JPS58137487A - パルプ排液の処理方法 - Google Patents

パルプ排液の処理方法

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JPS58137487A
JPS58137487A JP1801482A JP1801482A JPS58137487A JP S58137487 A JPS58137487 A JP S58137487A JP 1801482 A JP1801482 A JP 1801482A JP 1801482 A JP1801482 A JP 1801482A JP S58137487 A JPS58137487 A JP S58137487A
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JP
Japan
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membrane
semipermeable membrane
aqueous solution
separating power
polysulfone
Prior art date
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Pending
Application number
JP1801482A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisashi Ikehata
池端 永
Tsukasa Ochiumi
落海 司
Toshiichi Kuroda
黒田 敏一
Keisuke Nakagome
中込 敬祐
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58137487A publication Critical patent/JPS58137487A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06Organic material
    • B01D71/66Polymers having sulfur in the main chain, with or without nitrogen, oxygen or carbon only
    • B01D71/68Polysulfones; Polyethersulfones

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Paper (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はパルプ排液の処理方法に関する。
パルプのり新工場から生じる排水には多量のリグニンが
含まれ、黒液のようす濃厚排液は濃縮、燃焼処理され、
一方、漂白排液のよう1よイ1)″薄排液は一般に凝集
沈殿や生物処理がなされている。しかし、凝集沈殿や生
物処理によれば大量のスラッジが生じ、その脱水、焼却
には多情の薬品とエネルギーを要し、処理費用が高価で
ある。このため、比較的希薄なパルプ排液を膜処理する
ことが提案されているか、前記したようにパルプ排液は
リグニンを含有するため、膜表面にゲル層を形成したり
、或いは膜が目詰覧りを起こしたりしゃすく、この結果
、膜処理の間における膜の透過性能の低下が著しい。特
に、アルカリ性パルプ排液に用いる膜には、耐アルカリ
性か要求されると共に、パルプ排液が冒温で排出される
ので耐熱性も要求され、従って、疎水性重合体からなる
半透膜が多く用いられるか、しかし、ポリスルホン等に
代表されるこのような疎水性重合体膜は、特にリグニン
等の溶質が膜面に吸湯しやす(、しかも、一旦膜面を汚
染したこのような有機性物質は、従来知られている方法
によっては容易にこれを除去することができない。
本発明は上記した問題を1怖決するためになされたもの
であって、リグニンを含むアルカリ性パルプ排液の処理
において、膜汚染により低下した膜分離特性、特に透水
速度を1[11復させる方法を提供することを目的とす
る。
本発明は、アルカリ性パルプ排液をポリスルホン、スル
ホン化ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフッ
化ビニリデン、ポリアクリロニトリル及び塩素化ポリ塩
化ビニルから選ばれる重合体からなる半透膜により処理
する方法において、膜分離特性か低下したに記半透膜を
界面活性剤と酸化性物質とを含有する水溶液によりp)
fか10以上、温度が55°C以上の条件で処理して、
膜分離特性を回復させることを特徴とする。
本発明において、アルカリ性パルプ排液は黒液、ウオッ
シャ−排液、スクリーン排液、晒バルブアルカリ処理排
液等を含み、そのpHは通常、8以上であって、リグニ
ンを主成分とする種々の溶質を含有している。しかも、
アルカリ性パルプ排液は高温で排出されることも多いの
で、用いる半透膜は耐アルカIJ +Iと共に耐熱性を
有することを要し、従って、ポリスルポン、スルホン化
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフッ化ビニ
リデン、ポリアクリロニトリル、塩素化ポリ塩化ビニル
等の疎水性重合体からなる半透膜が好ましく用いられる
。特に、ポリスルホン又はポリエーテルスルホンからな
る半透膜が好ましい。
また、用いる半透膜は大量のバルブ排液を実用的な速度
で処理し得るように、純水透水量が0.25m”/ m
’ ”日・Kg/cat以上、好ましくはl、Q m’
/ m’−日−Ky/c1以上であり、タンパク質に対
する分両分子惰が4000〜100000、好ましくは
5000〜25ooOテある。尚、上記分画分子用−は
限外p過膜が95%の除去率を有するタンパク質の最小
の分子附として定義される値である。
本発明において用いる界面活性剤はアニオン性界面活性
剤、両26界面活性剤及びノニオン性界面活性剤から選
はれる少な(とも一種であり、100重量部の55°C
の水に対して少な(とも0.001重佃部の溶解性を有
することが好ましい。
本発明において好ましく用いられるアニオン性界面活性
剤は一般式 %式%(1) (但し、1.1は炭素数8〜40の脂肪族、脂環族又は
芳香族炭化水素基を、A−は−000−1−0SOs−
1−5o8−及び−POa−から選ばれる陰イオン基を
、また、M+は陽イオンを示も]で表わされ、ここに妃
はエステル基、エーテル基、アミド基、水酸基等を有し
ていてもよ(、M+は具体的にはNa+、Ll+等のア
ルカリ金属イオンやアンモニウムイオン等である。この
ようなアニオン性界面活性剤の好ましい具体例としては
ROOONa (Rは炭素数8〜18の脂肪族炭化水素
基)1.R80aNa (Rは同、1−)、RO(OT
(ac!F(go)nsOaNa (Rは炭素数8〜1
8の脂肪族炭化水素基、nは1〜6の整数2.000R
’ ROOOOHgOH8OaNa (R及cy xt’は
炭素数4〜8の1 脂肪族炭化水素基)、(RO)gPONa  (Rは炭
素数5〜18の脂肪族炭化水素基)等を挙げることかで
きる。
また、本発明において好ましく用いられる両性界面活性
剤は一般式 %式% R8、R4及びR5の−っは炭素数8〜2oの脂肪族、
脂環族又は芳香族炭化水素基を示し、他は水素又は炭素
数1〜8の脂肪族、脂環族又は芳香族炭化水素基を示す
。)で表わされ、ここに上記いずれの炭化水素基もエス
テル基、エーテル基、アミド基、水酸基、カルボ牛シル
基等を含有していてもよい。このような両性界面活性剤
の好ましい具体例として 同上】等を挙げることかできる。
本発明において好ましく用いられるノニオン性界面活性
剤は、一般式 %式%(110 (但し、It’は炭素数8〜20の脂肪族、脂環族又は
芳香族炭化水素基を示し、Aは一〇−1−COO−及び
−C0NI(−から選ばれる二価有機基を示し、n及び
mは2≦n≦30.0≦rn(28及び4≦n 十m≦
30の条件を満たす整数を示す。フ、 一般式 ( %式%( (但し、p、 q及びrは15≦p=so及び2o=p
+q+r、<、80の条件を満たす整数を示す。)、又
は一般式 (但し、H,1は炭素数8〜20の脂肪族、脂環族又は
芳香族炭化水素基を示し、S、1及びUはそれぞれ独立
に0〜5の整数を示す。]、 で表わされ、これらノニオン性界面活性剤の好ましい具
イ杢例としては □ 整数)、OzgHz5−0(OHzOHzO)nH(n
は同上)、Rooo(OH1IOJ(、’zO)。H(
Rは炭素数12〜18の脂1IIi族炭化水素基、nは
同上)、 とかできる。
本発明においては、膜洗浄用水溶液における界面活性剤
の濃度は通常0.001−10亀惰%、好ましくは0.
1〜5車量%である。濃度が小さすぎると、膜分離特性
の回復効果に乏しく、濃度か10重量%を越えて用いて
も、上記範囲での効果と実質的に変わらないので経済的
でないからである。
本発明において用いる酸化性物質としては具体的には塩
素、次亜塩素酸、亜塩素酸、塩素酸、過塩素酸、二酸化
塩素、過酸化水素、オゾン、及び過酢酸、過プロピオン
醒等の有機過酸やこれらの塩か挙りられるが、好抜しく
は次亜塩素酸す) IJウム及び過酸化水素が用いられ
る。膜洗浄用水溶液における酸化性物質の濃度は膜の汚
染状況によって適宜に選ばれるか、通常、0.001〜
5モル/l、好ましくは0.01〜3モル/lである。
特に本発明において好ましく用い得る次亜塩素酸ナトリ
ウムの場合、有効塩素調度では5〜10000 ppm
、好ましくは100〜2000 ppmである。
本発明において、1−記のように界面活性剤と酸化性物
質とを含有する泄浄用水溶液により、膜性^IE特個、
特に透水速10′の低下した半透膜を洗浄処理するに際
して、pnは10以上、温度は55°C以上とされる。
処理pT(が高い程、特にリグニンの溶解性が増すため
、リグニンを主成分とする膜汚染物質の除去が効果的に
なるので好ましいか、実用上、最適にはl015〜13
である。処理pHか10より小さいときは膜分離特性が
殆ど1問復しない。
pH調整のためのアルカリとしては水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等が好ましく用いられ
るが、これらに限定されるものではない。また、処理温
度も高い程、膜汚染物質の溶解性が増し、除去されやす
い。好ましくは6o〜100℃である。
半透膜の処理は、具体的には、例えば膜をモジュールか
ら取りはずして洗浄用水溶液に浸漬したり、別にモジュ
ールに取りつけて洗浄用水溶液を循環通液すればよい。
また、パルプ排液処理モジュールに面接洗浄用水溶液を
循環通液してもよい。
処理時間は膜汚染の程度によっても異なるが、通常、5
分以上であり、好ましくは10分乃至24時間である。
尚、本発明の方法は半透膜の形状を問わず、平膜、中す
糸模、スパイラル状膜に適用し得ることはいうまでもな
(、また、洗浄用水溶液は必要に応シてエチレンジアミ
ン四酢i? (EDTA、 ) 、ホIJリン酸ナトリ
ウム、ケイ酸ソーダ等のビルダー(洗浄助剤)を含有し
ていてもよい。
不発明の方法は、以上のようにアルカリ性パルプ排液の
膜処理において、膜の分離特性が低下したとき、界面活
性剤と酸化性物質とを含有する水溶液により、高pH且
つ高温でその膜を処理することにより、膜分離特性を回
復させるので、膜特性を1好に維持しつつ、パルプ排液
を処理することができる。
以下に本発明の実施例を挙げる。尚、実施例において、
〃゛浄回復率(%)は、透水mの低下した半透膜を洗浄
用水溶液で処111j l、たとき、で定義される値で
ある。
実施例1〜3 クラフトバルブ晒アルカリ排r& < COD 230
011!/1. pH11,0)をポリスルホン半透膜
を備えたl/2インチ径管状脱モジュール(日東電気工
業■製N’l”U−3508、膜面積2.3 m’ )
に運転圧力8に9/c(流速2.6 m 7秒、温度約
50”C,ill!ll率20倍の条件下で300時間
にわたって連続して循環供給し、膜処理を行なった。用
いた半透膜の透水量は、温度25°C1圧力2 ”l 
/ c+Jの通水条件下、水を通じて使用当初200 
l1m”・時であったものが、上記運転後には50 l
1m’・時に低下した。
この透水量の低下した半透膜をモジュールから取りはず
して、別の小型モジュールに取りつけ、ネオゲンR(第
一工業製薬味アルキルベンゼンスルホン酸ソーダ)を0
.5重掛%と、第1表に示す濃度の次亜塩素酸ナトリウ
ムとを含存するpl] 12.5の水溶液をf4s 1
表に示す温度、圧力2 Kg/ c++rで2時間循環
通液して、膜を洗浄した。洗浄後、温度25°C1圧力
2K11 / clで水を膜モジュールに供給し、透水
量から洗浄回復率を求めた。結果を9E1表に示す。比
較のために、次亜塩素酸ナトリウムを含まないほかは上
記と同じ洗浄液で膜を洗浄し、洗浄回復率を測定した。
結果を併せて第1表に示すように、界面活性剤のみの水
溶液による洗浄で第1表 は洗浄回復率が非常に小さい。
実施例4〜6 Ail記実施例と同様に透水量か低下したポリスルホン
半透膜を小型モジュールに取付け、ネオゲンRO65重
量%と次亜塩素酸す) IJウム(有効塩素It 50
0 ppm )を含有するpT(12,5の洗浄用水溶
液により、圧力2に9/cJ、第2表に示す温度で2時
間循環通液して膜を洗浄した。洗浄回復率を第2表に示
す。比較のために、低温で洗浄した結果を併せて示すが
、低温では洗浄回復率が著しく小さい。
第2表 実施例7〜9 前記実施例と同様に透水量の低下したポリスルホン半透
膜を小型モジュールに取付け、全温度チェア(ブロクタ
ー・アンド・ギャンブル・号ンホーム社、アルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムを主体とする洗剤)0.5重
M%と、次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素濃度500 
ppm )を含有し、M度60°C,第3表に示すpT
(を有する洗浄液により、圧力2 K97 calで2
時間循環通液して股をδ)浄した。比較のために低いp
T(で洗浄した結果を併せて示すが、p、Hが9以下で
は膜の透水速度は殆ど第3表 回復しない。
実施例10〜14 前記実施例と同様に透水量の低下したポリスルホン半透
膜を小型モジュールに取付け、第4表に示す濃度のネオ
ゲン80 (第−工業製薬味製アルキルベンゼンスルホ
ン酸ナトリウムンと過酸化水素2重用%とを含有するp
T−T 12.5の洗浄液により、温度60”C1圧力
2〜/C4で2時間循環通液して膜を洗浄した。比較の
ために界面活性剤を含有しない水溶液で膜を洗浄した結
果を併せて示すか、膜第4表 の透水i4は殆ど回復しない。
実施例15〜20 前記実施例と同様にして透水量か低下したポリスルホン
半透膜を小型のモジュールに取付け、第5表に示す界面
活性剤と次亜塩素酸ナトリウム(有効塩素濃度500 
ppm )を含有するpT(12,5の洗浄液により温
度60°Cで2時間循環通液して膜を洗浄した。比較例
として界面活性剤を含有しない洗浄液で膜を洗浄した結
果を併せて示す。
実施例21〜26 クラフトバルブのウオッシャ−排液I COD 900
001n9/12.固形分13%、pn 12.0 )
をポリスルホン膜を備えた1/2径管状膜モジユール(
日東電気工業■製N’I’U−30201) 18B、
膜面積0.78 m’ )により、運転圧力8に7/C
rI、流速3.2 m 7秒、温度50°Cの条件下で
長時間、2倍濃縮する処理を行なった。使用当初の膜の
透水量は温&25°C1圧力2KSI / c+Jの条
件で水を供給したとき、2501/m”・時であったか
上記運転後には6017m’・時に低下した。
ネオゲンR0,3重量%、有効塩素濃度500 ppm
の次亜塩素酸ナトリウム、及び第6表に示す金属イオン
封鎖剤とビルダーを含有し、pHを12.5に調整した
洗浄液により上記透水速度の低下した半透膜を60″C
で2時間洗浄した。股の洗浄回復率を第6表に示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルカリ性パルプ排液をポリスルホン、スルホン
    化ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフッ化ビ
    ニリデン、ポリアクリロニトリル及び塩素化ポリ塩化ビ
    ニルから選ばれる重合体からなる半透膜により処理する
    方法において、膜分離特性が低下した]二記半透膜を界
    面活性剤と酸化性物質とを含有する水溶液によりpT(
    が10以t1温度が55℃以上の条件で処理して、膜分
    離特性を回復させることを特徴とするパルプ排液の処理
    方法。
  2. (2)酸化性物質か次亜塩素酸塩又は過酸化水素である
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のパルプ排
    液の処理方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62171788A (ja) * 1986-01-24 1987-07-28 Nitto Electric Ind Co Ltd パルプ排水の処理方法
JPS62176507A (ja) * 1986-01-31 1987-08-03 Japan Organo Co Ltd 限外濾過膜の回生処理方法
US7537718B2 (en) 2004-10-13 2009-05-26 3M Innovative Properties Company Hydrophilic polyethersulfone membrane and method for preparing same
JP2013158743A (ja) * 2012-02-08 2013-08-19 Adeka Corp 分離膜の洗浄方法
JP2017056461A (ja) * 2011-07-06 2017-03-23 三菱レイヨン株式会社 濾過膜洗浄剤および濾過膜の洗浄方法

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