JP2013098479A - 処理液供給方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 - Google Patents
処理液供給方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013098479A JP2013098479A JP2011242338A JP2011242338A JP2013098479A JP 2013098479 A JP2013098479 A JP 2013098479A JP 2011242338 A JP2011242338 A JP 2011242338A JP 2011242338 A JP2011242338 A JP 2011242338A JP 2013098479 A JP2013098479 A JP 2013098479A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing liquid
- filter
- liquid supply
- supply
- resist solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor
- G03F7/0022—Devices or apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
- H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
- H01L21/0273—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers characterised by the treatment of photoresist layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T137/00—Fluid handling
- Y10T137/794—With means for separating solid material from the fluid
Abstract
【解決手段】レジスト液供給装置100は、レジスト液を貯留するレジスト液供給源101と、レジスト液供給源101から塗布ノズル32にレジスト液を供給する供給管102と、供給管102に設けられ、レジスト液を一旦貯留させるキッドエンドタンク103と、供給管102に設けられ、レジスト液を流通させるポンプ104と、供給管102に設けられ、レジスト液中の異物を捕集して離脱させないフィルタ105と、供給管102に設けられ、レジスト液の流通を遮断するトラップ106と、供給管102に設けられたバルブ107と、供給管102内を流通するレジスト液をフィルタ105に少なくとも1回往復通過させて、当該レジスト液を塗布ノズル32に供給するようにポンプ104を制御する制御部200と、を有している。
【選択図】図3
Description
32 塗布ノズル
100 レジスト液供給装置
101 レジスト液供給源
102 供給管
103 リキッドエンドタンク
104 ポンプ
105 フィルタ
106 トラップ
107、108 バルブ
200 制御部
210 バルブ
211 トラップ
W ウェハ
Claims (16)
- 基板に処理液を供給する処理液供給部に、処理液を供給する処理液供給方法であって、
前記処理液供給部に接続された供給管には、処理液中の異物を捕集して離脱させないフィルタが設けられ、
前記供給管内を流通する処理液を前記フィルタに少なくとも1回往復通過させて、当該処理液を前記処理液供給部に供給することを特徴とする、処理液供給方法。 - 前記フィルタの上流側における処理液の流路と下流側における処理液の流路は、それぞれ前記処理液供給部から基板に供給される所定の供給量の処理液を一時的に貯留可能に構成されていることを特徴とする、請求項1に記載の処理液供給方法。
- 前記供給管には、当該供給管内で処理液を流通させるためのポンプが設けられ、
前記ポンプの駆動に基づいて、処理液が前記フィルタを往復通過する回数を制御することを特徴とする、請求項1又は2に記載の処理液供給方法。 - 前記フィルタは複数段に設けられ、
処理液は前記複数段のフィルタを往復通過することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の処理液供給方法。 - 前記フィルタは、当該フィルタの表層に処理液中の異物を吸着して捕集することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の処理液供給方法。
- 前記フィルタは、当該フィルタの内部に形成された複数の孔によって処理液中の異物を物理的に捕集することを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の処理液供給方法。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の処理液供給方法を処理液供給装置によって実行させるために、当該処理液供給装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項9に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板に処理液を供給する処理液供給部に、処理液を供給する処理液供給装置であって、
内部に処理液を貯留する処理液供給源と、
前記処理液供給源から前記処理液供給部に処理液を供給するための供給管と、
前記供給管に設けられ、処理液中の異物を捕集して離脱させないフィルタと、
前記供給管に設けられ、処理液を流通させるためのポンプと、
前記供給管内を流通する処理液を前記フィルタに少なくとも1回往復通過させて、当該処理液を前記処理液供給部に供給するように前記ポンプを制御する制御部と、を有することを特徴とする、処理液供給装置。 - 前記フィルタの上流側における処理液の流路と下流側における処理液の流路は、それぞれ前記処理液供給部から基板に供給される所定の供給量の処理液を一時的に貯留可能に構成されていることを特徴とする、請求項9に記載の処理液供給装置。
- 前記制御部は、前記ポンプの駆動に基づいて、処理液が前記フィルタを往復通過する回数を制御することを特徴とする、請求項9又は10に記載の処理液供給装置。
- 前記フィルタは複数段に設けられていることを特徴とする、請求項9〜11のいずれかに記載の処理液供給装置。
- 前記フィルタは、当該フィルタの表層に処理液中の異物を吸着して捕集することを特徴とする、請求項9〜12のいずれかに記載の処理液供給装置。
- 前記フィルタは、当該フィルタの内部に形成された複数の孔によって処理液中の異物を物理的に捕集することを特徴とする、請求項9〜12のいずれかに記載の処理液供給装置。
- 前記フィルタは、前記ポンプの上流側に設けられていることを特徴とする、請求項9〜14のいずれかに記載の処理液供給装置。
- 前記フィルタは、前記ポンプの下流側に設けられ、
前記フィルタの下流側の供給管には、処理液の流通を遮断可能な遮断機構が設けられていることを特徴とする、請求項9〜14のいずれかに記載の処理液供給装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011242338A JP5571056B2 (ja) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | 処理液供給方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 |
US13/662,998 US20130112628A1 (en) | 2011-11-04 | 2012-10-29 | Treatment solution supply method, non-transitory computer storage medium and treatment solution supply apparatus |
KR1020120122979A KR101760528B1 (ko) | 2011-11-04 | 2012-11-01 | 처리액 공급 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 처리액 공급 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011242338A JP5571056B2 (ja) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | 処理液供給方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013098479A true JP2013098479A (ja) | 2013-05-20 |
JP5571056B2 JP5571056B2 (ja) | 2014-08-13 |
Family
ID=48222995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011242338A Active JP5571056B2 (ja) | 2011-11-04 | 2011-11-04 | 処理液供給方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130112628A1 (ja) |
JP (1) | JP5571056B2 (ja) |
KR (1) | KR101760528B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015072985A (ja) * | 2013-10-02 | 2015-04-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP2016063205A (ja) * | 2014-09-22 | 2016-04-25 | 株式会社Screenホールディングス | 塗布装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5967045B2 (ja) | 2013-10-02 | 2016-08-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
US9837290B2 (en) * | 2014-01-24 | 2017-12-05 | Tokyo Electron Limited | Processing liquid nozzle |
US9817315B2 (en) | 2014-03-13 | 2017-11-14 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | System and method for supplying and dispensing bubble-free photolithography chemical solutions |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0248171U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-03 | ||
JPH10172881A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-06-26 | Sony Corp | フォトレジスト塗布装置 |
JP2008305980A (ja) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Tokyo Electron Ltd | 薬液供給システム及び薬液供給方法並びに記憶媒体 |
JP2009279540A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Jsr Corp | ろ過器及び電子材料用組成物の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4011210B2 (ja) * | 1998-10-13 | 2007-11-21 | 株式会社コガネイ | 薬液供給方法および薬液供給装置 |
US20080264443A1 (en) * | 2002-02-05 | 2008-10-30 | Novellus Systems, Inc. | Apparatus and methods for increasing the rate of solute concentration evolution in a supercritical process chamber |
NL1028247C2 (nl) * | 2005-02-10 | 2006-08-11 | Fluxxion B V | Inrichting en werkwijze voor het filtreren van vloeistof. |
US20090057210A1 (en) * | 2007-09-04 | 2009-03-05 | Kenneth Charles Barrett | In-line filtration systems |
-
2011
- 2011-11-04 JP JP2011242338A patent/JP5571056B2/ja active Active
-
2012
- 2012-10-29 US US13/662,998 patent/US20130112628A1/en not_active Abandoned
- 2012-11-01 KR KR1020120122979A patent/KR101760528B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0248171U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-03 | ||
JPH10172881A (ja) * | 1996-12-06 | 1998-06-26 | Sony Corp | フォトレジスト塗布装置 |
JP2008305980A (ja) * | 2007-06-07 | 2008-12-18 | Tokyo Electron Ltd | 薬液供給システム及び薬液供給方法並びに記憶媒体 |
JP2009279540A (ja) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Jsr Corp | ろ過器及び電子材料用組成物の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015072985A (ja) * | 2013-10-02 | 2015-04-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 |
JP2016063205A (ja) * | 2014-09-22 | 2016-04-25 | 株式会社Screenホールディングス | 塗布装置 |
US10600647B2 (en) | 2014-09-22 | 2020-03-24 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Coating apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101760528B1 (ko) | 2017-07-21 |
US20130112628A1 (en) | 2013-05-09 |
JP5571056B2 (ja) | 2014-08-13 |
KR20130049732A (ko) | 2013-05-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102091984B1 (ko) | 처리액 공급 방법, 처리액 공급 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
JP5091764B2 (ja) | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 | |
JP5571056B2 (ja) | 処理液供給方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び処理液供給装置 | |
US9817323B2 (en) | Liquid treatment apparatus and method and non-transitory storage medium | |
US10121685B2 (en) | Treatment solution supply method, non-transitory computer-readable storage medium, and treatment solution supply apparatus | |
US20190255561A1 (en) | Solution treatment apparatus and cleaning method for solution treatment apparatus | |
KR102649900B1 (ko) | 액 공급 장치 및 액 공급 방법 | |
JP6211458B2 (ja) | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | |
JP2012104602A (ja) | 基板処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理装置 | |
US9308542B2 (en) | Treatment solution supply apparatus, treatment solution supply method, and computer storage medium | |
TW201818450A (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及記錄媒體 | |
JP6204269B2 (ja) | 送液システムの洗浄方法、送液システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
JP5503601B2 (ja) | 処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP5584176B2 (ja) | 現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP6159651B2 (ja) | フィルタ洗浄方法、液処理装置及び記憶媒体 | |
JP5293790B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | |
JP2016189493A (ja) | 液処理方法、液処理装置及び記憶媒体 | |
JP2013030709A (ja) | 処理液供給装置、処理液供給方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP2010141162A (ja) | 基板の処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | |
JP2019009215A (ja) | 処理液供給装置および処理液供給方法 | |
JP6244324B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP4391387B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2008118042A (ja) | 基板洗浄方法 | |
JP4723631B2 (ja) | 現像処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び現像処理装置 | |
JP5159913B2 (ja) | 基板の塗布処理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131017 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140210 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140225 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140603 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140625 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5571056 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |