JP2013158743A - 分離膜の洗浄方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】本発明が解決しようとする課題は、分離膜の素材であるポリスルホン系樹脂や芳香族ポリアミド樹脂に対する攻撃性が低く、且つ分離膜に付着した細菌や微生物等のバイオ汚れあるいはバイオフィルムを効果的に殺菌洗浄でき、更に無機物の洗浄にも効果がある分離膜の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の分離膜の洗浄方法は、過酢酸(A)、過酸化水素(B)、酢酸(C)、ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)及び水(E)を含有する洗浄剤組成物で洗浄することを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、限外濾過膜や逆浸透膜等の分離膜に付着する細菌や微生物の汚れや、無機物の汚れを効率的に洗浄し、更に、従来の殺菌洗浄方法と比較して分離膜の素材を劣化させることがない分離膜の洗浄方法に関する。
限外濾過膜や逆浸透膜等の分離膜は工業的に広く用いられているが、中でも逆浸透膜の利用は世界中に拡大しており、例えば、海水の淡水化、超純水の製造、果汁等の濃縮、医薬品等に利用されている。これらの用途の中では海水の淡水化への利用が圧倒的に多いと言われ、膜の素材としては芳香族ポリアミド系樹脂やポリスルホン系樹脂が主に使用されている。
限外濾過膜や逆浸透膜は非常にデリケートな膜であり、例えば、海水等を処理する際には、活性炭処理等で菌類や不純物を除去することが必須である。しかしそのような除去を施しても、長期間処理を継続していると分離膜上に様々な汚れが付着し、これらの汚れによって膜の保有する細孔が閉塞され、分離膜の性能を低下させる要因となる。汚れの種類は、カルシウム等の無機汚れ、有機物の汚れ、あるいは細菌や微生物関連するバイオ汚れ等があり、中でもバイオ汚れを放置しておくと細菌等が繁殖し、バイオフィルムと呼ばれる細菌等の集合体を形成して分離膜の性能回復が困難になる場合がある。また、果汁濃縮等の食品や医薬品分野においては、バイオ汚れが衛星管理上の重大な問題になる。このような問題から分離膜の性能を維持するためには、これらの汚れを洗浄して除去することが必要であり、従来から様々な方法が提案されている(例えば、特許文献1〜4を参照)。
特許文献1には、炭素数3及び4の脂肪族飽和アルコールの中から選ばれた少なくとも1種を含有して成る油分汚染膜用洗浄剤が開示されている。また、特許文献2には、分離膜に対して、界面活性剤、1価又は多価アルコール、有機酸とトリアルキルアミンとの塩等の有機物水溶液を接触させて未反応残存物を除去する洗浄方法が開示されている。
更に、特許文献3、4には、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素含有化合物や水酸化ナトリウム等の強アルカリを洗浄剤成分として分離膜を洗浄する方法が開示されている。
特開平4−193333号公報 特開2000−024470号公報 特開平8−141375号公報 特開2000−070685号公報
しかしながら、特許文献1に開示された油分汚染膜用洗浄剤は、油分の除去には優れるものの、バイオ汚れの細菌や微生物等を殺菌洗浄することはできない。また、特許文献2に開示されている洗浄方法では、有機物水溶液で分離膜を洗浄しているが、バイオ汚れの細菌や微生物等を殺菌洗浄することはできない。
また、特許文献3、4に開示されている洗浄方法では、次亜塩素酸ナトリウムや水酸化ナトリウムは殺菌効果を持っており、特に次亜塩素酸ナトリウムは強力な殺菌効果によって、バイオ汚れやバイオフィルムを殺菌洗浄することができる。しかしながら、次亜塩素酸ナトリウムや水酸化ナトリウムは、分離膜の素材であるポリスルホン系樹脂や芳香族ポリアミド樹脂を攻撃し、これらの樹脂を分解することが知られている。そのため、洗浄による長時間の接触や、高温での洗浄、あるいは殺菌洗浄効果を上げるために次亜塩素酸ナトリウムや水酸化ナトリウムの濃度を上げると、樹脂の劣化が急速に進んでしまい、樹脂の孔が拡大して分離膜としての機能が失われてしまう。一方、樹脂の劣化を回避するため、短時間あるいは低温での処理、また次亜塩素酸ナトリウムや水酸化ナトリウムを低濃度で使用すると、殺菌を完全に行うことができない。よって通常は、一定の条件で次亜塩素酸ナトリウム等と分離膜との接触時間を定め、その時間を超過したら分離膜を廃棄する処理がとられている。しかし、廃棄までの時間が短く、頻繁に分離膜を交換する必要があるため、費用的にも労力的にも使用者の負担が大きかった。更に、次亜塩素酸ナトリウムは、無機物に対する洗浄力がほとんどないという欠点がある。分離膜に付着する汚れの種類は使用状況により様々に変化するが、炭酸カルシウムや硫酸カルシウム等の無機汚れが付着することはよく知られたことである。しかしながら次亜塩素酸ナトリウムにはこれらの無機汚れを洗浄する能力が乏しく、無機汚れが大量に付着した場合には別の洗浄剤で別途洗浄することが求められる。そこで市場からは、殺菌洗浄力が高く分離膜への攻撃性が低くいことに加え、無機物に対する洗浄力も高い分離膜用の洗浄方法が求められていた。
従って、本発明が解決しようとする課題は、分離膜の素材であるポリスルホン系樹脂や芳香族ポリアミド樹脂に対する攻撃性が低く、且つ分離膜に付着した細菌や微生物等のバイオ汚れあるいはバイオフィルムを効果的に殺菌洗浄でき、更に無機物の洗浄にも効果がある分離膜の洗浄方法を提供することにある。
そこで本発明者等は鋭意検討し、分離膜の殺菌洗浄に効果的な洗浄方法を見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、過酢酸(A)、過酸化水素(B)、酢酸(C)、ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)及び水(E)を含有する洗浄剤組成物で洗浄することを特徴とする分離膜の洗浄方法である。
本発明の効果は、分離膜の素材であるポリスルホン系樹脂や芳香族ポリアミド樹脂に対する攻撃性が低く、且つ分離膜に付着した細菌や微生物等のバイオ汚れあるいはバイオフィルムを効果的に殺菌洗浄でき、且つ無機物の洗浄にも効果がある分離膜の洗浄方法を提供菌や微生物等のバイオ汚れあるいはバイオフィルムを効果的に殺菌洗浄できる分離膜の洗浄方法を提供したことにある。
本発明の分離膜の洗浄方法は、過酢酸(A)、過酸化水素(B)、酢酸(C)、ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)及び水(E)を含有する洗浄剤組成物で分離膜を洗浄することを特徴とするものである。
なお、本発明の対象となる分離膜は、2以上の物質を含有する溶液から、選択的に目的物を濾別することができる膜であれば孔(膜に備わる穴)の大きさや素材は限定されず、本発明の分離膜の洗浄方法を利用することができる。ここで、分離膜の孔の大きさが小さいほど洗浄の必要性が高くなり、比例して洗浄が困難になるが、本発明の洗浄方法は孔の小さな分離膜の洗浄に対応することができる。更に、分離膜に使用される特定の素材に対する攻撃性が低いことから、例えば、精密濾過膜、限外濾過膜、逆浸透膜等の孔の大きさが概ね100nm以下であって、酢酸セルロースやポリスルホン系樹脂、芳香族ポリアミド等の樹脂で構成された分離膜の洗浄に好適に使用することができる。これらの中でも、洗浄剤に攻撃されやすいポリスルホン系樹脂、芳香族ポリアミドの樹脂が好ましく、更に分離膜の孔が小さい限外濾過膜や逆浸透膜が好ましく、逆浸透膜がより好ましい。これらの分離膜の用途としては、細菌やウイルス等の除去を目的とした浄水の製造、果汁や化学品の濃縮、純水や超純水の製造、及び海水の淡水化等が挙げられる。
本発明の分離膜の洗浄方法に使用する洗浄剤組成物は、過酢酸(A)、過酸化水素(B)、酢酸(C)、ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)及び水(E)を含有するものである。(A)〜(E)の各成分の配合量は特に規定されないが、過酢酸(A)1質量部に対して、過酸化水素(B)が1.5〜4質量部、酢酸(C)が10〜20質量部、ノニオン界面活性剤及び又はアニオン界面活性剤(D)が0.1〜3質量部の割合で配合されていることが好ましく、過酢酸(A)1質量部に対して、過酸化水素(B)が2〜3質量部、酢酸(C)が12〜16質量部、ノニオン界面活性剤及び又はアニオン界面活性剤(D)が0.5〜2.5質量部の割合で配合されていることがより好ましい。
ここで、過酸化水素(B)の量が1.5質量部より少ないと殺菌力が低下する場合があり、4質量部を超えると分離膜の材質である樹脂を劣化させる場合があるために好ましくない。
また、酢酸(C)の量が10質量部より少ないと汚れを除去する効果が低下する場合があり、20質量部を超えると酢酸の臭いが激しくなるため取扱いが困難になる場合があるために好ましくない。
更に、ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)の量が0.1質量部より少ないと汚れを除去する効果が低下する場合や、殺菌力が低下する場合があり、3質量部を超えると長期間の保存により配合した過酢酸や過酸化水素が分解して殺菌力が低下する場合や、使用時の泡立ちが問題になる場合があるために好ましくない。
ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)は、洗浄効果と共に殺菌効果を向上させる目的で配合される。これらの界面活性剤の中でも、洗浄時の泡立ちが少ないことからノニオン界面活性剤が好ましく、殺菌の相乗効果の高いことから下記の一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤がより好ましい:
Figure 2013158743
(式中、Rは、炭素数8〜18の炭化水素基を表し、Rは、炭素数2又は3のアルキレン基を表し、nは、6〜20の数を表す。)
一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤のRは、炭素数8〜18の炭化水素基を表す。こうした炭化水素基としては、例えば、オクチル基、イソオクチル基、2級オクチル基、ノニル基、イソノニル基、2級ノニル基、デシル基、イソデシル基、2級デシル基、ウンデシル基、イソウンデシル基、2級ウンデシル基、ドデシル基、イソドデシル基、2級ドデシル基、トリデシル基、イソトリデシル基、2級トリデシル基、テトラデシル基、イソテトラデシル基、2級テトラデシル基、ヘキサデシル基、イソヘキサデシル基、2級ヘキサデシル基、オクタデシル基、イソオクタデシル基、2級オクタデシル基等のアルキル基;オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタデセニル基等のアルケニル基;キシリル基、クメニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、デシルフェニル基、ウンデシルフェニル基、ドデシルフェニル基等のアリール基が挙げられる。これらの中でも、アルキル基が好ましく、炭素数8〜15のアルキル基がより好ましく、炭素数9〜13のアルキル基が更に好ましい。炭素数が8未満の炭化水素基であると、良好な洗浄力が得られない場合や殺菌力が低下する場合があるために好ましくない。また、炭素数が18より大きな炭化水素基であると、洗浄剤組成物内への溶解性が低下して洗浄剤組成物内に溶解しない場合や長期の保存で洗浄剤組成物が分離する場合があるために好ましくない。
一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤のRは、炭素数2又は3のアルキレン基を表す。こうしたアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、1−メチルエチレン基、2−メチルエチレン基が挙げられる。Rはn個の繰り返し構造を有し、複数個あるRは同一でも異なっていてもよいが、n個あるRの50モル%以上がエチレン基であることが好ましく、80モル%以上がエチレン基であることがより好ましく、n個のR全てがエチレン基であることが更に好ましい。Rが炭素数4以上の場合は、洗浄剤組成物内への溶解性が低下して洗浄剤組成物内に溶解しない場合があるために好ましくない。
一般式(1)で表されるノニオン界面活性剤のnは、6〜20の数を表すが、6〜15の数が好ましい。nの数が6未満の場合は、洗浄剤組成物内への溶解性が低下して洗浄剤組成物内に溶解しない場合があり、20より大きい場合は、配合した過酢酸や過酸化水素が過剰に分解し、過酸化水素や過酢酸濃度が低下して殺菌性や洗浄性に悪影響を与える場合があるために好ましくない。
上記の洗浄剤組成物を製品として運搬等する場合は、運搬効率等の面から過酢酸等の濃度が高い方が好ましいが、濃度が高すぎると過酢酸(A)や過酸化水素(B)が分解する場合や、容器の劣化が起こる場合がある。よって製品としては、組成物全量に対する過酢酸(A)の濃度が0.5〜2.5質量%であることが好ましく、1〜2.5質量%がより好ましい。
一方、洗浄時には上記の製品を一定の濃度に水(E)で希釈して使用すればよいが、希釈し過ぎると殺菌効果や洗浄効果が得られない場合があり、洗浄時の過酢酸等の濃度が高いと、濃度に見合った効果が得られない場合や、洗浄時に刺激臭が発生する場合があるために好ましくない。よって使用時には、洗浄剤組成物全量に対する過酢酸(A)の濃度が0.005〜0.1質量%であることが好ましく、0.01〜0.07質量%がより好ましい。
次に、分離膜の具体的な洗浄方法について説明する。
本発明の分離膜の洗浄方法は、上記の洗浄剤組成物と分離膜を接触あるいは分離膜中を通過させることができれば特に限定されず、例えば、汚れ等が付着した分離膜外面のみ上記の洗浄剤組成物を流動させて汚れ等を殺菌洗浄する方法、分離膜の外面から内面に向けて上記の洗浄剤組成物を通過させる方法(定常運転の水の流れ)、分離膜内面から外面に向けて上記の洗浄剤組成物を通過させる方法(定常運転とは逆の流れ)、あるいはこれらの方法の組み合わせが挙げられる。中でも、汚れ等の除去率が高いことから分離膜内面から外面に向けて上記の洗浄剤組成物を通過させる方法あるいは当該方法を組み合わせることが好ましい。なお、分離膜内面から外面に向けて上記の洗浄剤組成物を通過させる場合、洗浄廃液を循環させると剥離した汚れが再度分離膜に付着する場合があるので、当該洗浄方法の場合は廃液を廃棄または廃液を濾過等して汚れを除去した後に循環洗浄することが好ましい。
洗浄剤組成物の濃度は、特に規定されるものではないが、濃度が高いと殺菌効果は良好になるが分離膜が劣化しやすくなる。また、濃度が低いと分離膜は劣化しにくくなるが、完全に殺菌させるために長時間の殺菌洗浄が必要となる。これらはいずれも洗浄時間を調節することで解決できるが、洗浄時間が短すぎると工業的な管理が困難になり、洗浄時間が長すぎると経済的に不利益になる。そのため洗浄剤組成物に配合された過酢酸(A)の濃度が洗浄剤組成物全量に対して0.005〜0.1質量%で洗浄することが好ましく、0.01〜0.07質量%がより好ましい。
また、洗浄温度も特に規定されるものではないが、10〜35℃程度の常温での洗浄が好ましい。10℃未満の場合は、十分に殺菌できない場合があり、また洗浄剤組成物を冷却する必要があるため経済的に好ましくない。また、35℃より高くなると分離膜の劣化が進んでしまう場合があり、また洗浄剤組成物を加温する必要があるため経済的に好ましくない。
更に、洗浄時間も特に規定されるものではないが、洗浄剤組成物の濃度及び分離膜の種類や汚れの種類や量に応じて1分〜5時間程度洗浄すればよいが、長時間の洗浄は分離膜の劣化を招くため、なるべく短時間での洗浄が好ましい。洗浄は汚れの除去が完了した時点で直ちに停止し、次いで濯ぎ工程により過酢酸等の成分を除去すればよい。濯ぎに使用する溶液は特に規定はなく、水による水洗や水にメタノールやエタノール等の低級アルコールやグリコール類を加えたものでの洗浄が挙げられるが、水による洗浄(水洗)にて濯ぎをすることが好ましい。この濯ぎ工程で残留する過酢酸等の洗浄剤組成物の各成分を除去し、分離膜の劣化の進行を防ぐことができる。なお洗浄時間の見極めは、洗浄時間ごとに分離膜の汚れをチェックし、ある程度のデータが得られた後は、そのデータから導き出した洗浄時間で定常的な洗浄を行えばよい。
次に、洗浄剤成分と分離膜の劣化及び殺菌効果の関係について説明する。
本発明の分離膜の洗浄方法に使用される洗浄剤組成物の主要な殺菌成分は過酢酸である。一方、従来から分離膜の殺菌成分としてよく使用されるのは次亜塩素酸塩である。これらの殺菌成分は、いずれも分離膜の素材であるポリスルホン系樹脂や芳香族ポリアミド樹脂を劣化させる作用がある。例えば、芳香族ポリアミド樹脂であれば、樹脂内のアミド結合に次亜塩素酸塩の塩素成分が作用してアミド結合を分解してしまう。また、過酢酸であればアミド結合を酸化することでアミド結合を分解してしまう。これらの分解により、樹脂の高分子が部分的に切断され、分離膜の孔が拡大して分離膜本来の機能が失われる。
一般に芳香族ポリアミド樹脂やその複合樹脂からなる分離膜を殺菌洗浄する場合、洗浄剤の主成分が次亜塩素酸ナトリウムであれば、樹脂が分解されるため洗浄をすることができないか、あるいは1回の洗浄で当該分離膜を廃棄しなければならないと言われている。そのため分離膜を長期間使用するには現実的な殺菌洗浄方法ではない。
洗浄剤の主成分が過酢酸の場合、次亜塩素酸塩と同様の濃度及び時間でアミド結合を分解すると考えられるが、過酢酸は次亜塩素酸塩の3倍程度の殺菌力を持つと言われ、次亜塩素酸塩の30質量%程度の濃度で同様の殺菌力を有する。よって、過酢酸による洗浄であれば、数回程度の洗浄に分離膜は耐えることができるが、数回程度の洗浄で分離膜を廃棄することは、現実的に満足できるものではない。
一方、本発明の洗浄方法に使用される洗浄剤組成物は、各成分の相乗効果により、殺菌効果は過酢酸よりも数倍程度大きくなり、低濃度での洗浄が可能になる。この結果、分離膜の洗浄が10回程度可能になるため分離膜の洗浄方法としては極めて現実的なものとなる。
本発明の分離膜の洗浄方法は、上記のように殺菌効果に優れ、且つポリアミド樹脂等を劣化させにくい性質を持っている。一方、分離膜に付着する汚れには、殺菌が必要な細菌や微生物等以外にたんぱく質等の有機物や炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、カルシウムシリケート及びマグネシウムシリケート等の無機物がある。本発明の分離膜の洗浄方法による洗浄は、殺菌効果以外にこうした有機物や無機物の汚れも効果的に除去することが可能であり、特に、次亜塩素酸ナトリウムでは除去することのできない無機物の汚れを効果的に除去することができる。
以下、本発明の分離膜の洗浄方法を実施例により更に具体的に説明する。
<試験1:膜劣化試験>
プレフィルター、活性炭フィルター及びポリアミド複合樹脂製のモジュール(品名:ESPA−FREE500L:日本ウォーターシステム株式会社製)を取り付けた逆浸透精製水製造システムMH500CX(日本ウォーターシステム株式会社製)を使用して、25℃の温度で水道水から精製水を製造した。使用開始時の透過水量が1.3L/分になるように圧力を調整したところで機械の運転を停止した。各試験の圧力は、試験の順番等でプレフィルターや活性炭フィルターの状態が多少異なるため一定ではないが、膜の入口圧はおよそ0.6Mpaであった。
運転停止後、MH500CX内の水を除去し、更に活性炭フィルターを取り外し、表1及び表2に記載の試験洗浄剤を、定常運転と同様の方向に0.1L/分の流量で30分間通液した。更に15分間逆方向に同様の流量で通液して逆浸透膜を洗浄し、次いで試験洗浄液を排液した後、純水で濯いで試験洗浄液を完全に除去した。その後活性炭フィルターを取り付けて、使用開始時と同じ圧力で精製水を製造して透過水量を測定した。膜の劣化により逆浸透膜の孔が大きくなると透過水量が多くなる。試験結果を表3に記す。なお、洗浄時に活性炭フィルターを取り外した理由は、洗浄成分が活性炭に吸着してしまい、正確な試験ができなくなるためである。
<試験2:殺菌力の測定試験>
表1及び表2に記載の試験洗浄液を三角フラスコに60ml取って40℃に保ち、そこに接種菌数2×10cfu/mlに調整したセレウス菌液(レーベンジャパン株式会社製のSuspension型)を0.3mlを入れて均一に混合した後、2分、5分、10分、15分、20分、25分、30分及び35分毎に三角フラスコから1mlずつを採取し、還元性物質であるチオ硫酸ナトリウム0.135g、SCDLPブイヨン培地(栄研化学株式会社製)0.342gの入った水溶液9mlの中に入れ、35℃インキュベーターにて24分培養した。チオ硫酸ナトリウムは、過酢酸及び次亜塩素酸ナトリウムの殺菌活性を停止させる効果がある。試験液の殺菌性能が良好であれば、菌との接触時間が短くても菌は死滅するので、5〜35分のいずれの時間で菌が死滅したかを見れば試験洗浄液の殺菌性を評価することができる。試験液で菌が死滅すると菌は培養されず、菌が残っていると菌は培養されるが、菌が培養されると培地が白濁し、菌が培養されないと培地は透明のままであることから目視にて菌の生死を確認した。試験結果を表3に記す。
<試験3:無機物の洗浄試験>
無機物の汚れとして炭酸カルシウムを使用し、製造した試験洗浄液100gに対する炭酸カルシウムの溶解度を測定した。具体的には、試験洗浄液100gを25℃にし、炭酸カルシウムを10mg添加して5分間撹拌し、溶解したら次の10mgを添加して同様に撹拌した。溶液が白濁した時点で試験を終了し、白濁の直前の添加量を溶解量とした。なお、炭酸カルシウムの量が2000mg添加された時点で実験は終了し、溶解量が大きいほど洗浄力が大きいと判断した。試験結果を表3に記す。
Figure 2013158743
界面活性剤1:ドデシル硫酸ナトリウム
界面活性剤2:ポリオキシプロピレン(30)ポリオキシエチレン(10)共重合体(プ
ルロニック型界面活性剤)
界面活性剤3:ドデシルアルコールエチレンオキシド9モル付加物(一般式(1)におい
て、R=ドデシル基、R=エチレン基、n=9)
Figure 2013158743
*比較品8の濃度は、界面活性剤3の濃度が3000ppm
Figure 2013158743
本発明品と次亜塩素酸ナトリウムを使用した比較品1〜3を比べると、明らかに本発明品の殺菌力が高く、更に無機物の溶解性も高い。比較品1のみ本発明品と同等の殺菌力を持つが、次亜塩素酸ナトリウムの濃度が高いため、分離膜の分解が進んで試験1の流量が上がっている。また、本発明品と比較品5〜7を比べると、界面活性剤の相乗効果により殺菌力が向上していることがわかる。比較品5及び6は本発明品と同等の殺菌力を持つが、過酢酸の濃度が高いため、分離膜の分解が進んで試験1の流量が上がっている。本発明品の結果より、過酸化水素や酢酸は殺菌洗浄において大きな効果があることがわかるが、次亜塩素酸ナトリウムに過酸化水素を混合すると分解が生じ、次亜塩素酸ナトリウムに酢酸を混合すると塩を生成するためこれらは混合することができない。なお、比較品2と比較品7は同等の殺菌力を持つが、比較品2の次亜塩素酸ナトリウムの濃度が高いことを考慮すれば、過酢酸は次亜塩素酸ナトリウムの3倍程度の殺菌力があると推定される。
一方、本発明品は3つの試験でいずれも良好な性能を示しているが、中でも界面活性剤3を使用したものは、他の界面活性剤を使用したものより、殺菌力を向上させる相乗効果が顕著に現れた。なお、分離膜の洗浄には直接関係ないが、本発明品1と本発明品7は洗浄後の廃液の泡立ちが多く、工業的に使用するには廃液処理時に消泡剤等の使用が必要である。泡立ちが高くなった理由は、本発明品1はアニオン界面活性剤を使用したためであり、本発明品7は界面活性剤の添加量が多いためである。

Claims (5)

  1. 過酢酸(A)、過酸化水素(B)、酢酸(C)、ノニオン界面活性剤及び/又はアニオン界面活性剤(D)及び水(E)を含有する洗浄剤組成物で洗浄することを特徴とする分離膜の洗浄方法。
  2. 過酢酸(A)1質量部に対して、過酸化水素(B)が1.5〜4質量部、酢酸(C)が10〜20質量部、ノニオン界面活性剤及び又はアニオン界面活性剤(D)が0.1〜3質量部であることを特徴とする請求項1に記載の分離膜の洗浄方法。
  3. (D)成分がノニオン界面活性剤であることを特徴とする請求項1又は2に記載の分離膜の洗浄方法。
  4. 洗浄時の過酢酸濃度が洗浄剤組成物全量に対して0.005〜0.1質量%であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の分離膜の洗浄方法。
  5. 分離膜の素材が、酢酸セルロース、ポリスルホン系樹脂、芳香族ポリアミドから選択される1種又は2種以上の混合物であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の分離膜の洗浄方法。
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