JP2013164409A - ポジショニングシステム、および、その方法とそれを使用する照準パターン - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポジショニングシステムを提供する。照準パターンをステージ上に設置する工程と、電子ビーム装置が集光電子ビームを生成し、照準パターンをスキャンし、且つ、反射する電子信号を生成する工程と、電子検出ユニットが、反射する電子信号を検出する工程と、制御ユニットが電子信号を分析して、クロック信号を生成すると共に、このクロック信号に従って、照準パターン、および、電子ビーム装置の相対位置を決定し、ステージの変位を調整する工程と、を含む。ポジショニング方法も提供され、ステージが旋転する、または、多移動軸の作動時の機械ポジショニングドリフト問題を克服する。
【選択図】図1
Description
Claims (23)
- ポジショニングシステムであって、
ステージ上に設置され、複数で、且つ、放射状に配列された徐々に広がる標記を有し、相隣する前記徐々に広がる標記の間にピッチを有する照準パターンと、
集光電子ビームを生成する電子ビーム装置と、
前記電子ビーム装置に連接されて、前記集光電子ビームを調整して、前記照準パターンに二次元パターンスキャンを実行し、反射する電子信号を生成するスキャンユニットと、
前記反射する電子信号を検出する電子検出ユニットと、
前記ステージ、前記電子ビーム装置、前記スキャンユニット、および、前記電子検出ユニットに連接される制御ユニットと、
を含み、
前記集光電子ビームは、前記二次元パターンスキャンにより、前記徐々に広がる標記と前記ピッチにより生成される前記反射する電子信号を読み取り、前記制御ユニットにより分析してクロック信号を生成し、且つ、前記制御ユニットは、前記クロック信号中の複数のパルスの幅に従って、前記ステージの変位を調整することを特徴とするポジショニングシステム。 - 前記各徐々に広がる標記は扇形部分であることを特徴とする請求項1に記載のポジショニングシステム。
- 前記照準パターンは4個の前記扇形部分を含むことを特徴とする請求項2に記載のポジショニングシステム。
- 前記照準パターンは3個の前記扇形部分を含むことを特徴とする請求項2に記載のポジショニングシステム。
- 前記徐々に広がる標記の少なくとも1つの表面は、少なくとも一本の凹槽を形成していることを特徴とする請求項1から4いずれかの一項に記載のポジショニングシステム。
- 前記二次元パターンスキャンは円形、または、楕円形軌跡スキャンで、且つ、前記円形、または、楕円形軌跡スキャンは前記照準パターンを読み取ることを特徴とする請求項1から5いずれかの一項に記載のポジショニングシステム。
- 前記反射する電子信号は、二次電子信号、および、後方散乱電子信号ことを特徴とする請求項1から6いずれかの一項に記載のポジショニングシステム。
- 照準パターンであって、ポジショニングシステム中に応用され、前記照準パターンはステージ上に置かれ、且つ、前記ステージ上に設置されたサンプルと一定距離を保持し、前記照準パターンは、
放射状に配列され、且つ、複数の徐々に広がる標記を含み、相隣する前記徐々に広がる標記の間にピッチを有することを特徴とする照準パターン。 - 前記徐々に広がる標記は、放射中心を基準とし、前記放射状配列をなし、且つ、前記各徐々に広がる標記は、前記放射中心から離れるにつれて、徐々に広くなることを特徴とする請求項8に記載の照準パターン。
- 前記各徐々に広がる標記は扇形部分であることを特徴とする請求項8又は9に記載の照準パターン。
- 前記照準パターンは4個の前記扇形部分を含むことを特徴とする請求項10に記載の照準パターン。
- 前記照準パターンは3個の前記扇形部分を含むことを特徴とする請求項10に記載の照準パターン。
- 前記徐々に広がる標記の少なくとも1つの表面に、少なくとも1つの凹槽を形成していることを特徴とする請求項8から12いずれかの一項に記載の照準パターン。
- 前記徐々に広がる標記は等間隔のピッチの放射状配列であることを特徴とする請求項8から13いずれかの一項に記載の照準パターン。
- ステージポジショニング方法であって、
ステージ上に、放射状に配列され、且つ、複数の徐々に広がる標記を含む照準パターンを固定する工程と、
集光電子ビームにより、前記照準パターンに二次元パターンスキャンを実行し、且つ、反射する電子信号を生成する工程と、
前記反射する電子信号を検出する工程と、
前記反射する電子信号を分析し、クロック信号を生成すると共に、前記照準パターン、前記二次元パターンスキャン、および、前記クロック信号中の複数のパルスの幅に従って、前記ステージの変位を調整する工程と、
を含み、相隣する前記徐々に広がる標記の間にピッチを有することを特徴とするステージポジショニング方法。 - 前記二次元パターンスキャンは、円形、または、楕円形軌跡スキャンで、且つ、前記円形、または、楕円形軌跡スキャンは、前記照準パターンを読み取ることを特徴とする請求項15に記載のステージポジショニング方法。
- 前記反射する電子信号は、二次電子信号、および、後方散乱電子信号を含むことを特徴とする請求項15又は16に記載のステージポジショニング方法。
- 前記徐々に広がる標記は、放射中心を基準とし、前記放射状配列をなし、且つ、前記各徐々に広がる標記は、前記放射中心から離れるにつれて、徐々に広くなることを特徴とする請求項15から17いずれかの一項に記載のステージポジショニング方法。
- 前記各徐々に広がる標記は扇形部分であることを特徴とする請求項15から18いずれかの一項に記載のステージポジショニング方法。
- 前記照準パターンは4個の前記扇形部分を含むことを特徴とする請求項19に記載のステージポジショニング方法。
- 前記照準パターンは3個の前記扇形部分を含むことを特徴とする請求項19に記載のステージポジショニング方法。
- 前記徐々に広がる標記の少なくとも1つの表面に、少なくとも1つの凹槽を形成していることを特徴とする請求項15から21いずれかの一項に記載のステージポジショニング方法。
- 前記徐々に広がる標記は、等間隔のピッチ放射状配列であることを特徴とする請求項15から22いずれかの一項に記載のステージポジショニング方法
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