JP2013113657A - 表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査装置 - Google Patents
表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 互いに異なった複数の波長をそれぞれ独立に変調した明暗パターンをパターン平面上で互いに変調させて合成照明パターンを合成し、前記合成した合成照明パターンを検査対象物に照射し、前記検査対象物からの前記合成照明パターンの反射パターンを撮像して波長毎の画像を一括して取得し、前記撮像した画像を波長毎に分解して前記検査対象物の表面の凹凸欠陥を判別する。
【選択図】 図1
Description
I1=A+Bcos(φ)
I2=A+Bcos(φ+π/2)
I3=A+Bcos(φ+π)
I4=A+Bcos(φ+3π/2)
となる。
γ=B/A=2{(I4−I2)2+(I1−I3)2}1/2/(I1+I2+I3+I4)
として求める。
I’1=A’+B’cos(φ’)
I’2=A’+B’cos(φ’+π/2)
I’3=A’+B’cos(φ’+π)
I’4=A’+B’cos(φ’+3π/2)
となる。
γ’=B’/A’=2{(I’4−I’2)2+(I’1−I’3)2}1/2/(I’1+I’2+I’3+I’4)
として求める。
I1=A+Bcos(φ−2π/3)
I2=A+Bcos(φ)
I3=A+Bcos(φ+2π/3)
となるので、ビジビリティγは、
γ=B/A
={{[1−cos(α)](I1−I3)}2+[sin(α)(2I2−I1−I3)]2}1/2/[I1+I3−2I2cos(α)]sin(α)
となる。
(付記1)
互いに異なった複数の波長をそれぞれ独立に変調した明暗パターンをパターン平面上で互いに変調させて合成照明パターンを合成する工程と、
前記合成した合成照明パターンを検査対象物に照射する工程と、
前記検査対象物からの前記合成照明パターンの反射パターンを撮像して波長毎の画像を一括して取得する工程と、
前記撮像した画像を波長毎に分解して前記検査対象物の表面の凹凸欠陥を判別する工程と
を有することを特徴とする表面欠陥検査方法。
(付記2)
前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる3つの波長間で、第1の方向の輝度変化に対する位相が2π/3ずつ違うように正弦波状に変調させて合成する工程であり、
前記凹凸欠陥を判別する工程が、前記各波長毎の輝度値を用いた位相シフト演算を行った結果に基づいて凹凸部を欠陥として判別する工程であることを特徴とする付記1に記載の欠陥検査方法。
(付記3)
前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる3つの波長間で、第1の方向の輝度変化に対する位相が2π/3ずつ違うように正弦波状に変調させるとともに、前記第1の方向と異なった第2の方向に正弦波状に変化させて合成する工程であり、
前記凹凸欠陥を判別する工程が、前記撮像した画像の画素毎に前記各波長毎の輝度値を用いた位相シフト演算を行った結果に基づいて凹凸部を欠陥として判別する工程であることを特徴とする付記1に記載の欠陥検査方法。
(付記4)
前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる2つの波長をパターン平面上で直交方向に変調させて合成する工程であることを特徴とする付記1に記載の欠陥検査方法。
(付記5)
前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる3つの波長をパターン平面上で3方向に変調させて合成する工程であることを特徴とする付記1に記載の欠陥検査方法。
(付記6)
互いに異なった複数の波長をそれぞれ独立に変調した明暗パターンを互いにずらして合成照明パターンを合成する照明パターン合成手段と、
前記合成した合成照明パターンを検査対象物に照射する照射手段と、
前記検査対象物からの前記合成照明パターンの反射パターンを撮像して波長毎の画像を一括して取得する撮像手段と、
前記撮像した画像を波長毎に分解して前記検査対象物の表面の凹凸欠陥を判別する制御手段と
を有することを特徴とする表面欠陥検査装置。
(付記7)
前記照射手段が、カラー液晶プロジェクタであり、
前記撮像手段が、カラー撮像素子である
ことを特徴とする付記6に記載の表面欠陥検査装置。
2 試料
3 凹凸欠陥
4 カラー照明光源
5 照明コントローラ
6 カラー撮像手段
7 撮像手段コントローラ
8 制御手段
9 ステージコントローラ
10 出力手段
21 試料
22 凹凸欠陥
23 明暗パターン
24 スクリーン
25 カメラ
Claims (5)
- 互いに異なった複数の波長をそれぞれ独立に変調した明暗パターンをパターン平面上で互いに変調させて合成照明パターンを合成する工程と、
前記合成した合成照明パターンを検査対象物に照射する工程と、
前記検査対象物からの前記合成照明パターンの反射パターンを撮像して波長毎の画像を一括して取得する工程と、
前記撮像した画像を波長毎に分解して前記検査対象物の表面の凹凸欠陥を判別する工程と
を有することを特徴とする表面欠陥検査方法。 - 前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる3つの波長間で、第1の方向の輝度変化に対する位相が2π/3ずつ違うように正弦波状に変調させて合成する工程であり、
前記凹凸欠陥を判別する工程が、前記各波長毎の輝度値を用いた位相シフト演算を行った結果に基づいて凹凸部を欠陥として判別する工程であることを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査方法。 - 前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる3つの波長間で、第1の方向の輝度変化に対する位相が2π/3ずつ違うように正弦波状に変調させるとともに、前記第1の方向と異なった第2の方向に正弦波状に変化させて合成する工程であり、
前記凹凸欠陥を判別する工程が、前記撮像した画像の画素毎に前記各波長毎の輝度値を用いた位相シフト演算を行った結果に基づいて凹凸部を欠陥として判別する工程であることを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査方法。 - 前記合成照明パターンを合成する工程が、互いに異なる3つの波長をパターン平面上で3方向に変調させて合成する工程であることを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査方法。
- 互いに異なった複数の波長をそれぞれ独立に変調した明暗パターンを互いにずらして合成照明パターンを合成する照明パターン合成手段と、
前記合成した合成照明パターンを検査対象物に照射する照射手段と、
前記検査対象物からの前記合成照明パターンの反射パターンを撮像して波長毎の画像を一括して取得する撮像手段と、
前記撮像した画像を波長毎に分解して前記検査対象物の表面の凹凸欠陥を判別する制御手段と
を有することを特徴とする表面欠陥検査装置。
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- 2011-11-28 JP JP2011258766A patent/JP5790446B2/ja active Active
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