JP2013136539A - テトラアルコキシシランの製造方法 - Google Patents

テトラアルコキシシランの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2013136539A
JP2013136539A JP2011288384A JP2011288384A JP2013136539A JP 2013136539 A JP2013136539 A JP 2013136539A JP 2011288384 A JP2011288384 A JP 2011288384A JP 2011288384 A JP2011288384 A JP 2011288384A JP 2013136539 A JP2013136539 A JP 2013136539A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
silicon powder
reaction
tetraalkoxysilane
amount
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011288384A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsukasa Ogawa
司 小川
Tsugio Murakami
次雄 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP2011288384A priority Critical patent/JP2013136539A/ja
Publication of JP2013136539A publication Critical patent/JP2013136539A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】 装置の腐食がなく、テトラアルコキシシランの選択性が高く、触媒の失活が抑制され、回分反応では、触媒の繰り返し使用回数が増加し、触媒費用の低減、運転操作性の向上、そして、主に劣化触媒に由来する廃棄物量の低減につながり、経済性が高いテトラアルコキシシランの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ金属アルコキシド触媒の存在下、ケイ素粉末とアルキルアルコールを反応させてテトラアルコキシシランを製造するに際し、鉄、アルミニウム、カルシウムの合計量が元素基準で0.8wt%以下であるケイ素粉末を用いる。
【選択図】 なし

Description

本発明は、テトラアルコキシシランの製造方法に関する。詳しくは、アルカリ金属アルコキシド触媒の存在下、ケイ素粉末とアルキルアルコールを液相中で反応させてテトラアルコキシシランを製造する方法に関するものである。
従来、テトラアルコキシシランを製造する方法としては、(1)四塩化ケイ素とアルコールを反応させる方法、(2)ケイ素とアルコールを反応させる方法等が知られている。
(1) SiCl + 4ROH → Si(OR) + 4HCl
(2) Si + 4ROH → Si(OR) + 2H
しかしながら、(1)の四塩化ケイ素を原料とする方法では、塩化水素が副生し、反応装置を腐食させる問題があった。また、副生した塩化水素により、生成物のテトラアルコキシシランの一部が分解し、収率が低下する問題もあった。
(2)のケイ素を原料とする方法では触媒を用いるが、銅系触媒、アルカリ金属触媒が知られている。ここで、銅系触媒を用いた場合、トリアルコキシシランが副生し、目的とするテトラアルコキシシランの収率が低いものとなる。一方、アルカリ金属触媒では、テトラアルコキシシランの収率は高くなるが、触媒の必要量が多く、そのコストが嵩み、また、触媒由来の廃棄物処理量も多くなるという問題があった。例えば、特許文献1の実施例1では、温度140℃、4kg/cm(ゲージ圧)の加圧下で反応を行い、1時間後、ケイ素の転化率100%、テトラメトキシシランの選択率95%の結果を得ている。しかし、ケイ素(純度98%、平均粒径4μm)30gに対して、用いたナトリウムメトキシドは4g(ケイ素に対して、13.3wt%)と多いものであった。また、特許文献2の実施例1では、温度95℃で常圧下反応を行い、2時間後、ケイ素の転化率98%、テトラメトキシシランの選択率95%の結果を得ている。しかしながら、ケイ素(純度98%、平均粒径4μm)15gに対して、ナトリウムメトキシド5g(ケイ素に対して、33.3wt%)と多く、さらには助触媒として鉄粉3g(ケイ素に対して、20wt%)を用いたものであった。
特開昭63−41482号公報 特開昭63−215683号公報
本発明は、前記従来法の問題点を解決できる、工業的に有用なテトラアルコキシシランの製造方法を提供することにある。
本発明者らは、上記問題点を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、原料であるケイ素粉末中の不純物種とその含有量が反応に強く影響することを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、
[1]アルカリ金属アルコキシド触媒の存在下、ケイ素粉末とアルキルアルコールを反応させてテトラアルコキシシランを製造するに際し、鉄、アルミニウム、カルシウムの合計量が元素基準で0.8wt%以下であるケイ素粉末を用いることを特徴とするテトラアルコキシシランの製造方法。
[2]アルカリ金属アルコキシド触媒がナトリウムアルコキシドであることを特徴とする[1]に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
[3]アルキルアルコールがメタノールであることを特徴とする[1]または[2]に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
[4]ケイ素粉末とアルキルアルコールの反応を回分式で実施し、テトラアルコキシシランを製造するに際し、アルカリ金属アルコキシド触媒を繰り返し使用することを特徴とする[1]〜[3]に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
に関する。
本発明によれば、反応時にアルカリ金属アルコキシド触媒の失活が抑制され、その必要量は少なく、また、触媒を繰り返し使用でき、経済面からも環境面からも優れた結果が得られる。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、原料であるケイ素粉末中の不純物種とその含有量は極めて重要であり、鉄、アルミニウム、カルシウムの合計量が元素基準で0.8wt%以下であることが必須である。通常、ケイ素は、ケイ石やケイ砂を水素ガス、一酸化炭素、炭素等で還元して製造される。この時の工業的還元剤は炭素である。そして、この還元生成物のケイ素には、ケイ石やケイ砂、そして炭素由来の不純物が含まれている。代表的な不純物が、鉄、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、クロム、銅、チタンであり、金属やケイ化物、炭化物の形で存在するとされている。
本発明者らは、各種グレードのケイ素粉末について、不純物種や含有量と反応との関係を検討した。この時、試薬を用いた不純物の影響確認も実施した。
そして、ケイ素粉末中の着目不純物は、鉄、アルミニウム、カルシウムの3種と判り、元素基準でこれらの合計量が0.8wt%以下の時、反応はスムースに進行し、高い反応結果が得られることが判った。また、この時用いるアルカリ金属アルコキシド触媒の失活が抑えられ、バッチ反応では繰り返し使用でき、連続反応では長時間継続使用が可能となる。一方、これら不純物の合計量が0.8wt%を超えると触媒の失活が早くなり、繰り返し使用ができなくなる。この理由は定かではないが、アルカリ金属アルコキシド触媒が、これら不純物と反応もしくは吸着して活性が低下するものと考えられる。好ましいこれら不純物の合計量は0.4wt%以下であり、より触媒の使用量を少なくでき、また生産性を高めることができる。
また、特許文献1にもあるように、ケイ素粉末の粒径が反応に及ぼす影響も大きい。ケイ素粉末の粒径は、反応速度の向上のためには小さい方が良い。本発明では、一般に入手可能な1〜300μm程度のものを使用することができる。反応速度を高めるためには、平均粒径として1〜10μmのケイ素粉末を用いることが好ましい。ケイ素粉末の粒径は、ボールミル、ジェットミル等の粉砕機を用いることで制御することができる。例えば、ボールミルでは、ボール径、粉砕時間等により粒径を制御可能である。
アルキルアルコールとしては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどを挙げることができる。ここで、アルキルアルコールとして、メタノール、エタノール、プロパノールの反応性が良く、またそのテトアルコキシシランも需要が多く、好ましいアルコールである。アルキルアルコールのグレードは、一般市販品でも使用可能である。但し、水分の存在は反応率を低下させるため、水分含有量は少ない方が好ましく、1000ppm以下、さらに好ましくは300ppm以下である。アルキルアルコールに含まれる水分の除去は、一般的には蒸留やモレキュラーシーブとの接触等により行うことができる。
次に、反応溶媒は用いても用いなくても良い。用いる場合、溶媒としては、テトラアルコキシシラン、アルキルアルコールと相溶性があり、アルキルアルコールよりも沸点が高く、反応を阻害しないものであれば良く、特に制限されるものではない。最も好ましいのは、生成物であるテトラアルコキシシランを溶媒として用いることであり、溶媒と生成物を分離する必要もなく、反応もスムースに進み、プロセス上大きな利点となる。
本発明において使用される触媒は、アルカリ金属アルコキシドである。具体的には、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルコキシドである。通常、原料のアルキルアルコールに相応したアルコキシドを使用する。反応性、入手面からナトリウムアルコキシド、カリウムアルコキシドが好ましい。
触媒濃度は、ケイ素粉末に対して1〜35wt%が好ましい。触媒濃度が、1wt%よりも低い場合は触媒活性が低くなり、逆に35wt%を越えても反応率、反応速度はさほど大きくならないため、非効率である。
反応形式は、回分式、連続式のいずれもが適用できるが、操作性と反応率を高めるためには回分式が好ましい。回分式では、反応器にケイ素粉末、触媒、溶媒を仕込み、所定温度に昇温後、所定温度を維持するようにアルキルアルコールを連続あるいは間欠的にフィードして反応を行う。尚、アルキルアルコールの一部をあらかじめ反応器に仕込んでおいても良い。反応の進行は、副生する水素ガスの発生状況から判断することができる。そして、水素の発生が停止した時点で反応を終了し、反応器の還流ラインを留出ラインに切り替え、反応器内の温度を徐々に上昇させながら、未反応のアルキルアルコールおよび生成したテトラアルコキシシランを留出させる。ここで蒸留器を備えておくと、アルキルアルコールと分離されたテトラアルコキシシラン製品を直接得ることができる。留出がほぼ終了したら降温して、反応して減少した量のケイ素粉末を追加し、1バッチ目と同様に2バッチ目の反応を行うことができる。さらに、3バッチ目以降も同様に行うことができる。経済面から重要なことは、テトラアルコキシシラン製造における触媒の原単位であり、これが小さい程、経済性は高まる。
本発明によれば、触媒の繰り返し使用回数を4回以上とすることもでき、それにより触媒の原単位をさらに小さくすることができる。
テトラアルコキシシランの選択率は通常98%以上と高く、便宜上、原料として反応に供したケイ素粉末に対する使用した触媒量の割合で評価しても良い。回分式で反応を繰り返し行った場合、この割合を小さくすることができる。その好ましい比率は8wt%以下である。
本発明は、常圧下、加圧下のいずれでも実施可能である。加圧下では、それよりも圧力が低い系と同じ反応温度であっても、反応液中のアルキルアルコール濃度を高くでき、反応速度を高めることができる。しかしながら、装置が複雑となるため、その費用が嵩むことから、総合的観点からは常圧操作が好ましい。
本発明において、反応温度は圧力に相関するが、常圧の場合、60〜130℃が好ましく、さらに好ましくは80〜110℃である。加圧下での好適温度は、より高温側になる。そして、反応速度はより高くなる。
本発明は、アルカリ金属アルコキシドを触媒として用いて、ケイ素粉末とアルキルアルコールからテトラアルコキシシランを製造する際に、不純物の鉄、アルミニウム、カルシウムの合計量が元素基準で0.8wt%以下であるケイ素粉末を用いることにより、触媒の失活を抑制でき、触媒の繰り返し使用回数を増加し、触媒コストを大幅に低減することができるものである。また、本発明は、触媒や原料ケイ素粉末に由来する廃棄物量も低減でき、工業的に極めて有用な方法である。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例にのみ限定されるものではない。そして、実施例、比較例で示す全ての%は、重量に基づくものである。
実施例1
撹拌機と留出ラインに切り替え可能な還流冷却器を備えた0.5Lのセパラブルフラスコに、不純物の鉄が0.017%、アルミニウムが0.025%、カルシウムが0.005%、合計で0.047%を含み、平均粒径が4μmのケイ素粉末40g(1.43mol)、ナトリウムメトキシド6.7g(0.12mol、ケイ素粉末量に対して16.8%)、および溶媒としてテトラメトキシシラン120gを仕込み、攪拌しながら油浴(120℃)で加熱した。液温が95℃に達した時点で、メタノールの供給を開始した。その後、液温が95℃を維持するように、メタノールを間欠的に供給した。
反応の進行は、副生する水素ガスの発生状況により確認した。反応開始後、5時間で水素ガスの発生がなくなったため、反応を終了した。それまでに供給したメタノール量は171g(5.34mol)であった。
そして、還流から留出ラインに切り替えて、反応器の温度を徐々に上げていき、未反応メタノールおよび生成したテトラメトキシシランを留出させた。
降温後、反応器に前述のケイ素粉末を36g追加して、同様な操作を繰り返した。この回分式の反応操作を9回繰り返した時、初めてケイ素粉末の転化率が低下した。反応が安定したバッチ数は8回であり、その合計で評価すると、ケイ素粉末量に対するナトリウムメトキシドの量は、6.7g/(40g+36g×7)×100=2.3%であった。そして、8バッチ合計のケイ素粉末の転化率は97.2%、テトラメトキシシランの収率は95.3%、テトラメトキシシランの選択率は98.1%であった。
実施例2
不純物の鉄が0.22%、アルミニウムが0.10%、カルシウムが0.03%、合計で0.35%を含み、平均粒径が4μmのケイ素粉末を用いる以外は、実施例1と同様に操作を行った。その結果、反応開始後5時間で水素ガスの発生がなくなったため、反応を終了し、2バッチ目の反応を行った。反応は4回繰り返すまで安定しており、5回目で反応性が低下した。反応が安定した4バッチ合計で評価すると、ケイ素粉末量に対するナトリウムメトキシドの量は、6.7g/(40g+36g×3)×100=4.5%であり、ケイ素粉末の転化率は97.2%、テトラメトキシシランの収率は96.0%、テトラメトキシシランの選択率は98.8%であった。
実施例3
不純物の鉄が0.30%、アルミニウムが0.28%、カルシウムが0.13%、合計で0.71%を含み、平均粒径400μmのケイ素粉末を用いる以外は、実施例1と同様に操作を行った。その結果、反応開始後5時間で水素ガスの発生がなくなったため、反応を終了し、2バッチ目の反応を行った。反応は4回繰り返すまで安定していた。反応が安定していた4バッチ合計で評価すると、ケイ素粉末量に対するナトリウムメトキシドの量は、6.7g/(40g+36g×3)×100=4.5%であり、ケイ素粉末の転化率は97.3%、テトラメトキシシランの収率は96.3%、テトラメトキシシランの選択率は99.0%であった。
比較例1
不純物の鉄が0.50%、アルミニウムが0.39%、カルシウムが0.19%、合計で1.08%を含み、平均粒径が4μmのケイ素粉末を用いる以外は、実施例1と同様に操作を行った。その結果、反応開始後5時間で水素ガスの発生がなくなった。そして、反応が安定していたのは繰り返し回数2回のみであった。その2バッチ合計での評価は、ケイ素粉末量に対するナトリウムメトキシドの量は、6.7g/(40g+36g)=8.8%であり、ケイ素粉末の転化率は96.4%、テトラメトキシシランの収率は95.2%、テトラメトキシシランの選択率は98.7%であった。
実施例4
不純物の鉄が0.22%、アルミニウムが0.10%、カルシウムが0.03%、合計で0.35%を含み、平均粒径が4μmのケイ素粉末15g(0.54mol)、カリウムメトキシド1.22g(0.017mol、ケイ素粉末量に対して8.1%)、および溶媒としてテトラメトキシシラン90gを用いる以外は、実施例1と同様に操作を行った。触媒活性は大きく、反応開始後、3時間で水素ガスの発生がなくなった。そして、反応を終了した。この1バッチの成績は、ケイ素粉末の転化率が97.0%、テトラメトキシシランの収率が96.0%、テトラメトキシシランの選択率が99.0%であった。カリウムメトキシド触媒は、ナトリウムメトキシド触媒に比べ、少量且つ短時間で同等の結果が得られた。
実施例5
撹拌機、留出ライン、原料供給ラインを備えた0.5Lのセパラブルフラスコに、不純物の鉄が0.22%、アルミニウムが0.10%、カルシウムが0.03%、合計で0.35%を含み、平均粒径が4μmのケイ素粉末15g(0.54mol)、ナトリウムメトキシド5.0g(0.09mol、ケイ素粉末量に対して33.3wt%)、および溶媒としてテトラメトキシシラン250gを仕込み、攪拌しながら油浴(125℃)で加熱した。液温が100℃に達した時点で、メタノールの供給を開始した。その後、ケイ素粉末の供給法として、50%ケイ素粉末/テトラメトキシシランスラリーで供給しながら、液温が100℃を維持するように、前述のメタノールを間欠的に供給した。また、生成物は連続的に留出ラインより、組成:テトラメトキシラン約60%/メタノール約40%で抜き出した。18時間反応を継続し、50%ケイ素粉末/テトラメトキシシランスラリーを186g、メタノールを488g供給した。ケイ素粉末量に対するナトリウムメトキシドの量は、5.0g/(15g+(186×0.5)g)=4.6%、ケイ素粉末の転化率は97.2%、テトラメトキシシランの収率は96.8%、テトラメトキシシランの選択率は99.6%であった。
本発明は、アルカリ金属アルコキシド触媒の存在下、ケイ素粉末とアルキルアルコールを液相中で反応させてテトラアルコキシシランを製造する方法に関するものであり、このテトラアルコキシシランは、高純度シリカ粉末、コロイダルシリカやセラミックス等の製造原料として用いられる産業上有用な化合物である。

Claims (4)

  1. アルカリ金属アルコキシド触媒の存在下、ケイ素粉末とアルキルアルコールを反応させてテトラアルコキシシランを製造するに際し、鉄、アルミニウム、カルシウムの合計量が元素基準で0.8wt%以下であるケイ素粉末を用いることを特徴とするテトラアルコキシシランの製造方法。
  2. アルカリ金属アルコキシド触媒がナトリウムアルコキシドであることを特徴とする請求項1に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
  3. アルキルアルコールがメタノールであることを特徴とする請求項1または2に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
  4. ケイ素粉末とアルキルアルコールの反応を回分式で実施し、テトラアルコキシシランを製造するに際し、アルカリ金属アルコキシド触媒を繰り返し使用することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のテトラアルコキシシランの製造方法。
JP2011288384A 2011-12-28 2011-12-28 テトラアルコキシシランの製造方法 Pending JP2013136539A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011288384A JP2013136539A (ja) 2011-12-28 2011-12-28 テトラアルコキシシランの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011288384A JP2013136539A (ja) 2011-12-28 2011-12-28 テトラアルコキシシランの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013136539A true JP2013136539A (ja) 2013-07-11

Family

ID=48912621

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011288384A Pending JP2013136539A (ja) 2011-12-28 2011-12-28 テトラアルコキシシランの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013136539A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019119736A (ja) * 2017-12-27 2019-07-22 国立研究開発法人産業技術総合研究所 テトラアルコキシシランの製造方法
KR102060081B1 (ko) 2019-04-29 2019-12-30 한국과학기술연구원 테트라알콕시실란의 연속 제조방법
CN115253957A (zh) * 2022-05-27 2022-11-01 中化学华陆新材料有限公司 一种硅粉直接法连续生产正硅酸烷基酯的装置及方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6341482A (ja) * 1986-08-08 1988-02-22 Mitsubishi Gas Chem Co Inc テトラメトキシシランの製法
JPS63215683A (ja) * 1987-02-28 1988-09-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc テトラメトキシシランの製造法
JPS6456685A (en) * 1987-05-21 1989-03-03 Tama Kagaku Kogyo Kk Production of trialkoxysilane
JPH08143576A (ja) * 1994-11-14 1996-06-04 Toagosei Co Ltd 不均化反応が抑制されたアルコキシシラン組成物
JP2001302676A (ja) * 2000-04-19 2001-10-31 Mitsubishi Chemicals Corp テトラアルコキシシランの製造方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6341482A (ja) * 1986-08-08 1988-02-22 Mitsubishi Gas Chem Co Inc テトラメトキシシランの製法
JPS63215683A (ja) * 1987-02-28 1988-09-08 Mitsubishi Gas Chem Co Inc テトラメトキシシランの製造法
JPS6456685A (en) * 1987-05-21 1989-03-03 Tama Kagaku Kogyo Kk Production of trialkoxysilane
JPH08143576A (ja) * 1994-11-14 1996-06-04 Toagosei Co Ltd 不均化反応が抑制されたアルコキシシラン組成物
JP2001302676A (ja) * 2000-04-19 2001-10-31 Mitsubishi Chemicals Corp テトラアルコキシシランの製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019119736A (ja) * 2017-12-27 2019-07-22 国立研究開発法人産業技術総合研究所 テトラアルコキシシランの製造方法
JP7197829B2 (ja) 2017-12-27 2022-12-28 国立研究開発法人産業技術総合研究所 テトラアルコキシシランの製造方法
KR102060081B1 (ko) 2019-04-29 2019-12-30 한국과학기술연구원 테트라알콕시실란의 연속 제조방법
WO2020222410A1 (ko) * 2019-04-29 2020-11-05 한국과학기술연구원 테트라알콕시실란의 연속 제조방법
CN115253957A (zh) * 2022-05-27 2022-11-01 中化学华陆新材料有限公司 一种硅粉直接法连续生产正硅酸烷基酯的装置及方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101816946A (zh) 一种用于四氯化硅氢化的催化剂的制备方法以及其应用
US20140017155A1 (en) Process for preparing trichlorosilane
JP2013136539A (ja) テトラアルコキシシランの製造方法
KR101309600B1 (ko) 트리클로로실란 제조방법
US20110257422A1 (en) Process For Producing Organohalohydrosilanes
CN101277917B (zh) 制备3,3,3-三氟丙醛的方法
JP5256588B2 (ja) 高純度シリコンの製造方法
EP2780347B1 (en) A method for preparing a diorganodihalosilane
KR101435926B1 (ko) 클로로실란의 하이드로젠 실란으로의 탈염소수소화를 위한 촉매 및 그 촉매를 사용한 하이드로젠실란의 제조 방법
JP5852377B2 (ja) アルミニウムアルコキサイドの製造方法
JPH0321556B2 (ja)
JP5878043B2 (ja) アルミニウムアルコキサイドの製造方法
JPH1053546A (ja) アルカリアルコラートの接触反応による製造のための方法
JP3980858B2 (ja) アルカリ金属アルコキシドの接触製造法
JP2001081094A (ja) メチルクロロシランを直接合成するための連続法
JP2613261B2 (ja) トリクロロシランの製造方法
JP2013060388A (ja) アルミニウムアルコキサイドの製造方法
JP2016525497A (ja) トリクロロシランの製造
JP2613260B2 (ja) トリクロロシランの製造方法
JP2001302676A (ja) テトラアルコキシシランの製造方法
JP2008247850A (ja) テトラシクロドデセンの製造方法
Lewis Recent advances in the direct process
US20090304568A1 (en) Process for Producing Silane
JPH0788214B2 (ja) トリクロロシランの製造方法
KR20160144541A (ko) 삼염화실란의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141204

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150630

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150707

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150904

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160301

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160601

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160720

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20160725

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20161007