JP2013108179A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013108179A5
JP2013108179A5 JP2012253248A JP2012253248A JP2013108179A5 JP 2013108179 A5 JP2013108179 A5 JP 2013108179A5 JP 2012253248 A JP2012253248 A JP 2012253248A JP 2012253248 A JP2012253248 A JP 2012253248A JP 2013108179 A5 JP2013108179 A5 JP 2013108179A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cylindrical
cavity
axis
resonator
wall
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012253248A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013108179A (ja
JP6227240B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from NL2007809A external-priority patent/NL2007809C2/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2013108179A publication Critical patent/JP2013108179A/ja
Publication of JP2013108179A5 publication Critical patent/JP2013108179A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6227240B2 publication Critical patent/JP6227240B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2012253248A 2011-11-17 2012-11-19 プラズマ化学蒸着を行うための装置 Active JP6227240B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL2007809A NL2007809C2 (en) 2011-11-17 2011-11-17 An apparatus for performing a plasma chemical vapour deposition process.
NL2007809 2011-11-17

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013108179A JP2013108179A (ja) 2013-06-06
JP2013108179A5 true JP2013108179A5 (https=) 2016-01-14
JP6227240B2 JP6227240B2 (ja) 2017-11-08

Family

ID=47191584

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012253248A Active JP6227240B2 (ja) 2011-11-17 2012-11-19 プラズマ化学蒸着を行うための装置

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9376753B2 (https=)
EP (1) EP2594660B1 (https=)
JP (1) JP6227240B2 (https=)
CN (1) CN103122455B (https=)
BR (1) BR102012029201A2 (https=)
DK (1) DK2594660T3 (https=)
NL (1) NL2007809C2 (https=)
PL (1) PL2594660T3 (https=)
RU (1) RU2625664C2 (https=)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105244251B (zh) * 2015-11-03 2017-11-17 长飞光纤光缆股份有限公司 一种大功率等离子体微波谐振腔
NL2017575B1 (en) 2016-10-04 2018-04-13 Draka Comteq Bv A method and an apparatus for performing a plasma chemical vapour deposition process and a method
CN106987827B (zh) * 2017-04-14 2019-03-29 太原理工大学 等离子体化学气相沉积微波谐振腔及装置
CN110459853A (zh) * 2019-08-21 2019-11-15 上海至纯洁净系统科技股份有限公司 一种适用于pcvd工艺的分体式易调谐微波谐振腔
NL2028245B1 (en) * 2021-05-19 2022-12-05 Draka Comteq Bv A plasma chemical vapor deposition apparatus

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4125389A (en) 1977-02-10 1978-11-14 Northern Telecom Limited Method for manufacturing an optical fibre with plasma activated deposition in a tube
JPS62290054A (ja) * 1986-06-09 1987-12-16 Mitsubishi Electric Corp マイクロ波によるガスのイオン化方法およびイオン源装置
JPH02107778A (ja) * 1988-10-18 1990-04-19 Canon Inc 偏波制御マイクロ波プラズマ処理装置
US5037666A (en) * 1989-08-03 1991-08-06 Uha Mikakuto Precision Engineering Research Institute Co., Ltd. High-speed film forming method by microwave plasma chemical vapor deposition (CVD) under high pressure
JPH06140186A (ja) * 1992-10-22 1994-05-20 Mitsubishi Heavy Ind Ltd プラズマ製造方法
DE19600223A1 (de) 1996-01-05 1997-07-17 Ralf Dr Dipl Phys Spitzl Vorrichtung zur Erzeugung von Plasmen mittels Mikrowellen
US6715441B2 (en) 1997-12-31 2004-04-06 Plasma Optical Fibre B.V. PCVD apparatus and a method of manufacturing an optical fiber, a preform rod and a jacket tube as well as the optical fiber manufactured therewith
ATE234947T1 (de) * 1997-12-31 2003-04-15 Draka Fibre Technology Bv Pcvd-vorrichtung und verfahren zur herstellung einer optischen faser, eines vorform-stabes und eines mantelrohres und die damit hergestellte optische faser
DE19847848C1 (de) * 1998-10-16 2000-05-11 R3 T Gmbh Rapid Reactive Radic Vorrichtung und Erzeugung angeregter/ionisierter Teilchen in einem Plasma
JP3625197B2 (ja) * 2001-01-18 2005-03-02 東京エレクトロン株式会社 プラズマ装置およびプラズマ生成方法
US6951798B2 (en) * 2001-06-08 2005-10-04 Wisconsin Alumni Research Foundation Method of bonding a stack of layers by electromagnetic induction heating
US7650853B2 (en) * 2001-12-04 2010-01-26 Draka Fibre Technology B.V. Device for applying electromagnetic microwave radiation in a plasma cavity
US20030152700A1 (en) * 2002-02-11 2003-08-14 Board Of Trustees Operating Michigan State University Process for synthesizing uniform nanocrystalline films
NL1025155C2 (nl) * 2003-12-30 2005-07-04 Draka Fibre Technology Bv Inrichting voor het uitvoeren van PCVD, alsmede werkwijze voor het vervaardigen van een voorvorm.
JP4852997B2 (ja) * 2005-11-25 2012-01-11 東京エレクトロン株式会社 マイクロ波導入装置及びプラズマ処理装置
KR100861412B1 (ko) 2006-06-13 2008-10-07 조영상 다결정 실리콘 잉곳 제조장치
NL1032015C2 (nl) * 2006-06-16 2008-01-08 Draka Comteq Bv Inrichting voor het uitvoeren van een plasma chemische dampdepositie (PCVD) en werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel.
FR2903622B1 (fr) * 2006-07-17 2008-10-03 Sidel Participations Dispositif pour le depot d'un revetement sur une face interne d'un recipient
NL1033783C2 (nl) 2007-05-01 2008-11-06 Draka Comteq Bv Inrichting voor het uitvoeren van een plasma chemische dampdepositie alsmede werkwijze ter vervaardiging van een optische voorvorm.
US20120186747A1 (en) * 2011-01-26 2012-07-26 Obama Shinji Plasma processing apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Morgan et al. The diameter of the commuting graph of a finite group with trivial centre
JP2013108179A5 (https=)
USD752339S1 (en) Yarn tube holder
CR20150413A (es) Base para contenedor con desplazamiento variable
EP2927988A3 (en) Energy storage apparatus
WO2013078356A3 (en) Toothbrush having an inner cavity
JP2015524646A5 (https=)
IN2014DE02480A (https=)
CL2015000566A1 (es) Un envase que tiene un eje longitudinal y que incluye: un cuerpo que incluye una base con una superficie primaria de apoyo y una pared lateral, que se extiende desde la base y que incluye una faceta con una superficie secundaria de apoyo orientada en un angulo inclinado agudo con respecto al eje y obtuso con respecto a la superficie de apoyo primaria, teniendo la faceta también una cavidad en el interior de la superficie de apoyo secundaria.
CR20150564A (es) Punta de material reducido para catéter y método de formación de la misma
CL2015001677A1 (es) Un sistema de troquel, caracterizado porque comprende: (a) un contenedor metálico que tiene: una abertura; y una pared lateral del contenedor, en donde la pared lateral del contenedor tiene: un primer diámetro interior; y un segundo diámetro interior; en donde el primero diámetro interior de la pared lateral del contenedor es por lo menos 0,00254 cm (0,001 pulgada) mayor que el segundo diâmetro interior de la pared lateral del contenedor.
WO2014186530A3 (en) Nuclear fuel assembly design
JP2015104665A5 (https=)
RU2015107002A (ru) Втулка главного вала конусной дробилки
WO2015100169A8 (en) Container closure, container assembly and method for utilizing the same
MX2016000068A (es) Ensamblaje de borde redondeado ajustable para usar con un ensamblaje de deflector de pozo.
MX2018015555A (es) Ensamblaje de cojinetes lisos.
CO7240402A2 (es) Un revestimento de pezonera
MX379216B (es) Conjunto de patrón radial.
MY183544A (en) Vehicle side door structure
PL398506A1 (pl) Wskaznik obrotu nakretki w kole pojazdu
RU2012143706A (ru) Устройство для осуществления процесса плазмохимического осаждения из паровой фазы
JP2014139064A5 (https=)
WO2014146643A3 (de) Dichtelement
UA117108C2 (uk) Курильний виріб з фільтрувальною частиною, якій надана певна форма