JP2013137357A - 広幅偏光板、広幅偏光板の製造方法及び液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明の課題は、偏光板リワーク時の破断がなく、大型画面サイズの液晶表示装置に用いてもコーナームラの発生や視認性の劣化のない広幅な偏光板を提供することである。
【解決手段】少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、該偏光子がポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする広幅偏光板。
【選択図】なし
【解決手段】少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、該偏光子がポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする広幅偏光板。
【選択図】なし
Description
本発明は広幅偏光板、広幅偏光板の製造方法及び液晶表示装置に関する。
偏光板の一般的な構成は、例えば一軸延伸されかつヨウ素染色されたポリビニルアルコールフィルム(以下、PVAフィルムと略す。)からなる偏光子の両面に、セルローストリアセテートフィルムからなる保護フィルムが、ポリビニルアルコールのような粘着剤を介して貼合されたものである。
該偏光板に用いられる偏光子は、PVAフィルムを長手方向(MD方向)に延伸することによって、長手方向に吸収軸を有する長尺の偏光子ロールとして使用されている。
一方、VA型液晶表示装置の視野角を改善する目的で、セルロースエステル系フィルムやノルボルネン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等を、その遅相軸が幅手方向(TD方向ともいう)になるように幅手方向に延伸処理を行い、広幅な位相差フィルム(光学補償フィルムともいう)を生産することが知られている。
上記作製されたPVAフィルムと位相差フィルムを用いて、該位相差フィルムの遅相軸が該偏光子の吸収軸に対し直交するように貼合することによって、視野角を拡大する偏光板が生産できる。この際、長尺状の偏光子と長尺状の位相差フィルムを、幅を合わせてロールtoロールで貼合する生産性の向上した偏光板の製造方法が知られている。
ところで近年液晶テレビ等の液晶表示装置は画面サイズが大型化する傾向にあり、それに従って偏光板自体も大型化が求められているが、上記のような偏光板の製造方法では、PVAフィルムの原反幅で偏光板の大きさが決定されてしまうため、広幅化に限界があった。また、広幅なPVAフィルムを流延幅を大きくして製造しようとすると、広幅な流延装置を使う必要であり、装置が大型化して生産上高価なものとなる。
一方、特許文献1には、テンター方式によって幅手方向に延伸する広幅なPVAフィルムからなる偏光子を提供する技術が開示されている。
上記広幅な偏光子を用いる偏光板の場合、該偏光子の吸収軸が長手方向ではなく幅手方向にあるため、長手方向に遅相軸を有する広幅な位相差フィルムを貼合する必要がある。
位相差フィルムの樹脂材料としては、例えば、セルロースエステルやノルボルネン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、アモルファスポリオレフィン等の樹脂があるが、長手方向に遅相軸を有する広幅な位相差フィルムを得るために、これらの樹脂を用いて長手方向に一軸延伸した位相差フィルムを用いた場合、偏光板のリワーク時に破断しやすいことが判明した。
また、作製した広幅な偏光板を大型テレビ等の液晶表示装置に用いた場合に、コーナームラの発生や視認性の劣化が見られ、改善が必要であることが分かった。
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は偏光板リワーク時の破断がなく、大型画面サイズの液晶表示装置に用いてもコーナームラの発生や視認性の劣化のない広幅偏光板を提供することである。また、該広幅偏光板の安定な製造方法を提供することにあり、さらに該広幅偏光板用いた視認性の良好な大画面テレビ等の液晶表示装置を生産性よく提供することにある。
本発明者は、上記課題を解決すべく検討した結果、ポリビニルアルコールフィルムを幅手方向に延伸した広幅な偏光子と、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、幅手方向、長手方向の二軸に延伸して遅相軸が長手方向にあり、かつ特定の位相差を付与した広幅な位相差フィルムとを貼合することで、偏光板リワーク時の破断がなく、大型画面サイズの液晶表示装置に用いてもコーナームラの発生や視認性の劣化のない広幅偏光板を提供できることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
1.少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、
該偏光子がポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、
該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする広幅偏光板。
該偏光子がポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、
該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする広幅偏光板。
式(I):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
2.前記セルロースアシレートが、アセチル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるジアセチルセルロースであることを特徴とする前記第1項に記載の広幅偏光板。
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
2.前記セルロースアシレートが、アセチル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるジアセチルセルロースであることを特徴とする前記第1項に記載の広幅偏光板。
3.前記位相差フィルムが、二糖類の糖エステル化合物、ポリエステル系化合物、及び位相差上昇剤の少なくとも1種を含有することを特徴とする前記第1項又は第2項に記載の広幅偏光板。
4.前記第1項〜第3項のいずれか一項に記載の広幅偏光板を、液晶テレビの液晶セルに対してバックライト側に用いることを特徴とする液晶表示装置。
5.前記第1項〜第3項のいずれか一項に記載の広幅偏光板の製造方法であって、
前記位相差フィルムを、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg+20℃以上の範囲の温度で幅手方向に延伸した後に、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg±20℃以内の範囲の温度で長手方向に延伸して、遅相軸を長手方向に付与し、かつ下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲となるように二軸延伸することを特徴とする広幅偏光板の製造方法。
前記位相差フィルムを、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg+20℃以上の範囲の温度で幅手方向に延伸した後に、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg±20℃以内の範囲の温度で長手方向に延伸して、遅相軸を長手方向に付与し、かつ下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲となるように二軸延伸することを特徴とする広幅偏光板の製造方法。
式(I):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
本発明の上記手段により、偏光板リワーク時の破断がなく、大型画面サイズの液晶表示装置に用いてもコーナームラの発生や視認性の劣化のない幅2100mm以上の広幅偏光板を提供することができる。また、該広幅偏光板の安定な製造方法を提供することができる。さらに本発明の広幅偏光板用いることによって、視認性の良好な大画面テレビ等の液晶表示装置を生産性よく提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
本発明者の検討によれば、幅手方向に吸収軸がある広幅な偏光子に貼合して光学補償するには長手方向に遅相軸がある広幅な位相差フィルムであることが必要であるが、前述した樹脂材料を用いて長手方向にのみ一軸延伸された位相差フィルムを用いる場合、長手方向に対して幅手方向の弾性率が低くなりやすいため、偏光板リワーク時に弾性率の低い幅手方向に破断が生じたり、該偏光板を液晶表示装置に装着した場合に幅手方向、長手方向でフィルム耐久性に差が生じることから、特に画面端部でコーナームラと呼ばれる偏光ムラが発生したりするものと推測された。
したがって本発明に係る位相差フィルムは、幅手方向に延伸した後長手方向に延伸する二軸延伸によって、幅手、長手両方向の弾性率の差を小さくなるように整え、かつ二軸延伸によって相対的に弾性率を高くしながら、延伸処理適性の高い特定の材料を用いて特定の延伸条件によって延伸を行うことによって、リワーク時の幅手、長手両方向の引き裂き強度を高め、偏光板リワーク時の破断のない広幅偏光板を得ることができる。
また、二軸延伸によって、幅手、長手方向の湿熱による収縮率も同程度にし、かつ相対的に弾性率を高くできることにより、コーナームラの発生を低減できる。
かかる構成によって、本発明の課題が解決できることを見出だし、本発明を成すに至った。また、本発明に係る位相差フィルムを幅手方向に延伸処理することによって、流延幅を大きくすることなく広幅な位相差フィルムが得られるという利点もある。
本発明の広幅偏光板は、少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、該偏光子がポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、前記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする。この特徴は、請求項1から請求項5までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記セルロースアシレートが、アセチル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるジアセチルセルロースあることが、偏光板リワーク時の破断がなく、大型画面サイズの液晶表示装置に用いても正面コントラストのばらつきのなく、高視野角である広幅偏光板を提供する上で好ましい。
また、前記位相差フィルムが、二糖類の糖エステル化合物、ポリエステル系化合物、及び位相差上昇剤の少なくとも1種を含有することが延伸処理性を向上する観点で好ましい。
また、請求項4においては、本発明の広幅偏光板を液晶テレビの液晶セルに対してバックライト側に用いることが安定な正面コントラストと広い視野角を付与する観点で好ましい。
本発明の請求項5に係る広幅偏光板の製造方法は、前記位相差フィルムを、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg+20℃以上の範囲の温度で幅手方向に延伸した後に、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg±20℃以内の範囲の温度で長手方向に延伸して、遅相軸を長手方向に付与し、かつ前記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差Rtが120〜400nmの範囲となるように二軸延伸することを特徴とすることが好ましい態様である。
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
本発明でいう「広幅」とは、少なくとも2100mm以上の幅を有する状態をいい、上限は特に限定されるものではないが、現実的な生産を考慮すると、2100〜4000mmの範囲である。扱いやすさを考慮すると、より好ましくは2100〜3000mmである。
また、限定されるものではないが、「広幅偏光板」、「広幅偏光子」、「広幅位相差フィルム」は、長さ100〜5000m程度のロール状に巻かれた長尺状偏光板、長尺状偏光子、長尺状位相差フィルムであることが好ましい。これは、同じ幅の長尺状偏光子と長尺状位相差フィルムとを幅を合わせてロールtoロールで貼合することで、生産性よく長尺状偏光板が得られる観点で好ましい態様である。該ロールtoロールで貼合する方法に関しては、特開2002−187960号公報に詳述されている。
<広幅偏光板>
本発明の広幅偏光板は、少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、該偏光子がポリビニルアルコールフィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、前記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする。本発明の広幅偏光板は、幅2100mm以上の偏光子と位相差フィルムを貼合した偏光板であり、本発明でいう「広幅偏光板」とは幅2100mm以上の幅を有する偏光板を意味する。
本発明の広幅偏光板は、少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、該偏光子がポリビニルアルコールフィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、前記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする。本発明の広幅偏光板は、幅2100mm以上の偏光子と位相差フィルムを貼合した偏光板であり、本発明でいう「広幅偏光板」とは幅2100mm以上の幅を有する偏光板を意味する。
本発明の広幅偏光板は、一般的な方法で作製することができる。本発明に係る位相差フィルムの偏光子側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した本発明に係る偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
もう一方の面には、当該位相差フィルムを用いても、また他の偏光子保護フィルムを貼合することもできる。偏光板の取り扱い性、耐久性の観点からは他の偏光子保護フィルムを適宜貼合することが好ましい。
例えば、偏光子保護フィルムとして、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC8UX−RHA、KC8UXW−RHA−C、KC8UXW−RHA−NC、KC4UXW−RHA−NC、以上コニカミノルタオプト(株)製)も好ましく用いられる。
また、液晶表示装置の表面側に用いられる偏光子保護フィルムには、防眩層あるいはクリアハードコート層のほか、反射防止層、帯電防止層、防汚層、バックコート層を有することが好ましい。
本発明に係る「偏光子」とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
本発明に係る偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられる。
また、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、鹸化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。
中でも熱水切断温度が66〜73℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。
このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能及び耐久性能に優れているうえに、色斑が少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。
以上のようにして得られた偏光子は、通常、その両面又は片面に保護フィルム(プロテクトフィルムともいう)が貼合されて偏光板として使用される。貼合する際に用いられる接着剤としては、PVA系の接着剤やウレタン系の接着剤などを挙げることができるが、中でもPVA系の接着剤が好ましく用いられる。
<偏光子>
本発明に係る偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であることが特徴である。
本発明に係る偏光子は、ポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であることが特徴である。
本発明に係る偏光子の製造方法について、以下に説明する。
ポリビニルアルコール系フィルムとしては、特に制限されず、従来公知のフィルムが使用できる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコールフィルム、部分ホルマール化PVA系フィルム、エチレン変性PVA系フィルムや、これらの部分ケン化フィルム等が挙げられる。
前記PVA系フィルムの原料ポリマーとしては、例えば、酢酸ビニルを重合した後にケン化したものや、酢酸ビニルに対して、少量の不飽和カルボン酸や不飽和スルホン酸等の共重合可能なモノマーを共重合したポリマー等が挙げられる。前記PVA系ポリマーの重合度は、特に制限されないが、水に対する溶解度の点等から、500〜10000の範囲が好ましく、より好ましくは、1000〜6000の範囲である。また、前記PVA系ポリマーのケン化度は、75モル%以上が好ましく、より好ましくは、98〜100モル%の範囲である。
前記PVA系フィルムは、ロールに巻回した原反フィルムの形態が好ましく、フィルム幅は2100mm以上であることが、本発明の広幅偏光板を得る上で必要である。
フィルムの厚さは、特に制限されないが、例えば、15〜110μmの範囲であり、好ましくは、20〜110μmの範囲であり、より好ましくは、25〜80μmの範囲であり、さらに好ましくは、30〜60μmの範囲である。
(幅手方向延伸工程)
次に、本発明の特徴であるPVA系フィルムを幅手方向に延伸する延伸工程について説明する。
次に、本発明の特徴であるPVA系フィルムを幅手方向に延伸する延伸工程について説明する。
偏光子の製造は、例えば、膨潤工程、染色工程、架橋工程、調整工程、乾燥工程という順で実施することが一般的である。幅手方向への延伸は、これらの各工程で実施してもよいし、別個独立の工程として実施してもよい。
本発明に好ましい幅手方向の延伸は特開2009−63982号公報に記載されているようなテンターを用いることが好ましい。
長手方向に連続的に供給されるPVA系フィルムの幅手方向の両端を把持手段(クリップなど)により把持しながら延伸を行う。この際、PVA系フィルムを気相中で染色液の噴霧及び塗布の少なくとも一方を行ってもよい。
この幅手方向の延伸におけるPVA系フィルムの合計延伸倍率は、例えば、延伸前のフィルム(原反)の長さに対して、例えば、2〜12倍の範囲であり、好ましくは、3〜10倍の範囲であり、より好ましくは、4〜8倍の範囲である。いずれにしても本発明に係る偏光子は幅が2100mm以上であることから、原反の幅、延伸倍率を適宜調整することが好ましい。
延伸を行った後に、PVA系フィルムを二色性物質を含む染色液に接触させる。
該二色性物質としては、従来公知の物質が使用でき、例えば、ヨウ素や有機染料等が挙げられる。前記有機染料を使用する場合には、例えば、可視光領域のニュートラル化を図る点より、二種類以上を組み合わせることが好ましい。
二色性物質としてヨウ素を使用する場合、溶解度、染色効率等をより一層向上できることから、ヨウ素に加えて、助剤としてヨウ化物をさらに添加することが好ましい。前記ヨウ化物としては、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等が挙げられる。これらのヨウ化物の添加割合は、前記染色液において、0.05〜10質量%の範囲であることが好ましく、より好ましくは、0.10〜5質量%の範囲である。
また、前記染色液の接触は、例えば、染色液へPVA系フィルムの浸漬等により行われてもよい。この場合には、染色浴が用いられる。この場合における染色液(染色浴)への前記PVA系フィルムの浸漬時間は、特に制限されないが、例えば、10〜90秒の範囲であり、好ましくは、15〜60秒の範囲であり、より好ましくは、20〜45秒の範囲である。前記染色液(染色浴)の温度は、例えば、5〜42℃の範囲であり、好ましくは、10〜35℃の範囲であり、より好ましくは、12〜30℃の範囲である。
つぎに、染色処理後のPVA系フィルムを、架橋剤を含む架橋液に接触させる。
架橋剤としては、従来公知の物質が使用でき、例えば、ホウ酸、ホウ砂等のホウ素化合物等が挙げられる。これらは、一種類を単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。架橋剤の濃度は、特に制限されないが、例えば、前記溶媒(例えば、水)100質量部に対して、0.1〜10質量部の範囲が好ましく、より好ましくは、1.5〜8質量部の範囲であり、さらに好ましくは、2〜6質量部の範囲である。
前記架橋液は、偏光子の面内の均一な特性が得られる点から、前記ホウ素化合物の他に、例えば、ヨウ化カリウム、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化亜鉛、ヨウ化アルミニウム、ヨウ化鉛、ヨウ化銅、ヨウ化バリウム、ヨウ化カルシウム、ヨウ化錫、ヨウ化チタン等のヨウ化物等の助剤を含んでいてもよい。これらの中でもホウ酸とヨウ化カリウムとの組み合わせが好ましい。前記溶液における前記助剤の含有量は、例えば、0.05〜15質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜8質量%の範囲である。
前記架橋液の接触は、例えば、前記架橋液への前記親水性ポリマーフィルムの浸漬等により行われてもよい。この場合には、架橋浴が用いられる。この場合における前記架橋液(架橋浴)への前記親水性ポリマーフィルムの浸漬時間は、特に制限されないが、例えば、5〜150秒の範囲であり、好ましくは、10〜90秒の範囲であり、より好ましくは、20〜40秒の範囲であり、前記架橋液(架橋浴)の温度は、例えば、20〜70℃の範囲であり、好ましくは、40〜60℃の範囲である。
最後に、前記PVA系フィルムを、ヨウ化物含有水溶液(調整液)に接触させた後、乾燥し、前記テンターによる担持部分を切り落とすことにより、本発明の幅2100mm以上の偏光子が得られる。偏光子はロール状に巻き取ることが好ましい。
本発明に係る偏光子の厚みは、特に制限されないが、例えば、5〜80μmの範囲であり、好ましくは、10〜70μmの範囲であり、より好ましくは、15〜60μmの範囲である。
<位相差フィルム>
本発明に係る位相差フィルムは、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする。
本発明に係る位相差フィルムは、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする。
式(I):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
なお、具体的には上記Ro、Rtの具体的な測定は、位相差フィルムを、23℃55%RHで調湿後、王子計測機器製KOBRA31WPRを用いて測定波長590nmで位相差値を測定する。Rt算出のために、平均屈折率はアッベ屈折計で3方向の屈折率を測定して平均し、Roと、遅相軸を傾斜軸に40°傾斜させたときの位相差値を用いてRtを算出する。
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
なお、具体的には上記Ro、Rtの具体的な測定は、位相差フィルムを、23℃55%RHで調湿後、王子計測機器製KOBRA31WPRを用いて測定波長590nmで位相差値を測定する。Rt算出のために、平均屈折率はアッベ屈折計で3方向の屈折率を測定して平均し、Roと、遅相軸を傾斜軸に40°傾斜させたときの位相差値を用いてRtを算出する。
正面コントラストの高いVA型液晶表示装置等に適用するには、面内位相差値Roが50〜80nmの範囲であることがより好ましく、厚さ方向の位相差Rtが130〜180nmの範囲であることがより好ましい。
(セルロースアシレート)
位相差フィルムに用いられる樹脂材料としては、セルロースエステル、ポリカーボネート(PC)、環状ポリオレフィン(COP)、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)等が知られている。
位相差フィルムに用いられる樹脂材料としては、セルロースエステル、ポリカーボネート(PC)、環状ポリオレフィン(COP)、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)等が知られている。
しかしながら、本発明の課題である、偏光板リワーク時の破断がなく、大型画面サイズの液晶表示装置に用いてもコーナームラや視認性の劣化がない位相差フィルムを安定に生産するには、長手方向に遅相軸を付与しながら目的の位相差値が安定に得られやすいこと、ケン化処理などにより偏光子との密着性に優れること、幅手方向、長手方向に適度な弾性率を有すること、等の要求項目があり、本発明者は鋭意検討を重ねた結果、本発明に係る位相差フィルムとして、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有するフィルムを用いて、幅手方向、長手方向の二軸延伸を行うことによって達成できることを見出した。
セルロースアシレートのアシル基置換度が2.0を下回る場合には、ドープ粘度の上昇によるフィルム面品質の劣化、脆さなど材料に起因する破断などが発生する。また、アシル基置換度が2.5より大きい場合は、複屈折性の発現が小さくなり二軸延伸を行っても必要な位相差が得られ難い。さらに過度に延伸すると破断などが発生しやすい。
なお、アシル基置換度は、ASTM−D817−96(セルロースアセテート等の試験方法)に規定の方法により求めたものである。
本発明に係るセルロースアシレートは、炭素原子数が2〜4の範囲内であるアシル基を有することが好ましい。炭素原子数が2〜4の範囲内であるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、及びブタノイル基を挙げることができる。
セルロースを構成するβ−1,4結合しているグルコース単位は、2位、3位及び6位に遊離のヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部又は全部をアシル基によりアシル化した重合体(ポリマー)である。アシル基総置換度は、グルコース単位一つあたり、2位、3位及び6位に位置するセルロースのヒドロキシ基の全てがアシル化している割合(100%のアシル化は置換度3)を意味する。
好ましいアシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、イソブタノイル基、tert−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、tert−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはアセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基(アシル基が炭素原子数2〜4である場合)である。
具体的なセルロースアシレートとしては、セルロース(ジ、トリ)アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。
これらの中でより好ましいセルロースアシレートは、セルロース(ジ、トリ)アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。
特に好ましいセルロースアシレートは、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースジアセテートである。
混合脂肪酸エステルの置換度として、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有している場合、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとしたとき、下記式(i)及び(ii)を同時に満たすセルロースアシレートを含むセルロース樹脂であることが好ましい。
式(i) 2.0≦X+Y≦2.5
式(ii) 0≦X≦2.5
さらに、本発明で用いられるセルロースアシレートは、数平均分子量(Mn)は30000〜300000の範囲が得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に60000〜200000のものが好ましく用いられる。重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、さらに好ましくは2.5〜5.0であり、さらに好ましくは3.0〜5.0のセルロースアシレートが好ましく用いられる。
式(ii) 0≦X≦2.5
さらに、本発明で用いられるセルロースアシレートは、数平均分子量(Mn)は30000〜300000の範囲が得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に60000〜200000のものが好ましく用いられる。重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、さらに好ましくは2.5〜5.0であり、さらに好ましくは3.0〜5.0のセルロースアシレートが好ましく用いられる。
セルロースアシレートの重量平均分子量Mw、数平均分子量Mnは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した。
測定条件は以下のとおりである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
カラム: Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。
本発明で用いられるセルロースアシレートの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、あるいは単独で使用することができる。
例えば、綿花リンター由来セルロースアシレート:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースアシレート:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースアシレートの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30で用いることができる。
本発明に係るセルロースアシレートは、公知の方法により製造することができる。一般的には、原料のセルロースと所定の有機酸(酢酸、プロピオン酸など)と酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸など)、触媒(硫酸など)と混合して、セルロースをエステル化し、セルロースのトリエステルができるまで反応を進める。トリエステルにおいてはグルコース単位の三個のヒドロキシ基は、有機酸のアシル酸で置換されている。同時に二種類の有機酸を使用すると、混合エステル型のセルロースアシレート、例えばセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートを作製することができる。次いで、セルロースのトリエステルを加水分解することで、所望のアシル置換度を有するセルロースアシレートを合成する。その後、濾過、沈殿、水洗、脱水、乾燥などの工程を経て、セルロースアシレートができあがる。
本発明に係るセルロースアシレートは、20mlの純水(電気伝導度0.1μS/cm以下、pH6.8)に1g投入し、25℃、1hr、窒素雰囲気下にて攪拌したときのpHが6〜7、電気伝導度が1〜100μS/cmであることが好ましい。
具体的には特開平10−45804号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。
市販品としては、ダイセル化学工業(株)社のL20、L30、L40、L50、イーストマンケミカル社のCa398−3、Ca398−6、Ca398−10、Ca398−30、Ca394−60Sが挙げられる。
なお、本発明に係る位相差フィルムには、本発明の効果を阻害しない限りにおいて、上記セルロースアシレート以外の熱可塑性樹脂を併用することもできる。
ここで、「熱可塑性樹脂」とは、ガラス転移温度又は融点まで加熱することによって軟らかくなり、目的の形に成形できる樹脂のことをいう。
熱可塑性樹脂としては、一般的汎用樹脂としては、ポリエチレン(PE)、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、テフロン(登録商標)(ポリテトラフルオロエチレン、PTFE)、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂)、AS樹脂、アクリル樹脂(PMMA)等を用いることができる。
また、強度や壊れにくさを特に要求される場合、ポリアミド(PA)、ナイロン、ポリアセタール(POM)、ポリカーボネート(PC)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE、変性PPE、PPO)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、グラスファイバー強化ポリエチレンテレフタレート(GF−PET)、環状ポリオレフィン(COP)等を用いることができる。
さらに、高い熱変形温度と長期使用できる特性を要求される場合は、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)等を用いることができる。
(二糖類の糖エステル化合物)
本発明に係る位相差フィルムは、下記一般式(FA)で表される総平均置換度が3.0〜6.0である二糖類の糖エステル化合物(以下、単に糖エステル化合物ともいう。)を可塑剤として用いることが、二軸延伸持の弾性率低下を抑制する観点で好ましい。
本発明に係る位相差フィルムは、下記一般式(FA)で表される総平均置換度が3.0〜6.0である二糖類の糖エステル化合物(以下、単に糖エステル化合物ともいう。)を可塑剤として用いることが、二軸延伸持の弾性率低下を抑制する観点で好ましい。
本発明に係る一般式(FA)で表される化合物の平均置換度は3.0〜6.0であることが、延伸処理において後方散乱上昇を防ぐ上で有効である。
本発明において、一般式(FA)で表される化合物の置換度とは、一般式(FA)に含まれる8つのヒドロキシ基のうち、水素以外の置換基で置換されている数を表し、すなわち、一般式(FA)のR1〜R8のうち、水素以外の基を含む数を表す。したがって、R1〜R8が全て水素以外の置換基により置換された場合に、置換度は最大値の8.0となり、R1〜R8が全て水素原子である場合には、0.0となる。
一般式(FA)で表される構造を有する化合物は、ヒドロキシ基の数、OR基の数が固定された単一種の化合物を合成することは困難であり、式中のヒドロキシ基の数、OR基の異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られているため、本発明における一般式(FA)の置換度としては、平均置換度を用いることが適当であり、常法により高速液体クロマトグラフィーによって置換度分布を示すチャートの面積比から平均置換度を測定することができる。
一般式(FA)において、R1〜R8は、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、あるいは、置換又は無置換のアリールカルボニル基を表し、R1〜R8は、同じであっても、異なっていてもよい。
本発明に係る糖エステル化合物の合成原料の糖の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、1F−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース挙げられる。
この他、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。
本発明に係る糖エステル化合物の合成時に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は1種類でもよいし2種以上の混合であってもよい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環に1〜5個のアルキル基若しくはアルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。
以下に、本発明に係る糖エステル化合物の具体例を挙げるが、R1〜R8をのうちいずれかを同じ置換基Rとした場合であって、本発明はこれに限定されるものではない。
(合成例:本発明に係る化合物の合成)
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖34.2g(0.1モル)、無水安息香酸135.6g(0.6モル)、ピリジン284.8g(3.6モル)を仕込み、撹拌下に窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、70℃で5時間エステル化反応を行った。
次に、コルベン内を4×102Pa以下に減圧し、60℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を1.3×10Pa以下に減圧し、120℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエン1L、0.5質量%の炭酸ナトリウム水溶液300gを添加し、50℃で30分間撹拌後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水100gを添加し、常温で30分間水洗後、トルエン層を分取し、減圧下(4×102Pa以下)、60℃でトルエンを留去させ、化合物A−1、A−2、A−3、A−4及びA−5等の混合物である糖エステル化合物1を得た。
得られた混合物を高速液体クロマトグラフィー−質量分析(HPLC−MS)で解析したところ、A−1が1.2質量%、A−2が13.2質量%、A−3が14.2質量%、A−4が35.4質量%、A−5等が40.0質量%であった。平均置換度は5.2であった。
同様に、無水安息香酸158.2g(0.70モル)、146.9g(0.65モル)、135.6g(0.60モル)、124.3g(0.55モル)と当モルのピリジンとを反応させて、表1記載のような成分の糖エステルを得た。
なお、A−5等とは、置換度4以下の全ての成分、つまり置換度4、3、2、1の化合物の混合物であることを意味する。また、平均置換度は、A−5等を置換度4として計算した。
本発明においては、ここで作製した方法により所望の平均置換度に近い糖エステル及び単離したA−1〜A−5等を組み合わせ添加することにより、平均置換度を調整した。
<HPLC−MSの測定条件>
1)LC部
装置:日本分光(株)製カラムオーブン(JASCO CO−965)、ディテクター(JASCO UV−970−240nm)、ポンプ(JASCO PU−980)、デガッサー(JASCO DG−980−50)
カラム:Inertsil ODS−3 粒子径5μm 4.6×250mm(ジーエルサイエンス(株)製)
カラム温度:40℃
流速:1ml/min
移動相:THF(1%酢酸):H2O(50:50)
注入量:3μl
2)MS部
装置:LCQ DECA(Thermo Quest(株)製)
イオン化法:エレクトロスプレーイオン化(ESI)法
Spray Voltage:5kV
Capillary温度:180℃
Vaporizer温度:450℃
(ポリエステル系化合物)
本発明では上記糖エステル化合物に加えて、可塑剤として下記一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物を用いることが、二軸延伸持の弾性率低下を抑制する観点で好ましい。
1)LC部
装置:日本分光(株)製カラムオーブン(JASCO CO−965)、ディテクター(JASCO UV−970−240nm)、ポンプ(JASCO PU−980)、デガッサー(JASCO DG−980−50)
カラム:Inertsil ODS−3 粒子径5μm 4.6×250mm(ジーエルサイエンス(株)製)
カラム温度:40℃
流速:1ml/min
移動相:THF(1%酢酸):H2O(50:50)
注入量:3μl
2)MS部
装置:LCQ DECA(Thermo Quest(株)製)
イオン化法:エレクトロスプレーイオン化(ESI)法
Spray Voltage:5kV
Capillary温度:180℃
Vaporizer温度:450℃
(ポリエステル系化合物)
本発明では上記糖エステル化合物に加えて、可塑剤として下記一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物を用いることが、二軸延伸持の弾性率低下を抑制する観点で好ましい。
一般式(FB) B−(G−A)n−G−B
(式中、Bはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基又は炭素数6〜12のアリールグリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。)
一般式(FB)中、Bで示されるヒドロキシ基又はカルボン酸残基と、Gで示されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基又はアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基又はアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のエステル系化合物と同様の反応により得られる。
(式中、Bはヒドロキシ基又はカルボン酸残基、Gは炭素数2〜12のアルキレングリコール残基又は炭素数6〜12のアリールグリコール残基又は炭素数が4〜12のオキシアルキレングリコール残基、Aは炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数6〜12のアリールジカルボン酸残基を表し、またnは1以上の整数を表す。)
一般式(FB)中、Bで示されるヒドロキシ基又はカルボン酸残基と、Gで示されるアルキレングリコール残基又はオキシアルキレングリコール残基又はアリールグリコール残基、Aで示されるアルキレンジカルボン酸残基又はアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のエステル系化合物と同様の反応により得られる。
一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物のカルボン酸成分としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、脂肪族酸等があり、これらはそれぞれ1種又は2種以上の混合物として使用することができる。
一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物の炭素数2〜12のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,2−プロパンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール(ネオペンチルグリコール)、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール(3,3−ジメチロールペンタン)、2−n−ブチル−2−エチル−1,3プロパンジオール(3,3−ジメチロールヘプタン)、3−メチル−1,5−ペンタンジオール1,6−ヘキサンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,12−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用される。
特に炭素数2〜12のアルキレングリコールがセルロースエステル樹脂との相溶性に優れているため、特に好ましい。
また、上記一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物の炭素数4〜12のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、1種又は2種以上の混合物として使用できる。
一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物の炭素数4〜12のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ1種又は2種以上の混合物として使用される。炭素数6〜12のアリールジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸等がある。
一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物は、数平均分子量が、好ましくは300〜1500、より好ましくは400〜1000の範囲が好適である。また、その酸価は、0.5mgKOH/g以下、ヒドロキシル(水酸基)価は25mgKOH/g以下、より好ましくは酸価0.3mgKOH/g以下、ヒドロキシル(水酸基)価は15mgKOH/g以下のものである。
以下に、本発明に用いることのできる一般式(FB)で表されるポリエステル系化合物の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
<位相差上昇剤>
本発明に係る位相差フィルムでは、位相差上昇剤を含むことは過度な延伸操作を避け、位相差を調整するための延伸時に発生するフィルム中の微細な割れ(クレーズ)や異物の配列によるコントラスト低下要因を抑制する上で好ましい。
本発明に係る位相差フィルムでは、位相差上昇剤を含むことは過度な延伸操作を避け、位相差を調整するための延伸時に発生するフィルム中の微細な割れ(クレーズ)や異物の配列によるコントラスト低下要因を抑制する上で好ましい。
位相差上昇剤は、例えば、0.5〜10質量%の割合で含有させることができ、さらには、2〜6質量%の割合で含有させることが好ましい。位相差上昇剤を採用することにより、低延伸倍率で高いRo発現性を得られる。位相差上昇剤の種類としては、特に定めるものではないが、円盤状又は棒状化合物からなるものを挙げることができる。前記円盤状又は棒状化合物としては、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を位相差上昇剤として好ましく用いることができる。
円盤状の位相差上昇剤は、前記セルロースエステル樹脂100質量部に対して、0.5〜10質量部の範囲で使用することが好ましく、1〜8質量部の範囲で使用することがより好ましく、2〜6質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。
棒状化合物からなる位相差上昇剤の添加量は、セルロースエステル樹脂100質量部に対して0.5〜10質量部であることが好ましく、2〜6質量部であることがさらに好ましい。
二種類以上の位相差上昇剤を併用してもよい。
位相差上昇剤は、250〜400nmの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
円盤状化合物について説明する。円盤状化合物としては少なくとも二つの芳香族環を有する化合物を用いることができる。
本明細書において、「芳香族環」は、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び1,3,5−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、縮合ベンゼン環、ビフェニール類が好ましい。特に1,3,5−トリアジン環が好ましく用いられる。具体的には例えば特開2001−166144号公報に開示の化合物が好ましく用いられる。
位相差(リターデーション)発現剤が有する芳香族環の炭素数は、2〜20であることが好ましく、2〜12であることがより好ましく、2〜8であることがさらに好ましく、2〜6であることが最も好ましい。
二つの芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)単結合で直結する場合及び(c)連結基を介して結合する場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は形成できない)。結合関係は、(a)〜(c)のいずれでもよい。
(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。
(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環又は非芳香族性複素環を形成してもよい。
(c)の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O−、−NH−、−S−又はそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。c1:−CO−O−、c2:−CO−NH−、c3:−アルキレン−O−、c4:−NH−CO−NH−、c5:−NH−CO−O−、c6:−O−CO−O−、c7:−O−アルキレン−O−、c8:−CO−アルケニレン−、c9:−CO−アルケニレン−NH−、c10:−CO−アルケニレン−O−、c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−、c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO−アルキレン−O−、c13:−O−CO−アルキレン−CO−O−、c14:−NH−CO−アルケニレン−、c15:−O−CO−アルケニレン−
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。
置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。
アルキル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基(例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を有していてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含む)例には、メチル基、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、2−ヒドロキシエチル基、4−カルボキシブチル基、2−メトキシエチル基及び2−ジエチルアミノエチル基の各基が含まれる。
アルケニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル基及び1−ヘキセニル基が含まれる。
アルキニル基の炭素原子数は、2〜8であることが好ましい。環状アルキニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、1−ブチニル基及び1−ヘキシニル基が含まれる。
脂肪族アシル基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロパノイル基及びブタノイル基が含まれる。
脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
アルコキシ基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基(例えば、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコキシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基及びメトキシエトキシ基が含まれる。
アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基及びエトキシカルボニル基が含まれる。
アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基及びエトキシカルボニルアミノ基が含まれる。
アルキルチオ基の炭素原子数は、1〜12であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基及びオクチルチオ基が含まれる。
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル基及びエタンスルホニル基が含まれる。
脂肪族アミド基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。
脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド基、ブタンスルホンアミド基及びn−オクタンスルホンアミド基が含まれる。
脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基及び2−カルボキシエチルアミノ基が含まれる。
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基及びジエチルカルバモイル基が含まれる。
脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、1〜8であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル基及びジエチルスルファモイル基が含まれる。
脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、2〜10であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。
非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ基及びモルホリノ基が含まれる。
位相差(リターデーション)発現剤の分子量は、300〜800であることが好ましい。
円盤状化合物として下記一般式(I)で表されるトリアジン化合物を用いることが好ましい。
Xは、各々独立に、単結合又はNR2−を表す。ここで、R2は、各々独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基又は複素環基を表す。
R1が表す芳香族環は、フェニル又はナフチルであることが好ましく、フェニルであることが特に好ましい。R1が表す芳香族環はいずれかの置換位置に少なくとも一つの置換基を有してもよい。前記置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルオンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルバモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。
R1が表す複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。芳香族性を有する複素環は、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましく、6員環であることが最も好ましい。複素環のヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子又は酸素原子であることが好ましく、窒素原子であることが特に好ましい。芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環(複素環基としては、2−ピリジル又は4−ピリジル)が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。
Xが単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。また、複素環基は、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、O、S)を有していてもよい。以下に、窒素原子に遊離原子価をもつ複素環基の例を示す。
アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることがさらに好ましく、1〜8がさらにまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基)及びアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基)が含まれる。
R2が表すアルケニル基は、環状アルケニル基であっても鎖状アルケニル基であってもよいが、鎖状アルケニル基を表すのが好ましく、分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基を表すのがより好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることがさらに好ましく、2〜8であることがさらにまた好ましく、2〜6であることが最も好ましい。アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基の例には、前述のアルキル基の置換基と同様である。
R2が表す芳香族環基及び複素環基は、R1が表す芳香族環及び複素環と同様であり、好ましい範囲も同様である。芳香族環基及び複素環基はさらに置換基を有していてもよく、置換基の例にはR1の芳香族環及び複素環の置換基と同様である。
以下に一般式(I)で表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。
R1、R2、R3、R4、R5及びR6が各々表す置換基としては、アルキル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる)、アルケニル基(好ましくは、炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる)、アルキニル基(好ましくは、炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、例えば、フェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる)、置換若しくは無置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜40、より好ましくは炭素数0〜30、特に好ましくは炭素数0〜20のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜40、より好ましくは炭素数6〜30、特に好ましくは炭素数6〜20のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる)、アシル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜40、より好ましくは炭素数7〜30、特に好ましくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜40、より好ましくは炭素数2〜30、特に好ましくは炭素数2〜20のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜40、より好ましくは炭素数7〜30、特に好ましくは炭素数7〜20のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる)、スルファモイル基(好ましくは炭素数0〜40、より好ましくは炭素数0〜30、特に好ましくは炭素数0〜20のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基などが挙げられる)、アリールチオ基(好ましくは、炭素数6〜40、より好ましくは炭素数6〜30、特に好ましくは炭素数1〜20、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる)、スルホニル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる)、スルフィニル基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40、より好ましくは炭素数1〜30、特に好ましくは炭素数1〜20のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、1,3,5−トリアジル基などが挙げられる)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる)が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基を二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
R1、R2、R3、R4、R5及びR6が各々表す置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子である。
以下に一般式(II)で表される化合物の具体例を挙げるが、こられに限定されない。
本発明では直線的な分子構造を有する棒状化合物を好ましく用いることができる。直線的な分子構造とは、熱力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析又は分子軌道計算によって求めることができる。例えば、分子軌道計算ソフト(例えば、WinMOPAC2000、富士通(株)製)を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求めることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安定な構造において、分子構造で主鎖の構成する角度が140度以上であることを意味する。
少なくとも二つの芳香族環を有する棒状化合物としては、下記一般式(III)で表される化合物が好ましい。
一般式(III):Ar1−L1−Ar2
上記一般式(III)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。本明細書において、芳香族基は、アリール基(芳香族性炭化水素基)、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
上記一般式(III)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。本明細書において、芳香族基は、アリール基(芳香族性炭化水素基)、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基を含む。
アリール基及び置換アリール基の方が、芳香族性ヘテロ環基及び置換芳香族性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘテロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環又は7員環であることが好ましく、5員環又は6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子が好ましく、窒素原子又は硫黄原子がさらに好ましい。
芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環及びピラジン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。
置換アリール基及び置換芳香族性ヘテロ環基の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基(例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基の各基)、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基(例えば、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基の各基)、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基(例えば、N−メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基の各基)、ウレイド基、アルキルウレイド基(例えば、N−メチルウレイド基、N,N−ジメチルウレイド基、N,N,N′−トリメチルウレイド基の各基)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、s−ブチル基、tert−アミル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基の各基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基、ヘキセニル基の各基)、アルキニル基(例えば、エチニル基、ブチニル基)、アシル基(例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキサノイル基、ラウリル基の各基)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ラウリルオキシ基の各基)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基の各基)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基の各基)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基の各基)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基の各基)、アミド基(例えば、アセトアミド基、ブチルアミド基、ヘキシルアミド基、ラウリルアミド基の各基)及び非芳香族性複素環基(例えば、モルホリル基、ピラジニル基)が含まれる。
なかでも、好ましい置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基及びアルキル基が挙げられる。
アルキルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基及びアルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さらに置換基を有していてもよい。アルキル部分及びアルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシ基、シアノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アミド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。アルキル部分及びアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基及びアルコキシ基が好ましい。
一般式(III)において、L1は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる基から選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造を有していてもよい。環状アルキレン基としては、シクロヘキシレンが好ましく、1,4−シクロヘキシレンが特に好ましい。鎖状アルキレン基としては、直鎖状アルキレン基の方が分岐を有するアルキレン基よりも好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜15であり、さらに好ましくは1〜10であり、さらに好ましくは1〜8であり、最も好ましくは1〜6である。
アルケニレン基及びアルキニレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルケニレン基及びアルキニレン基の炭素原子数は、好ましくは2〜10であり、より好ましくは2〜8であり、さらに好ましくは2〜6であり、さらに好ましくは2〜4であり、最も好ましくは2(ビニレン基又はエチニレン基)である。
アリーレン基は、炭素原子数は6〜20であることが好ましく、より好ましくは6〜16であり、さらに好ましくは6〜12である。
一般式(III)の分子構造において、L1を挟んで、Ar1とAr2とが形成する角度は、140度以上であることが好ましい。
棒状化合物としては、下記一般式(IV)で表される化合物がさらに好ましい。
一般式(IV):Ar1−L2−X−L3−Ar2
上記一般式(IV)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義及び例は、一般式(III)のAr1及びAr2と同様である。
上記一般式(IV)において、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、芳香族基である。芳香族基の定義及び例は、一般式(III)のAr1及びAr2と同様である。
一般式(IV)において、L2及びL3は、それぞれ独立に、アルキレン基、−O−、−CO−及びそれらの組み合わせからなる基より選ばれる二価の連結基である。
アルキレン基は、環状構造よりも鎖状構造を有することが好ましく、分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造を有することがさらに好ましい。
アルキレン基の炭素原子数は、1〜10であることが好ましく、より好ましくは1〜8であり、さらに好ましくは1〜6であり、さらに好ましくは1〜4であり、1又は2(メチレン基又はエチレン基)であることが最も好ましい。
L2及びL3は、−O−CO−又はCO−O−であることが特に好ましい。
一般式(IV)において、Xは、1,4−シクロヘキシレン基、ビニレン基又はエチニレン基である。
一般式(III)又は(IV)で表される化合物の具体例としては、特開2004−109657号公報の〔化1〕〜〔化11〕に記載の化合物が挙げられる。
溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長(λmax)が250nmより長波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。
棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Mol.Cryst.Liq.Cryst.,53巻、229ページ(1979年)、同89巻、93ページ(1982年)、同145巻、111ページ(1987年)、同170巻、43ページ(1989年)、J.Am.Chem.Soc.,113巻、1349ページ(1991年)、同118巻、5346ページ(1996年)、同92巻、1582ページ(1970年)、J.Org.Chem.,40巻、420ページ(1975年)、Tetrahedron、48巻16号、3437ページ(1992年)を挙げることができる。
また、特開2004−50516号公報の11〜14頁に記載の棒状芳香族化合物を、前記位相差(リターデーション)上昇剤として用いてもよい。
前記位相差フィルムをソルベントキャスト法で作製する場合は、前記位相差(リターデーション)発現剤を、ドープ中に添加してもよい。添加はいずれのタイミングで行ってもよく、例えば、アルコール、メチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶媒に位相差(リターデーション)発現剤を溶解してから、セルロースエステル溶液(ドープ)に添加してもよいし、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
その他、前記各公報に記載されている以外の棒状化合物の好ましい化合物の具体例を以下に示す。
具体例(2)及び(3)は、幾何異性体に加えて光学異性体(合計4種の異性体)を有する。幾何異性体については、同様にトランス型の方がシス型よりも好ましい。光学異性体については、特に優劣はなく、D、Lあるいはラセミ体のいずれでもよい。
具体例(43)〜(45)では、中心のビニレン結合にトランス型とシス型とがある。上記と同様の理由で、トランス型の方がシス型よりも好ましい。
〈その他の添加剤〉
(可塑剤)
本発明に係る位相差フィルムは、本発明の効果を得る上で必要に応じて他の可塑剤を含有することができる。
(可塑剤)
本発明に係る位相差フィルムは、本発明の効果を得る上で必要に応じて他の可塑剤を含有することができる。
可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、エステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。
そのうち、可塑剤を二種以上用いる場合は、少なくとも一種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。
本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式(a)で表される。
一般式(a) R11−(OH)n
但し、R11はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。
但し、R11はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステル樹脂との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を1〜3個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステル樹脂との相溶性の点では小さい方が好ましい。
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は一種類でもよいし、二種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。
以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
多価カルボン酸エステル化合物としては、2価以上、好ましくは2価〜20価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は2〜20価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は3価〜20価であることが好ましい。
多価カルボン酸は次の一般式(b)で表される。
一般式(b) R12(COOH)m1(OH)n1
式中、R12は(m1+n1)価の有機基、m1は2以上の正の整数、n1は0以上の整数、COOH基はカルボキシ基、OH基はアルコール性又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。
式中、R12は(m1+n1)価の有機基、m1は2以上の正の整数、n1は0以上の整数、COOH基はカルボキシ基、OH基はアルコール性又はフェノール性ヒドロキシ基を表す。
好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような3価以上の芳香族多価カルボン酸又はその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。
例えば炭素数1〜32の直鎖又は側鎖を持った脂肪族飽和アルコール又は脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数1〜20であることが更に好ましく、炭素数1〜10であることが特に好ましい。
また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコール又はその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコール又はその誘導体なども好ましく用いることができる。
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性又はフェノール性のヒドロキシ基を、モノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数1〜32の直鎖又は側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数1〜20であることが更に好ましく、炭素数1〜10であることが特に好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を2個以上持つ芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量300〜1000の範囲であることが好ましく、350〜750の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステル樹脂との相溶性の点では小さい方が好ましい。
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、二種以上の混合であっても良い。
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は1mgKOH/g以下であることが好ましく、0.2mgKOH/g以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
なお、酸価とは、試料1g中に含まれる酸(試料中に存在するカルボキシ基)を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はJIS K0070に準拠して測定したものである。
(紫外線吸収剤)
本発明に係る位相差フィルムは、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
本発明に係る位相差フィルムは、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。
例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類があり、これらはいずれもBASFジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。
この他、1,3,5トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。
本発明に係わる偏光板保護フィルムは紫外線吸収剤を二種以上含有することが好ましい。
また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平6−148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、又は直接ドープ組成中に添加してもよい。
無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル樹脂中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、位相差フィルムの乾燥膜厚が30〜200μmの場合は、位相差フィルムに対して0.5〜10質量%が好ましく、0.6〜4質量%が更に好ましい。
(酸化防止剤)
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた場合には、位相差フィルムの劣化が起こる場合がある。
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた場合には、位相差フィルムの劣化が起こる場合がある。
酸化防止剤は、例えば、位相差フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により位相差フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記位相差フィルム中に含有させるのが好ましい。
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,6−ヘキサンジオール−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2,2−チオ−ジエチレンビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、N,N′−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド)、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレイト等を挙げることができる。
特に、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、N,N′−ビス〔3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
これらの化合物の添加量は、セルロースエステル樹脂に対して質量割合で1ppm〜1.0%が好ましく、10〜1000ppmが更に好ましい。
(微粒子)
本発明に係る位相差フィルムには、取扱性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。
本発明に係る位相差フィルムには、取扱性を向上させるため、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子などのマット剤を含有させることが好ましい。中でも二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを小さくできるので好ましい。
微粒子の1次平均粒子径としては、20nm以下が好ましく、更に好ましくは、5〜16nmであり、特に好ましくは、5〜12nmである。
これらの微粒子は0.1〜5μmの粒径の2次粒子を形成して位相差フィルムに含まれることが好ましく、好ましい平均粒径は0.1〜2μmであり、更に好ましくは0.2〜0.6μmである。これにより、フィルム表面に高さ0.1〜1.0μm程度の凹凸を形成し、これによってフィルム表面に適切な滑り性を与えることができる。
本発明に用いられる微粒子の1次平均粒子径の測定は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒子の観察を行い、粒子100個を観察し、粒子径を測定しその平均値をもって、1次平均粒子径とした。
(位相差フィルムの製造方法)
次に、本発明に係る位相差フィルムの製造方法について説明する。
次に、本発明に係る位相差フィルムの製造方法について説明する。
本発明に係る位相差フィルムの製造方法は、位相差フィルムの延伸処理工程において、フィルムのガラス転移温度Tg+20℃以上の温度で幅手方向に延伸した後に、フィルムのガラス転移温度Tg±20℃以内の温度で長手方向に延伸して、遅相軸を長手方向に付与し、かつ前記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差Rtが120〜400nmの範囲となるように二軸延伸することが好ましい。以下、順次工程に従って説明する。
本発明に係る位相差フィルムは溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。
本発明に係る位相差フィルムの溶液流延法での製造は、セルロースアシレート及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸又は幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースアシレートの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースアシレートの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても二種以上を併用してもよいが、セルロースアシレートの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースアシレートの溶解性の点で好ましい。
良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースアシレートを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するか又は溶解しないものを貧溶剤と定義している。
そのため、セルロースアシレートのアシル基置換度によって良溶剤、貧溶剤が変わる。
本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライド又は酢酸メチルが挙げられる。
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。
また、セルロースアシレートの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。
回収溶剤中に、セルロースアシレートに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。
上記記載のドープを調製するときの、セルロースアシレートの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。
溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。
また、セルロースアシレートを貧溶剤と混合して湿潤あるいは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースアシレートの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。
好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースアシレートを溶解させることができる。
次に、このセルロースアシレート溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材、濾過方法に関しては前述のとおりである。
ここで、ドープの流延について説明する。
流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。
キャストの幅は1〜4mとすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。
好ましい支持体温度は0〜55℃であり、25〜50℃が更に好ましい。あるいは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
位相差フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは40〜130質量%であり、特に好ましくは、50〜120質量%である。
本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
なお、Mはウェブ又はフィルムを製造中又は製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
また、位相差フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、更に好ましくは0.1質量%以下であり、特に好ましくは0〜0.01質量%以下である。
フィルム乾燥工程では一般にローラ乾燥方式(上下に配置した多数のローラにウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラ、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は40〜200℃で段階的に高くしていくことが好ましい。
(延伸処理)
本発明に係る位相差フィルムを作製するには、所定の遅相軸方向を有し、かつ所定の位相差を実現するための手段の一つとして、好ましくはウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅手方向(TD方向)に延伸を行って2100mm以上に広幅化し、その後長手方向(MD方向)に延伸を行って、該位相差フィルムの遅相軸を長手方向と平行な方向に付与し、かつ所定の位相差値になるように延伸条件を制御するものである。
本発明に係る位相差フィルムを作製するには、所定の遅相軸方向を有し、かつ所定の位相差を実現するための手段の一つとして、好ましくはウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅手方向(TD方向)に延伸を行って2100mm以上に広幅化し、その後長手方向(MD方向)に延伸を行って、該位相差フィルムの遅相軸を長手方向と平行な方向に付与し、かつ所定の位相差値になるように延伸条件を制御するものである。
テンターで延伸を行う場合の延伸温度は、フィルムのTg+20℃以上の温度で行うことが好ましく、具体的には180〜220℃の範囲で行うことが好ましく、190〜210℃の範囲で行うことがより好ましい。これは高温で延伸することにより、フィルムにかかる引っ張り張力を緩和して、セルロース分子を余り配向せず位相差が出ないように延伸するためである。本発明に係る位相差フィルムは、その遅相軸を長手方向に有し、かつ所定の位相差を有するものであるため、幅手方向の延伸でセルロース分子が配向しないことが好ましい。
なお、フィルムのガラス転移温度Tgは、示差走査熱量測定器(Perkin Elmer社製DSC−7型)を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めた中間点ガラス転移温度(Tmg)とする。
また延伸倍率は、広幅化のために適宜決められるものであるが、幅手方向の延伸(TD延伸)は5〜50%の範囲で施すことが好ましい。
延伸をテンターで行う場合、ウェブの残留溶媒量を制御することが好ましく、ウェブの残留溶媒量はテンター開始時に20〜100質量%であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が10質量%以下になるまでテンターを掛けながら乾燥を行うことが好ましく、さらに好ましくは5質量%以下である。
次いで、広幅化した位相差フィルムを長手方向に延伸処理するが、長手方向(MD延伸)に延伸する方法としては、ローラ間ネックイン延伸法、近接ローラ延伸法等が挙げられる。位相差を制御し易く、位相差フィルムに傷や皺等の不良が発生しにくいといった利点を有するので、ローラ間ネックイン延伸法を採用することが望ましい。
上記ローラ間ネックイン延伸法とは、フィルム幅よりも広い延伸領域の両側に位置する一対のニップローラ又はS字ラップローラで搬送中のフィルムを挟持するとともに、搬送方向の上流側のニップローラ又はS字ラップローラの周速に対して、搬送方向の下流側のニップローラ又はS字ラップローラの周速を大きくすることによって、所望の延伸倍率を得る方法である。なお、フィルムの幅方向の両端部分は拘束を受けない自由端とされており、長さ方向の延伸に伴って幅方向にネックイン現象が呈される。
フィルムを長手方向に延伸する際の延伸倍率は、低すぎると遅相軸精度の低下等の表示品質の低下を招くことがあり、高すぎると幅方向の製品幅が狭くなり次工程の生産性が悪くなるので、1.03〜3倍が好ましく、1.05〜2.5倍がより好ましい。
フィルムを長手方向に延伸する際の延伸温度は、位相差フィルムに付与したい位相差量によって適宜に調整されるが、低過ぎると延伸時にフィルムが破断するおそれがある一方、高過ぎると、配向に乱れが生じ、所定の位相差を得ることが困難となるため、(フィルムのガラス転移温度Tg−20℃)〜(フィルムのガラス転移温度Tg+20℃)で行うことが好ましく、(フィルムのガラス転移温度Tg−10℃)〜(フィルムのガラス転移温度Tg+15℃)がより好ましい。これはフィルムのTgに近い温度で延伸することでフィルムにかかる引っ張り張力を最大限にするためである。従ってセルロース分子の配向がより促進され所定の位相差が発現する。さらに、長手延伸時には残留溶媒量が10質量%以下であることが、位相差の発現性において好ましい。
また、延伸後、熱処理(アニール処理)して残存する歪みを緩和することも好ましい。熱処理は80〜200℃、好ましくは100〜180℃で行うことが好ましく、更に好ましくは130〜160℃で行うことである。このとき、熱伝達係数20〜130×103J/m2hrで熱処理を行うのが好ましい。
更に好ましくは、40〜130×103J/m2hrの範囲であり、最も好ましくは42〜84×103J/m2hrの範囲である。これによって、残存する歪みが低減され、位相差フィルムの90℃などの高温条件、あるいは80℃、90%RHなどの高温高湿条件における位相差安定性が改善される。
なお、当該延伸プロセス後の熱処理により、厚さ方向の屈折率(nz値)をコントロールする方法も好ましく用いられる。また、当該熱処理により、ヘイズの低下も可能であり、好ましい。
本発明に係る位相差フィルムの膜厚は15〜100μmの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは20〜60μmである。膜厚が100μmを越える場合は偏光板に貼合する際に皺の発生が見られ、厚さが15μm未満の場合は、位相差フィルムとしての強度が保てないことや透湿性が高くなり過ぎて偏光子の保護性が劣化する。
本発明に係る位相差フィルムは、幅2100mm以上であるが、上限は4000mmまでのものが好ましく用いられ、特に好ましくは2100〜3000mmである。4000mmを超えると搬送が困難となる。
(位相差フィルムの物性)
本発明に係る位相差フィルムの透湿度は、40℃、90%RHで300〜1800g/m2・24hが好ましく、更に400〜1500g/m2・24hが好ましく、40〜1300g/m2・24hが特に好ましい。透湿度はJIS Z 0208に記載の方法に従い測定することができる。
本発明に係る位相差フィルムの透湿度は、40℃、90%RHで300〜1800g/m2・24hが好ましく、更に400〜1500g/m2・24hが好ましく、40〜1300g/m2・24hが特に好ましい。透湿度はJIS Z 0208に記載の方法に従い測定することができる。
本発明に係る位相差フィルムの破断伸度は10〜80%であることが好ましく20〜50%であることが更に好ましい。
本発明に係る位相差フィルムの可視光透過率は90%以上であることが好ましく、93%以上であることが更に好ましい。
本発明に係る位相差フィルムのヘイズは1%未満であることが好ましく0〜0.1%であることが特に好ましい。
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量%」を表す。
<セルロースアシレートCE−1の作製>
セルロース100質量部に、硫酸16質量部、無水酢酸260質量部、酢酸420質量部をそれぞれ添加し、攪拌しながら室温から60℃まで60分かけて昇温し、15分間その温度を保持しながら酢化反応を行った。次に、酢酸マグネシウム及び酢酸カルシウムの酢酸−水混合溶液を添加して硫酸を中和した後、反応系内に水蒸気を導入して、60℃で120分間維持して鹸化熟成処理を行った。その後、多量の水により洗浄を行い、更に乾燥し、セルロースアシレートCE−1を得た。
セルロース100質量部に、硫酸16質量部、無水酢酸260質量部、酢酸420質量部をそれぞれ添加し、攪拌しながら室温から60℃まで60分かけて昇温し、15分間その温度を保持しながら酢化反応を行った。次に、酢酸マグネシウム及び酢酸カルシウムの酢酸−水混合溶液を添加して硫酸を中和した後、反応系内に水蒸気を導入して、60℃で120分間維持して鹸化熟成処理を行った。その後、多量の水により洗浄を行い、更に乾燥し、セルロースアシレートCE−1を得た。
なお、得られたセルロースアシレートCE−1は、平均アセチル基置換度2.88のセルローストリアセテートであり、数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=80000、Mw/Mn=2.4であった。
<セルロースアシレートCE−2の作製>
セルロース100質量部に、硫酸16質量部、無水酢酸180質量部、無水プロピオン酸120質量部、酢酸350質量部をそれぞれ添加し、攪拌しながら室温から60℃まで60分かけて昇温し、15分間その温度を保持しながら酢化反応を行った。次に、酢酸マグネシウム及び酢酸カルシウムの酢酸−水混合溶液を添加して硫酸を中和した後、反応系内に水蒸気を導入して、60℃で120分間維持して鹸化熟成処理を行った。その後、多量の水により洗浄を行い、更に乾燥し、セルロースアシレートCE−2を得た。
セルロース100質量部に、硫酸16質量部、無水酢酸180質量部、無水プロピオン酸120質量部、酢酸350質量部をそれぞれ添加し、攪拌しながら室温から60℃まで60分かけて昇温し、15分間その温度を保持しながら酢化反応を行った。次に、酢酸マグネシウム及び酢酸カルシウムの酢酸−水混合溶液を添加して硫酸を中和した後、反応系内に水蒸気を導入して、60℃で120分間維持して鹸化熟成処理を行った。その後、多量の水により洗浄を行い、更に乾燥し、セルロースアシレートCE−2を得た。
なお、得られたセルロースアシレートCE−1は、平均アセチル基置換度0.19、プロピオニル基値感度2.56のセルロースアセテートプロピオネートであり、数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=75000、Mw/Mn=2.5であった。
<セルロースアシレートCE−3の作製>
セルロースアシレートCE−2の作製と同様にして、平均アセチル基置換度1.58、プロピオニル基置換度0.88のセルロースアセテートプロピオネートであり、数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=76000、Mw/Mn=2.4であった。
セルロースアシレートCE−2の作製と同様にして、平均アセチル基置換度1.58、プロピオニル基置換度0.88のセルロースアセテートプロピオネートであり、数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=76000、Mw/Mn=2.4であった。
<セルロースアシレートCE−4の作製>
セルロースアシレートCE−1の作製と同様にして、平均アセチル基置換度2.45のジアセチルセルロースを作製した。数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=62000、Mw/Mn=3.1であった。
セルロースアシレートCE−1の作製と同様にして、平均アセチル基置換度2.45のジアセチルセルロースを作製した。数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=62000、Mw/Mn=3.1であった。
<セルロースアシレートCE−5の作製>
セルロースアシレートCE−1の作製と同様にして、平均アセチル基置換度2.15のジアセチルセルロースを作製した。数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=65000、Mw/Mn=3.0であった。
セルロースアシレートCE−1の作製と同様にして、平均アセチル基置換度2.15のジアセチルセルロースを作製した。数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=65000、Mw/Mn=3.0であった。
<セルロースアシレートCE−6の作製>
セルロースアシレートCE−1の作製と同様にして、平均アセチル基置換度1.95のジアセチルセルロースを作製した。数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=60000、Mw/Mn=2.9であった。
セルロースアシレートCE−1の作製と同様にして、平均アセチル基置換度1.95のジアセチルセルロースを作製した。数平均分子量をMn、重量平均分子量をMwとするとき、Mn=60000、Mw/Mn=2.9であった。
<位相差フィルム101の作製>
〈微粒子分散液1〉
シリカ微粒子(アエロジル R972V 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
〈微粒子分散液1〉
シリカ微粒子(アエロジル R972V 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
〈微粒子添加液1〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
メチレンクロライド 99質量部
微粒子分散液1 5質量部
〈主ドープ〉
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。次に溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープを調製した。
微粒子分散液1 5質量部
〈主ドープ〉
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。次に溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープを調製した。
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースアシレートCE−1 100質量部
トリフェニルフォスフェート(表2中、TPPと記載) 10質量部
微粒子添加液1 1質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープを調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度33℃、1900mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
エタノール 64質量部
セルロースアシレートCE−1 100質量部
トリフェニルフォスフェート(表2中、TPPと記載) 10質量部
微粒子添加液1 1質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープを調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度33℃、1900mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。
剥離したセルロースアセテートフィルムを、200℃の熱をかけながらテンターを用いて幅手方向に15%延伸した。延伸開始時の残留溶媒は20%であった。次いで、ローラ間ネックイン延伸法によりMD延伸機を用いて長手方向に155℃35%延伸を行った。延伸開始時の残留溶媒は5%以下であった。次いで乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130℃で、搬送張力は100N/mとした。乾燥後、2300mm幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ10μmのナーリング加工を施し、ロール状に巻き取り、幅2300mm、乾燥膜厚40μmの位相差フィルム101を得た。巻長は5000mであった。
<位相差フィルム102〜104の作製>
位相差フィルム101の作製において、位相差上昇剤I−(3)を2質量部加えた以外は同様にして、位相差フィルム102を作製した。
位相差フィルム101の作製において、位相差上昇剤I−(3)を2質量部加えた以外は同様にして、位相差フィルム102を作製した。
次いで、位相差フィルム101、102に対してセルロースアシレート1をセルロースアシレート2に変えた以外は同様にして位相差フィルム103、104を作製した。
<位相差フィルム105〜107の作製>
主ドープを下記構成に下以外は位相差フィルム101と同様にして、位相差フィルム105を作製した。
主ドープを下記構成に下以外は位相差フィルム101と同様にして、位相差フィルム105を作製した。
〈主ドープ〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースアシレートCE−3 100質量部
糖エステル化合物FA−7 10質量部
微粒子添加液1 1質量部
さらに、ポリエステル系可塑剤FB−19(5質量部)、位相差上昇剤I−(3)(2質量部)を表2記載のように加えた以外は位相差フィルム105と同様にして、位相差フィルム106、107を作製した。
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースアシレートCE−3 100質量部
糖エステル化合物FA−7 10質量部
微粒子添加液1 1質量部
さらに、ポリエステル系可塑剤FB−19(5質量部)、位相差上昇剤I−(3)(2質量部)を表2記載のように加えた以外は位相差フィルム105と同様にして、位相差フィルム106、107を作製した。
<位相差フィルム108〜114の作製>
主ドープを下記構成に下以外は位相差フィルム101と同様にして、位相差フィルム108を作製した。
主ドープを下記構成に下以外は位相差フィルム101と同様にして、位相差フィルム108を作製した。
〈主ドープ〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースアシレートCE−3 100質量部
糖エステル化合物FA−7 10質量部
微粒子添加液1 1質量部
さらに、ポリエステル系可塑剤FB−19(5質量部)、位相差上昇剤I−(3)(2質量部)、棒状化合物(4)(2質量部)を表2記載のように加えた以外は位相差フィルム108と同様にして、位相差フィルム109〜111を作製した。
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルロースアシレートCE−3 100質量部
糖エステル化合物FA−7 10質量部
微粒子添加液1 1質量部
さらに、ポリエステル系可塑剤FB−19(5質量部)、位相差上昇剤I−(3)(2質量部)、棒状化合物(4)(2質量部)を表2記載のように加えた以外は位相差フィルム108と同様にして、位相差フィルム109〜111を作製した。
さらに、位相差フィルム110に対して幅手方向、長手方向の延伸温度を表2記載のように変化させた以外は同様にして位相差フィルム112〜114を作製した。
<位相差フィルム115〜118の作製>
位相差フィルム108、110に対してセルロースアシレート4をセルロースアシレート5、セルロースアシレート6に変えた以外は同様にして位相差フィルム115〜118を作製した。
位相差フィルム108、110に対してセルロースアシレート4をセルロースアシレート5、セルロースアシレート6に変えた以外は同様にして位相差フィルム115〜118を作製した。
<比較のシクロオレフィンポリマーフィルム:位相差フィルム119:COP>
ZEONOR1420(日本ゼオン社製)を、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて70℃で2時間乾燥して水分を除去した後に、65mmφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するTダイ式フィルム溶融押し出し成形機(Tダイ幅1500mm)を使用し、溶融樹脂温度240℃、Tダイ温度240℃の成形条件にて、膜厚80μmのシクロオレフィンポリマーフィルムを押し出し成形し、位相差フィルム101と同様にテンター、及びMD延伸機にて二軸延伸して、幅2300mm、厚さ40μmの位相差フィルムを作製した。
ZEONOR1420(日本ゼオン社製)を、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて70℃で2時間乾燥して水分を除去した後に、65mmφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するTダイ式フィルム溶融押し出し成形機(Tダイ幅1500mm)を使用し、溶融樹脂温度240℃、Tダイ温度240℃の成形条件にて、膜厚80μmのシクロオレフィンポリマーフィルムを押し出し成形し、位相差フィルム101と同様にテンター、及びMD延伸機にて二軸延伸して、幅2300mm、厚さ40μmの位相差フィルムを作製した。
<比較のポリカーボネートフィルム:位相差フィルム120:PC>
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水152400部、25%水酸化ナトリウム水溶液84320部を入れ、HPLC分析で純度99.8%の9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(以下“ビスクレゾールフルオレン”と略称することがある)34848部、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン9008部(以下“ビスフェノールA”と略称することがある)及びハイドロサルファイト88部を溶解した後、塩化メチレン178400部を加えた後撹拌下15〜25℃でホスゲン18248部を60分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、p−tert−ブチルフェノール177.8部を塩化メチレン2640部に溶解した溶液及び25%水酸化ナトリウム水溶液10560部を加え、乳化後、トリエチルアミン32部を加えて28〜33℃で1時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、塩化メチレン相を濃縮、脱水してポリカーボネート濃度が20%の溶液を得た。この溶液から溶媒を除去して得たポリカーボネート(共重合体A)はビスクレゾールフルオレンとビスフェノールAとの構成単位の比がモル比で70:30であった(ポリマー収率97%)。また、このポリマーの極限粘度は0.674、Tgは226℃であった。
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水152400部、25%水酸化ナトリウム水溶液84320部を入れ、HPLC分析で純度99.8%の9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(以下“ビスクレゾールフルオレン”と略称することがある)34848部、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン9008部(以下“ビスフェノールA”と略称することがある)及びハイドロサルファイト88部を溶解した後、塩化メチレン178400部を加えた後撹拌下15〜25℃でホスゲン18248部を60分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、p−tert−ブチルフェノール177.8部を塩化メチレン2640部に溶解した溶液及び25%水酸化ナトリウム水溶液10560部を加え、乳化後、トリエチルアミン32部を加えて28〜33℃で1時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、塩化メチレン相を濃縮、脱水してポリカーボネート濃度が20%の溶液を得た。この溶液から溶媒を除去して得たポリカーボネート(共重合体A)はビスクレゾールフルオレンとビスフェノールAとの構成単位の比がモル比で70:30であった(ポリマー収率97%)。また、このポリマーの極限粘度は0.674、Tgは226℃であった。
エタノールを4質量部含む、メチレンクロライドとエタノール混合溶媒75質量部に対して、前記ポリカーボネート25質量部を25℃で攪拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなドープを得た。このドープを乾燥空気を送風して露点を12℃以下に制御した幅1500mステンレスベルト上に流延し、剥離した。そのときの残留溶媒濃度は35%だった。剥離性は良好であり帯電も少ないことより目視観察ではフィルム表面に剥離段や剥離筋等は見られなかった。その後、残留溶媒濃度が2%のとき、位相差フィルム101と同様にテンター、及びMD延伸機にて二軸延伸して、幅2300mm、厚さ40μmの芳香族ポリカーボネートフィルムを得た。
<偏光子の作製>
(PVAフィルムの準備)
幅800mm、厚さ150μm、巻き長2000mの原反PVAフィルムを準備した。
(PVAフィルムの準備)
幅800mm、厚さ150μm、巻き長2000mの原反PVAフィルムを準備した。
(偏光子の作製)
(1)膨潤工程及び幅手方向延伸工程
前記PVAフィルムの両面に、気相中で、30℃の水(膨潤液)を30秒噴霧しながら、テンターを用いて、膨潤前のPVAフィルムの幅に対して、2.2倍の長さになるように幅手方向に一軸延伸を行った。
(1)膨潤工程及び幅手方向延伸工程
前記PVAフィルムの両面に、気相中で、30℃の水(膨潤液)を30秒噴霧しながら、テンターを用いて、膨潤前のPVAフィルムの幅に対して、2.2倍の長さになるように幅手方向に一軸延伸を行った。
(2)染色工程及び幅手方向延伸工程
前記PVAフィルムの片面に、気相中で、水とヨウ素とヨウ化カリウムとを質量比92:7:1の割合で含む30℃の水溶液(染色液)を47秒噴霧しながら、テンターを用いて、前記膨潤工程後のPVAフィルムの幅に対して、1.2倍の幅になるように幅手方向に一軸延伸を行った。
前記PVAフィルムの片面に、気相中で、水とヨウ素とヨウ化カリウムとを質量比92:7:1の割合で含む30℃の水溶液(染色液)を47秒噴霧しながら、テンターを用いて、前記膨潤工程後のPVAフィルムの幅に対して、1.2倍の幅になるように幅手方向に一軸延伸を行った。
(3)架橋工程及び幅手方向延伸工程
前記PVAフィルムの片面に、気相中で、3質量%のホウ酸と3質量%のヨウ化カリウムとを含む30℃の水溶液(架橋液)を52秒噴霧しながら、テンターを用いて、前記染色工程後のPVAフィルムの幅さに対して、1.1倍の長さになるように幅手方向に一軸延伸を行った。
前記PVAフィルムの片面に、気相中で、3質量%のホウ酸と3質量%のヨウ化カリウムとを含む30℃の水溶液(架橋液)を52秒噴霧しながら、テンターを用いて、前記染色工程後のPVAフィルムの幅さに対して、1.1倍の長さになるように幅手方向に一軸延伸を行った。
(4)幅方向延伸工程
前記PVAフィルムの片面に、気相中で、4質量%のホウ酸と5質量%のヨウ化カリウムとを含む30℃の水溶液(延伸液)を58秒噴霧しながら、テンターを用いて、前記架橋工程後のPVAフィルムの幅に対し、1.1倍の幅になるように幅手方向に一軸延伸を行った。
前記PVAフィルムの片面に、気相中で、4質量%のホウ酸と5質量%のヨウ化カリウムとを含む30℃の水溶液(延伸液)を58秒噴霧しながら、テンターを用いて、前記架橋工程後のPVAフィルムの幅に対し、1.1倍の幅になるように幅手方向に一軸延伸を行った。
(5)調整工程
前記幅手方向延伸処理後の前記PVAフィルムの片面に、気相中で、4質量%のヨウ化カリウムを含む30℃の水溶液(調整液)を10秒噴霧した。
前記幅手方向延伸処理後の前記PVAフィルムの片面に、気相中で、4質量%のヨウ化カリウムを含む30℃の水溶液(調整液)を10秒噴霧した。
(6)開放工程、乾燥工程
前記PVAフィルムを把持手段から開放した後、乾燥温度60℃の乾燥機中で、前記PVAフィルムを5分間乾燥させた後担持部分を切り落とし、厚さ60μm、幅2300mmの偏光子を得た。
前記PVAフィルムを把持手段から開放した後、乾燥温度60℃の乾燥機中で、前記PVAフィルムを5分間乾燥させた後担持部分を切り落とし、厚さ60μm、幅2300mmの偏光子を得た。
(偏光子保護フィルムの作製)
〈微粒子分散液1〉
微粒子(アエロジル R812V 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
〈微粒子分散液1〉
微粒子(アエロジル R812V 日本アエロジル(株)製) 11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
〈微粒子添加液1〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
メチレンクロライド 99質量部
微粒子分散液1 5質量部
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにアセチル基置換度2.88のセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープを調製した。
微粒子分散液1 5質量部
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにアセチル基置換度2.88のセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープを調製した。
〈主ドープの組成〉
メチレンクロライド 550質量部
エタノール 40質量部
セルロースアセテート(アセチル基置換度2.88、数平均分子量130000)
100質量部
エステル化合物(芳香族末端エステル例示化合物FB−19) 9質量部
微粒子添加液1 5質量部
チヌビン928(BASFジャパン社製) 2.6質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープを調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度33℃、1900mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
メチレンクロライド 550質量部
エタノール 40質量部
セルロースアセテート(アセチル基置換度2.88、数平均分子量130000)
100質量部
エステル化合物(芳香族末端エステル例示化合物FB−19) 9質量部
微粒子添加液1 5質量部
チヌビン928(BASFジャパン社製) 2.6質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープを調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度33℃、1900mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。
剥離したセルロースアセテートフィルムはテンターを用いて延伸温度を160℃になるように調整し、幅手方向に延伸倍率30%で延伸した。延伸開始時の残留溶媒は15%であった。
次いで、乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させ巻き取った。乾燥温度は130℃で、搬送張力は100N/mとした。
以上のようにして、フィルム幅2300mm、乾燥膜厚60μm、長さ5000mの延伸セルロースエステルフィルム1を作製した。
フィルムから任意の位置10点のサンプルを採取し、リターデーションRo、Rtの平均値を測定したところ、Ro5nm、Rt45nmであった。
<偏光板作製>
前記作製した位相差フィルム101〜120と、上記作製した偏光子、及び上記作製した偏光子保護フィルムとを、この順にて積層し、偏光板201〜220を作製した。
前記作製した位相差フィルム101〜120と、上記作製した偏光子、及び上記作製した偏光子保護フィルムとを、この順にて積層し、偏光板201〜220を作製した。
その際、特開2002−187960号公報を参照し、幅を合わせてロールtoロールによって貼合して幅2300mmの広幅偏光板を作製した。
(偏光板の作製)
下記工程1〜4に従って、前記作製した位相差フィルム、偏光子、及び偏光子保護フィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。
下記工程1〜4に従って、前記作製した位相差フィルム、偏光子、及び偏光子保護フィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。
工程1:前述の偏光子を、固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に1〜2秒間浸漬した。
工程2:位相差フィルム101とKC4UYを下記条件でアルカリ鹸化処理を実施した。次いで、工程1でポリビニルアルコール接着剤溶液に浸漬した偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光子を位相差フィルム101と偏光子保護フィルムとで挟み込んで、積層配置した。
(アルカリ鹸化処理)
ケン化工程 2.5M−KOH 50℃ 120秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
中和工程 10質量部HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで100℃で乾燥。
ケン化工程 2.5M−KOH 50℃ 120秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
中和工程 10質量部HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで100℃で乾燥。
工程3:積層物を、2つの回転するローラにて20〜30N/cm2の圧力で約2m/minの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意して実施した。
工程4:工程3で作製した試料を、温度100℃の乾燥機中にて5分間乾燥処理し、偏光板を作製した。
工程5:工程4で作製した偏光板の偏光子保護フィルムに市販のアクリル系粘着剤を乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、110℃のオーブンで5分間乾燥して粘着層を形成し、粘着層に剥離性の保護フィルムを張り付けた。この偏光板を576×324mmサイズに裁断(打ち抜き)し、偏光板を作製した。
<評価>
<位相差フィルムの評価>
(遅相軸の方向)
アッベ屈折率計(1T)によりフィルム試料の、23℃、55%RHの環境下、波長590nmでの平均屈折率を測定し、遅相軸の方向を求めた。
<位相差フィルムの評価>
(遅相軸の方向)
アッベ屈折率計(1T)によりフィルム試料の、23℃、55%RHの環境下、波長590nmでの平均屈折率を測定し、遅相軸の方向を求めた。
表2中、MDとあるのは、MD方向に対して±1°の範囲で平行な方向に遅相軸があることを示す。
(リターデーションの測定)
リターデーション値Ro、Rtは以下の式によって求めた。
リターデーション値Ro、Rtは以下の式によって求めた。
式(I):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
ここにおいて、dはフィルムの厚さ(nm)、屈折率nx(遅相軸方向の屈折率)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚さ方向におけるフィルムの屈折率)である。屈折率はアッベの屈折率計を用い、23℃、55%RHの環境下で、波長590nmでの屈折率測定を行った。
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
ここにおいて、dはフィルムの厚さ(nm)、屈折率nx(遅相軸方向の屈折率)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚さ方向におけるフィルムの屈折率)である。屈折率はアッベの屈折率計を用い、23℃、55%RHの環境下で、波長590nmでの屈折率測定を行った。
また上記リターデーション値(Ro)、(Rt)は自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長590nmで求めた。
(位相差フィルムのガラス転移温度の測定)
位相差フィルムのガラス転移温度Tgは、示差走査熱量測定器(Perkin Elmer社製DSC−7型)を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めた中間点ガラス転移温度(Tmg)とする。
位相差フィルムのガラス転移温度Tgは、示差走査熱量測定器(Perkin Elmer社製DSC−7型)を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めた中間点ガラス転移温度(Tmg)とする。
<偏光板を用いた評価>
ガラスに透明粘着テープ(3M社製 8146−1)を貼り付けた後に、上記作製した偏光板を貼り付けた。その後、偏光板のリワークを行った際の、フィルム破断を目視観察し以下の順位付けを行った。実用上は○以上が許容される。
ガラスに透明粘着テープ(3M社製 8146−1)を貼り付けた後に、上記作製した偏光板を貼り付けた。その後、偏光板のリワークを行った際の、フィルム破断を目視観察し以下の順位付けを行った。実用上は○以上が許容される。
◎:5回まで破断しなかった
○:3回まで破断しなかった
△:1回まで破断しなかった
×:1回で破断した
<VA型液晶表示装置を用いた評価>
(VA型液晶表示装置の作製)
シャープ社製の液晶テレビ(LC−46L5))を部分的に分解し、当該液晶テレビのバックライトユニット側に貼られたバックライト側の偏光板を除去し、その代わりに上記で作製した偏光板201〜220を位相差フィルムが液晶セル側になるように貼り付けて、VA型液晶表示装置301〜320を作製した。
○:3回まで破断しなかった
△:1回まで破断しなかった
×:1回で破断した
<VA型液晶表示装置を用いた評価>
(VA型液晶表示装置の作製)
シャープ社製の液晶テレビ(LC−46L5))を部分的に分解し、当該液晶テレビのバックライトユニット側に貼られたバックライト側の偏光板を除去し、その代わりに上記で作製した偏光板201〜220を位相差フィルムが液晶セル側になるように貼り付けて、VA型液晶表示装置301〜320を作製した。
(液晶表示装置を用いた評価1)
作製した液晶表示装置を60℃、90%RHにて1500時間保管した後、液晶表示装置を点灯して、6時間後に黒表示での周辺の光漏れ(コーナームラ)の有無を確認した。
作製した液晶表示装置を60℃、90%RHにて1500時間保管した後、液晶表示装置を点灯して、6時間後に黒表示での周辺の光漏れ(コーナームラ)の有無を確認した。
◎:周辺の光漏れは全く認められない
○:周辺の光漏れはほとんど気にならない
△:周辺の光漏れが認められる
×:周辺の光漏れが著しい
(液晶表示装置を用いた評価2)
液晶表示装置を斜め60°方向から観察したときの視認性とヘイズによる視認性の劣化度を目視で評価した。
○:周辺の光漏れはほとんど気にならない
△:周辺の光漏れが認められる
×:周辺の光漏れが著しい
(液晶表示装置を用いた評価2)
液晶表示装置を斜め60°方向から観察したときの視認性とヘイズによる視認性の劣化度を目視で評価した。
Claims (5)
- 少なくとも偏光子と位相差フィルムを貼合した広幅偏光板であって、
該偏光子がポリビニルアルコール系フィルムを幅手方向に延伸し、吸収軸が幅手方向にある幅2100mm以上の偏光子であり、
該位相差フィルムが、アシル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるセルロースアシレートを含有し、かつ二軸延伸されて遅相軸が長手方向にあり、下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲である幅2100mm以上の位相差フィルムであることを特徴とする広幅偏光板。
式(I):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。) - 前記セルロースアシレートが、アセチル基置換度が2.0〜2.5の範囲であるジアセチルセルロースであることを特徴とする請求項1に記載の広幅偏光板。
- 前記位相差フィルムが、二糖類の糖エステル化合物、ポリエステル系化合物、及び位相差上昇剤の少なくとも1種を含有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の広幅偏光板。
- 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の広幅偏光板を、液晶テレビの液晶セルに対してバックライト側に用いることを特徴とする液晶表示装置。
- 請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の広幅偏光板の製造方法であって、
前記位相差フィルムを、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg+20℃以上の範囲の温度で幅手方向に延伸した後に、該位相差フィルムのガラス転移温度Tg±20℃以内の範囲の温度で長手方向に延伸して、遅相軸を長手方向に付与し、かつ下記式で表される面内位相差値Roが40〜85nmの範囲であり、厚さ方向の位相差値Rtが120〜400nmの範囲となるように二軸延伸することを特徴とする広幅偏光板の製造方法。
式(I):Ro=(nx−ny)×d(nm)
式(II):Rt={(nx+ny)/2−nz}×d(nm)
(上記式中、Roは位相差フィルム内の面内位相差値を表し、Rtはフィルム内の厚さ方向の位相差値を表す。また、dは位相差フィルムの厚さを表し、nxは位相差フィルムの面内の最大(遅相軸方向)の屈折率を表す。nyは位相差フィルム面内で遅相軸に直角な方向(進相軸方向)の屈折率を表し、nzは厚さ方向における位相差フィルムの屈折率を表す。なお、測定条件は、23℃・55%RHにおいて測定波長590nmである。)
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Cited By (3)
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---|---|---|---|---|
WO2018199141A1 (ja) * | 2017-04-26 | 2018-11-01 | 日本合成化学工業株式会社 | ポリビニルアルコール系フィルム、偏光膜および偏光板、ならびにポリビニルアルコール系フィルムの製造方法 |
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-
2011
- 2011-12-28 JP JP2011287205A patent/JP2013137357A/ja active Pending
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