JP2013117007A - 研磨材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ダイヤモンド、アルミナ、及び炭化ケイ素のいずれかを主成分とする砥粒に、短径が前記砥粒の平均粒径よりも小さく、且つ硬度が前記砥粒よりも低い金属酸化物、非酸化物、金属又はこれらの混合物を含有させた混合粉体からなることを特徴とする研磨材3。
【選択図】図1
Description
実施例1では、本発明の研磨材を分散させたラップ剤として、平均粒径8μmのWA砥粒(アルミナ):3wt%、平均粒径2μmの酸化タングステン(WO3):1wt%、水:96wt%のラップ剤を用いて、ソーダガラスのラッピング研磨を行った。
(ラッピング研磨条件)
ラッピング装置:GRIND−X SPL15T(株式会社岡本工作機械製作所製)
ラップ定盤:ケメット定盤
研磨圧力:20kPa
加工速度:20m/min(ラップ定盤回転数:60rpm)
研磨時間:5分
ラップ剤流量:25mL/min
比較例1では、研磨材として酸化タングステンを添加させていない平均粒径8μmのWA砥粒:3wt%を水:97wt%に分散させたラップ剤を用いて実施例1と同様の条件にてソーダガラスのラッピング研磨を行った。
実施例2では、本発明の研磨材を分散させたラップ剤として、平均粒径10μmのGC砥粒(SiC):3wt%、平均粒径4μmの酸化タングステン(WO3):1wt、水:96wt%のラップ剤を用いて実施例1と同様の条件についてソーダガラスのラッピング研磨を行った。
実施例3では、本発明の研磨材を分散させたラップ剤として、平均粒径10μmのGC砥粒(SiC):3wt%、平均粒径2μmのシリカ粒子(SiO2):1wt%、水:96wt%のラップ剤を用いて実施例1及び実施例2と同様の条件にてソーダガラスのラッピング研磨を行った。
比較例2では、研磨材として酸化タングステン及びシリカ粒子のどちらも添加させていない平均粒径10μmのGC砥粒:3wt%を水:97wt%に分散させたラップ剤を用いて実施例1〜3と同様の条件にてソーダガラスのラッピング研磨を行った。
実施例4では、本発明の研磨材を分散させたラップ剤として、平均粒径3μmのダイヤモンド砥粒:3wt%、平均粒径1μmのジルコニア砥粒:1wt%、水:96wt%のラップ剤を用いて、SiC基板のラッピング研磨を行った。
(ラッピング研磨条件)
ラッピング装置:GRIND−X SPL15T(株式会社岡本工作機械製作所製)
ラップ定盤:ケメット定盤
研磨圧力:30kPa
加工速度:20m/min(ラップ定盤回転数:60rpm)
研磨時間:1時間
ラップ剤流量:25mL/min
2 ラップ定盤
3 研磨材
4 従来のラッピング研磨加工用の研磨材
5 添加物
Claims (3)
- ダイヤモンド、アルミナ、及び炭化ケイ素のいずれかを主成分とする砥粒に、短径が前記砥粒の平均粒径よりも小さく、且つ硬度が前記砥粒よりも低い金属酸化物、非酸化物、金属又はこれらの混合物を含有させた混合粉体からなることを特徴とする研磨材。
- 平均粒径が1μm以上30μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の研磨材。
- 前記金属酸化物、前記非酸化物、前記金属又はこれらの混合物は、前記研磨材全体の質量を100wt%とした場合の10wt%以上40wt%以下の割合で含まれることを特徴とする請求項1又は2に記載の研磨材。
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