JP2013165053A5 - - Google Patents
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- 239000010408 film Substances 0.000 claims 14
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- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 claims 4
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000012789 electroconductive film Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 1
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012120331A JP5488849B2 (ja) | 2011-06-24 | 2012-05-26 | 導電性膜およびその製造方法並びにこれに用いるスパッタリングターゲット |
PCT/JP2012/003895 WO2012176407A1 (ja) | 2011-06-24 | 2012-06-14 | 導電性膜およびその製造方法並びにこれに用いるスパッタリングターゲット |
CN201280024915.5A CN103548421B (zh) | 2011-06-24 | 2012-06-14 | 导电性膜及其制造方法以及用于该制造方法的溅射靶 |
KR1020137033967A KR101453712B1 (ko) | 2011-06-24 | 2012-06-14 | 도전성 막, 그의 제조 방법, 및 이것에 사용되는 스퍼터링 타겟 |
TW101122079A TWI532856B (zh) | 2011-06-24 | 2012-06-20 | A conductive film and a method for producing the same, and a sputtering target used therefor |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011140538 | 2011-06-24 | ||
JP2011140538 | 2011-06-24 | ||
JP2012004941 | 2012-01-13 | ||
JP2012004941 | 2012-01-13 | ||
JP2012120331A JP5488849B2 (ja) | 2011-06-24 | 2012-05-26 | 導電性膜およびその製造方法並びにこれに用いるスパッタリングターゲット |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014032701A Division JP5720816B2 (ja) | 2011-06-24 | 2014-02-24 | 導電性膜 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013165053A JP2013165053A (ja) | 2013-08-22 |
JP2013165053A5 true JP2013165053A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2014-01-23 |
JP5488849B2 JP5488849B2 (ja) | 2014-05-14 |
Family
ID=47422265
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012120331A Expired - Fee Related JP5488849B2 (ja) | 2011-06-24 | 2012-05-26 | 導電性膜およびその製造方法並びにこれに用いるスパッタリングターゲット |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5488849B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
KR (1) | KR101453712B1 (enrdf_load_stackoverflow) |
CN (1) | CN103548421B (enrdf_load_stackoverflow) |
TW (1) | TWI532856B (enrdf_load_stackoverflow) |
WO (1) | WO2012176407A1 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013077547A (ja) * | 2011-09-15 | 2013-04-25 | Mitsubishi Materials Corp | 導電性膜及びその製造方法並びに導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
JP5612147B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2014-10-22 | 三菱マテリアル株式会社 | 導電性膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
JP6384147B2 (ja) * | 2013-07-11 | 2018-09-05 | 三菱マテリアル株式会社 | 半透明Ag合金膜 |
JP2015079739A (ja) * | 2013-09-13 | 2015-04-23 | 三菱マテリアル株式会社 | 有機el用反射電極膜、積層反射電極膜、及び、反射電極膜形成用スパッタリングターゲット |
JP6375658B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2018-08-22 | 三菱マテリアル株式会社 | 積層膜 |
JP5850077B2 (ja) * | 2014-04-09 | 2016-02-03 | 三菱マテリアル株式会社 | Ag合金膜及びAg合金膜形成用スパッタリングターゲット |
JP2016040411A (ja) * | 2014-08-12 | 2016-03-24 | 三菱マテリアル株式会社 | 積層膜、積層配線膜及び積層配線膜の製造方法 |
JP6398624B2 (ja) * | 2014-11-06 | 2018-10-03 | Tdk株式会社 | 透明導電体及びタッチパネル |
JP6020750B1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-11-02 | 三菱マテリアル株式会社 | 透明導電配線、及び、透明導電配線の製造方法 |
JP5975186B1 (ja) | 2015-02-27 | 2016-08-23 | 三菱マテリアル株式会社 | Ag合金スパッタリングターゲット及びAg合金膜の製造方法 |
JP6748611B2 (ja) | 2017-07-12 | 2020-09-02 | 株式会社Joled | 有機el素子、有機el表示パネル、および、有機el表示パネルの製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2627532B2 (ja) * | 1988-04-27 | 1997-07-09 | 京セラ株式会社 | ロウ付け用材料 |
JPH02253593A (ja) * | 1989-03-27 | 1990-10-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 発光素子 |
JPH0997676A (ja) * | 1995-10-02 | 1997-04-08 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2003217375A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 電気接点およびそれを用いたブレーカー |
JP4105956B2 (ja) * | 2002-08-08 | 2008-06-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 光反射膜およびこれを用いた液晶表示素子、ならびに光反射膜用スパッタリングターゲット |
DE10327336A1 (de) * | 2003-06-16 | 2005-01-27 | W. C. Heraeus Gmbh & Co. Kg | Legierung und deren Verwendung |
JP3924308B2 (ja) * | 2004-07-15 | 2007-06-06 | 株式会社神戸製鋼所 | レーザーマーキング用再生専用光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
CN100373485C (zh) * | 2004-07-15 | 2008-03-05 | 株式会社神户制钢所 | 银合金反射膜、溅射目标及使用该膜的光学信息记录介质 |
JP4455204B2 (ja) * | 2004-07-27 | 2010-04-21 | 株式会社フルヤ金属 | 銀合金、そのスパッタリングターゲット材及びその薄膜 |
JP4377861B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2009-12-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 光情報記録媒体用Ag合金反射膜、光情報記録媒体および光情報記録媒体用Ag合金反射膜の形成用のAg合金スパッタリングターゲット |
FR2913146B1 (fr) | 2007-02-23 | 2009-05-01 | Saint Gobain | Electrode discontinue, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et leurs fabrications |
-
2012
- 2012-05-26 JP JP2012120331A patent/JP5488849B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2012-06-14 KR KR1020137033967A patent/KR101453712B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2012-06-14 WO PCT/JP2012/003895 patent/WO2012176407A1/ja active Application Filing
- 2012-06-14 CN CN201280024915.5A patent/CN103548421B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2012-06-20 TW TW101122079A patent/TWI532856B/zh not_active IP Right Cessation