JP2013142741A - 反射防止フィルム製造用原版 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材と、前記基材上に好ましくは電着法により形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成されたアルミニウム及び/又はその酸化物からなる薄膜とを備え、前記薄膜の表面に可視光領域の波長以下の周期の微細孔が形成されており、前記薄膜の表面の表面粗さRaが50nm以上500nm以下である。これにより、可視光領域の波長以下の周期の微細孔が、上記表面粗さの表面上に形成され、いわゆるモスアイフィルムに防眩性を付与できる。
【選択図】図1
Description
前記薄膜の表面に可視光領域の波長以下の周期の微細孔が形成されており、
前記薄膜の表面の表面粗さRaが50nm以上500nm以下である反射防止フィルム製造用原版。
前記絶縁層上にアルミニウムの薄膜を形成する工程と、
前記薄膜の表面に可視光領域の波長以下の周期の微細孔が形成する工程と、を備える反射防止フィルム製造用原版の製造方法。
まず、図1(a)及び(b)に示すように、基材1の表面に電着法により絶縁層2を形成する。
基材1としては、上述した絶縁層2及び薄膜3を形成して、反射防止フィルム製造用原版として用いることができる程度の自己支持性をするものであれば特に限定されるものではない。基材は単層であってもよく2層以上の多層でもよい。具体的には最表面にニッケルなどの金属層を有するアルミニウム製パイプなどが例示できる。金属層の形成方法は、一般的な金属層の形成方法と同様とすることができ、具体的にはスパッタ法、蒸着法、めっき法等を挙げることができる。
絶縁層2は、上記のように基材1の平滑な表面に電着法により形成される。電着は例えば特公平6−76680に記載されているような従来公知の条件で行うことができる。絶縁層2を構成する材料としては、具体的にはアクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、などの有機樹脂が例示でき、電着可能な極性を有していれば特に限定されないが、本発明においては、絶縁性、密着性という観点からアクリル系樹脂が特に好ましい。絶縁層2の厚さは上記特性が維持できればよく特に限定されないが、1μm以上20μm以下が例示できる。ここで表面凹凸を有する絶縁層2の厚さとは塗布硬化後の基材1との差分をマイクロメータで測定した10点平均厚さを意味する。
次に、図1(c)に示すように、絶縁層2の表面25に電着法によりアルミニウムの薄膜3を形成する。アルミニウムは酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易であるので本発明に好適に用いられる。ここでアルミニウムにはアルミニウム合金も含まれる。
最後に、図1(d)に示すように、薄膜3の表面35に陽極酸化法、具体的には陽極酸化とエッチングとを交互に行うことにより、表面35に微細孔31を形成して本発明の反射防止フィルム製造用原版が得られる。この際、微細孔31が形成される表面35付近は酸化されて酸化アルミニウムとなる。本発明における「絶縁層上に形成されたアルミニウム及び/又はその酸化物からなる薄膜」とはこのような、絶縁層/アルミニウム層/酸化アルミニウム層(表面に微細孔有)のような多層構成を含んでいることを意味するものである。
図2はこのような陽極酸化法の一例によって形成された薄膜3の拡大図であり、その表面35aには多数の微細孔31が規則的に形成されている。実際には表面35には上記の表面粗さRaが存在するが、拡大図のために模式的に表面35を直線で表している。
本発明の反射防止フィルム製造用原版(以下、単に原版ともいう)は、光透過性基板上に塗布されたUV硬化樹脂などと圧着することにより、表面35aの形状がUV硬化樹脂側表面に賦型転写され反射防止層となり、その後に樹脂をUV硬化して原版から剥離することにより製造される。
2 … 絶縁層
3 … 薄膜
10 … 反射防止フィルム製造用原版
25、35、35a … 表面
31 … 微細孔
Claims (8)
- 基材と、前記基材上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成されたアルミニウム及び/又はその酸化物からなる薄膜とを備え、
前記薄膜の表面に可視光領域の波長以下の周期の微細孔が形成されており、
前記薄膜の表面の表面粗さRaが50nm以上500nm以下である反射防止フィルム製造用原版。 - 前記絶縁層が電着法により形成されている請求項1記載の反射防止フィルム製造用原版。
- 前記絶縁層の表面の表面粗さRaが50nm以上500nm以下である請求項1又は2に記載の反射防止フィルム製造用原版。
- 前記絶縁層がアクリル系樹脂である請求項1から3のいずれかに記載の反射防止フィルム製造用原版。
- 前記絶縁層と前記薄膜との間に密着強化層を更に備える請求項1から4のいずれかに記載の反射防止フィルム製造用原版。
- 前記基材の形状がスリーブ形状である請求項1から5のいずれかに記載の反射防止フィルム製造用原版。
- 基材上に電着法により表面粗さRaが50nm以上500nm以下の絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層上にアルミニウムの薄膜を形成する工程と、
前記薄膜の表面に可視光領域の波長以下の周期の微細孔が形成する工程と、を備える反射防止フィルム製造用原版の製造方法。 - 請求項1から6のいずれかに記載の反射防止フィルム製造用原版を用いて転写することにより、光透過性基板と、前記光透過性基板上に形成され、表面に可視光領域の波長以下の周期で形成された微細凹凸を有し、かつ、表面粗さRaが50nm以上500nm以下である反射防止層とを有する、反射防止フィルムの製造方法。
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