記第１凸部（１３）および前記第２凸部（１４）は、外径寸法が同径に設けられて前記摺動穴（１０）の内周面に直接摺動することを特徴とするリニアソレノイド。
6. 請求項５に記載のリニアソレノイド（１）において、
   前記プランジャ（４）における磁性部材をプランジャ母材（４ａ）、
   前記第１凸部（１３）における前記プランジャ母材（４ａ）の外径寸法をＰｘ、
   前記磁気受渡コア（７）と径方向で対向する前記プランジャ母材（４ａ）の外径寸法をＰ１、
   前記シャフト（９）における磁性部材をシャフト母材（９ａ）、
   前記第２凸部（１４）におけるシャフト母材（９ａ）の外径寸法をＳｘ、
   前記磁気吸引コア（５）と径方向で対向する前記シャフト母材（９ａ）の外径寸法をＳ１と定義した場合、
   Ｐｘ＝Ｓｘ、
   Ｐ１＜Ｓ１、
   に設けられることを特徴とするリニアソレノイド。
7. 請求項１〜６のいずれか１つに記載のリニアソレノイド（１）において、
   前記プランジャ（４）における磁性部材は、前記磁気結合阻害手段（１１）に近い側の外周に縮径部（３４）を備えることを特徴とするリニアソレノイド。

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