JP2013098246A - 環状凸部除去装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 ウエーハユニットから除去した環状凸部を環状凸部収容部に確実に収容することのできる環状凸部除去装置を提供することである。
【解決手段】 ウエーハユニットから環状凸部を除去する環状凸部除去装置であって、環状凸部除去機構でウエーハユニットから除去された環状凸部を収容する環状凸部収容部を備えている。環状凸部収容部は底面と側面とを有する環状凸部収容ケースと、環状凸部の内径より小さい面積を有し環状凸部収容ケースの底面から立設した立設部を含んでいる。複数の爪で支持された環状凸部の開口に立設部が挿入された状態で、複数の爪が退避位置に移動すると、切削液で環状凸部が何れかの爪に付着して爪とともに退避位置に移動しようとしても環状凸部が立設部に引っかかり、落下して環状凸部収容ケース内に収容される。
【選択図】図4

Description

本発明は、裏面に円形凹部及び円形凹部を囲繞する環状凸部が形成されたウエーハから環状凸部を除去する環状凸部除去装置に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円盤形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートとよばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切削装置で切削することにより、半導体ウエーハが個々の半導体チップ(デバイス)に分割される。
分割されるウエーハは、ストリートに沿って切削する前に裏面を研削して所定の厚みに形成される。近年、電気機器の軽量化、小型化を達成するために、ウエーハの厚さをより薄く、例えば50μm程度にすることが要求されている。
このように薄く形成されたウエーハは紙のように腰がなくなり取り扱いが困難になり、搬送等において破損する恐れがある。そこで、ウエーハのデバイス領域に対応する裏面のみを研削し、デバイス領域を囲繞する外周余剰領域に対応するウエーハの裏面に補強用の環状凸部を形成する研削方法が、例えば特開2007−173487号公報で提案されている。
このように裏面の外周に環状凸部が形成されたウエーハをストリート(分割予定ライン)に沿って分割する方法として、環状凸部を除去した後、ウエーハの表面側から切削ブレードで切削する方法が提案されている(特開2007−19379号公報参照)。
特開2007−17379号公報では、環状凸部を除去する方法として、研削によって環状凸部を除去する方法と、切削ブレードで円形凹部と環状凸部との界面を円形に切削した後、環状凸部を除去する方法が開示されている。
最近になり、研削による環状凸部の除去では円形凹部底面にスクラッチが入ったり、例えば、ウエーハの裏面の中央部に円形凹部が形成されるとともに円形凹部を囲繞する環状凸部が形成された後に、円形凹部に金属膜が成膜されたウエーハでは、環状凸部の研削中に研削砥石が金属膜を巻き込み、研削不良を引き起こしてしまうことが判明してきた。
このような問題を解決するために、特開2011−61137号公報では、裏面に形成された円形凹部と円形凹部を囲繞する環状凸部とを有し、円形凹部と環状凸部との境界部分に分断溝が形成されたウエーハと、ウエーハの裏面に貼着された粘着テープと、粘着テープの外周部分が装着された環状フレームとから構成されるウエーハユニットから環状凸部を除去する環状凸部除去装置が開示されている。
特開2007−173487号公報 特開2007−19379号公報 特開2011−61137号公報
円形凹部と環状凸部との境界部分に分断溝を切削ブレードで形成する場合、加工品質を維持するためと切削によって発生する切削屑をウエーハ上から除去するために、切削液を供給しつつ切削が遂行され分断溝が形成される。
切削液が環状凸部を除去する際にウエーハユニット上に残存していると、複数の爪で環状凸部を支持した状態から複数の爪を待機位置に移動させて環状凸部を環状凸部収容部へ落下させようとしても、切削液で環状凸部が何れかの爪に付着して落下せず、ウエーハユニットから除去した環状凸部を環状凸部収容部に収容できないという問題が発生することがある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ウエーハユニットから除去した環状凸部を環状凸部収容部に確実に収容することのできる環状凸部除去装置を提供することである。
本発明によると、裏面に形成された円形凹部と該円形凹部を囲繞する環状凸部とを有し、該円形凹部と該環状凸部との境界部分に分断溝が形成されたウエーハと、ウエーハの裏面に貼着された粘着テープと、該粘着テープの外周部分に装着された環状フレームとから構成されるウエーハユニットから該環状凸部を除去する環状凸部除去装置であって、該ウエーハユニットを保持する保持手段と、待機位置と互いに半径方向に接近した作動位置との間で同時に移動可能な環状に配設された複数の爪と、該複数の爪を鉛直方向に移動させる鉛直移動手段とを含み、該保持手段で保持された該ウエーハユニットから該環状凸部を除去する環状凸部除去手段と、該環状凸部除去手段で該ウエーハユニットから除去された該環状凸部を収容する環状凸部収容部と、該環状凸部除去手段を該保持手段と該環状凸部収容部とに位置付け可能な移動手段とを具備し、該環状凸部収容部は、底面と複数の側面とを有した環状凸部収容ケースと、該環状凸部の内径より小さい面積を有し該環状凸部収容ケースの該底面から立設した立設部とを含み、該保持手段に位置付けられた該環状凸部除去手段の該複数の爪が該鉛直移動手段で該ウエーハユニットの該粘着テープと該ウエーハとの界面の高さ位置に位置付けられた後、該作動位置に移動することで該粘着テープと該ウエーハとの界面に侵入し、該複数の爪が該鉛直移動手段によって上昇することで該ウエーハユニットから該環状凸部を除去するとともに該複数の爪で該環状凸部を支持し、該環状凸部が該複数の爪で支持された状態で該移動手段が該環状凸部除去手段を該環状凸部収容部の上方に位置付けた後、該鉛直移動手段で該複数の爪を下降させることで該複数の爪で支持した該環状凸部の開口に該立設部を挿入するとともに、該複数の爪が該退避位置に移動することで該環状凸部が落下して該環状凸部収容ケース内に収容されることを特徴とする環状凸部除去装置が提供される。
本発明の環状凸部除去装置によると、複数の爪で支持された環状凸部の開口に立設部が挿入された状態で複数の爪が退避位置に移動するため、切削液で環状凸部が何れかの爪に付着して爪ととともに退避位置に移動しようとしても立設部に引っかかり、環状凸部が爪から落下して環状凸部収容部内に確実に収容される。
半導体ウエーハの表面側斜視図である。 半導体ウエーハの裏面側斜視図である。 環状凸部除去装置の外観斜視図である。 環状凸部除去装置の斜視図である。 図5(A)は爪アセンブリの側面図、図5(B)は図5(A)の底面図である。 ウエーハユニット形成ステップの説明図である。 ウエーハユニットの斜視図である。 第1実施形態の分断溝形成ステップの説明図である。 粘着力低下ステップの説明図である。 チャックテーブル及び外テーブルの一部を示す拡大斜視図である。 チャックテーブル及び外テーブルの一部断面側面図である。 載置ステップを示す一部断面側面図である。 中心合わせステップを説明する一部断面側面図である。 円形凹部吸引保持ステップを示す一部断面側面図である。 環状凸部支持ステップを示す一部断面側面図である。 環状凸部支持ステップを示す拡大断面図である。 隙間形成ステップを示す拡大断面図である。 侵入ステップを示す拡大断面図である。 除去ステップを示す一部断面側面図である。 第1実施形態の環状凸部収容部による環状凸部除去動作を説明する側面図である(その1)。 環状凸部除去動作を説明する側面図である(その2)。 環状凸部除去動作を説明する側面図である(その3)。 環状凸部収容部の他の実施形態による環状凸部の除去動作を説明する側面図である。
以下、本発明実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1はシリコンから形成された半導体ウエーハ11の表面側斜視図である。半導体ウエーハ11の表面11aには複数のストリート(分割予定ライン)13が格子状に形成されているとともに、該複数のストリート13によって区画された各領域にIC、LSI等のデバイス15が形成されている。
半導体ウエーハ11の表面11aは、デバイス15が形成されているデバイス領域17と、デバイス領域17を囲繞する外周余剰領域19を備えている。また、半導体ウエーハ11の外周には、シリコンウエーハの結晶方位を示すマークとしてのノッチ21が形成されている。
図2は半導体ウエーハ11の裏面側斜視図を示している。半導体ウエーハ11の裏面11bには、デバイス領域17に対応する裏面11bが研削されて厚さが約50μmの円形凹部23が形成されており、円形凹部23の外周側は研削されずに残存されて外周余剰領域19を含む環状凸部25が形成されている。環状凸部25は補強部として作用し、例えばその厚さは700μmである。
図3を参照すると、環状凸部除去装置2の外観斜視図が示されている。環状凸部除去装置2のハウジング4には取っ手8を有するカセット投入口6と、操作及び表示画面としてのタッチパネル10が配設されている。
図4を参照すると、環状凸部除去装置2の機構部の斜視図が示されている。12は紫外線照射ユニット(UV照射ユニット)であり、その上面はウエーハを収納したカセットを載置するためのカセット載置台14として機能する。紫外線照射ユニット12とカセット載置台14は図示されないエレベータ機構によって昇降可能となっている。
16はカセット載置台14上に載置された図示しないカセットから後で説明するウエーハユニットを取り出してチャックテーブル26まで搬送するとともに、加工の終了したウエーハユニットをカセット中に収容するプッシュプルであり、Z軸方向に移動するL形状部材18に装着されている。
L形状部材18は、ボールねじ及びパルスモータから構成されるZ軸移動機構20を介してY軸移動部材22に取り付けられている。Y軸移動部材22は、ボールねじ及びパルスモータから構成されるY軸移動機構24によりY軸方向に移動される。
チャックテーブル26の周りには垂直方向(Z軸方向)に移動する外テーブル27が配設されている。外テーブル27は電磁石から構成される複数のフレーム固定部30を有しており、図11に示すように、外テーブル27はエアシリンダ90のピストンロッド92に連結されている。エアシリンダ90を作動することにより、外テーブル27は図12に示した下降位置と図15に示した上昇位置との間で移動される。
チャックテーブル26の保持面26aはウエーハ11の円形凹部23の直径よりも1〜3mm小さい直径を有しており、ウエーハ11の円形凹部23のみを粘着テープ58を介してチャックテーブル26で吸引保持できるようになっている。
図10及び図11に示されるように、外テーブル27は電磁石から構成された複数のフレーム固定部30と、チャックテーブル26に吸引保持されたウエーハ11の外周とウエーハユニット59(図7参照)の環状フレーム56の内周との間の粘着シート58を吸引保持する第2保持面82と、第2保持面82から突出して環状凸部25の内周部を支持する環状に配設された複数の環状凸部支持部80とを有している。フレーム固定部30は電磁石に替わってフレームクランプでも良い。
本実施形態の環状に配設された各環状凸部支持部80は長さ3.0mm×幅1.0mm×高さ0.5mmのサイズを有しており、φ8インチのウエーハに対して36個配設されている。複数個の環状凸部支持部80を設ける代わりに、連続した環状凸部支持部を設けるようにしてもよい。
第2保持面82には複数の吸引溝84が形成されており、図11に示すように吸引溝84は吸引源88に接続されている。第2保持面82と吸引溝84とで粘着シート吸引部86を構成する。図11に示されるように、チャックテーブル26と外テーブル27との間には、ゴムから形成された真空リーク防止部材94が配設されている。
図4を再び参照すると、外テーブル27を挟むようにプッシュプル16によりカセット中から引き出されたウエーハユニットをセンタリングする一対のセンタリングガイド28が配設されている。センタリングガイド28を互いに近づく方向に移動することにより、チャックテーブル26上でのウエーハユニットの予備的センタリングが実施される。
32は爪アセンブリであり、図5にその詳細を示すようにZ軸方向に移動するZ軸移動部材34と、Z軸移動部材34の先端に固定された矩形部材36と、矩形部材36から互いに90度離間して四方向に伸長する4本の案内部材38とを含んでいる。
各案内部材38にはボールねじ40が取り付けられており、ボールねじ40の一端は矩形部材36中に収容されたパルスモータにそれぞれ連結されている。ボールねじ40とパルスモータとにより第1爪移動手段42が構成される。
各ボールねじ40には水平移動部材44中に収容されたナットが螺合しており、第1爪移動手段42のパルスモータを駆動すると、各ボールねじ40が回転されて水平移動部材44が待機位置と互いに半径方向に接近した作動位置との間で移動される。
各水平移動部材44には爪46が取り付けられている。図5(B)に示すように、4個の爪46が作動位置に移動されると、リング47が形成される。各水平移動部材44には爪46に向かってエアを噴出するエア噴出口48が形成されている。
再び図4を参照すると、Z軸移動部材34はボールねじ及びパルスモータから構成されるZ軸移動機構(第2爪移動手段)52を介してY軸移動部材50に取り付けられている。
Y軸移動部材50は、ボールねじ及びパルスモータから構成されるY軸移動機構54によりY軸方向に移動される。チャックテーブル26に隣接して、ウエーハユニットから除去された環状凸部を回収する環状凸部回収部55が配設されている。
環状凸部収容部55は、底面57aと複数の(本実施形態では4個)側面57bとを有する環状凸部収容ケース57を含んでいる。環状凸部収容ケース57の底面57aからは複数の(本実施形態では3本)柱61が立設している。複数の柱61で立設部63を構成し、立設部63の横断面積は環状凸部25の内径の面積より小さい面積となるように設定されている。即ち、立設部63が環状凸部25の内径内に挿入可能なように設定されている。
以下、上述した環状凸部除去装置を使用した本発明実施形態の環状凸部除去方法について詳細に説明する。この環状凸部除去方法では、まず、図1及び図2に示したウエーハ11を使用したウエーハユニット形成ステップを実施する。
即ち、図6に示すように、裏面中央に形成された円形凹部23と円形凹部23を囲繞する環状凸部25を備えるウエーハ11の裏面に紫外線硬化型粘着テープ58を貼着するとともに、紫外線硬化型粘着テープ58の外周部を環状フレーム56の開口56aを塞ぐように環状フレーム56に貼着して、図7に示すようなウエーハユニット59を形成する。
次いで、切削ブレード又はレーザ光を用いて、ウエーハ11の円形凹部23と環状凸部25との境界部分に分断溝を形成する。この分断溝形成ステップの第1実施形態では、例えば、図8に示すように、段差61を有する切削装置のチャックテーブル60で粘着テープ58を介してウエーハ11の円形凹部23を吸引保持し、クランプ62で環状フレーム56を固定する。
切削ユニット64のスピンドルハウジング66中に回転可能に収容されたスピンドル68の先端には切削ブレード70が装着されている。切削ブレード70を高速回転させながらウエーハ上面から所定深さにまで切り込ませつつチャックテーブル60を低速で回転させて、ウエーハ11の表面11a側から円形凹部23と環状凸部25との境界部分を円形に切削して円形の分断溝を形成する。この円形の分断溝が形成された状態で、ウエーハ11の円形凹部23と環状凸部25は粘着テープ58に貼着されたままである。
この分断溝形成ステップは、切削ブレード70によるサークルカットに限定されるものではなく、ウエーハ11に対して吸収性を有する波長のレーザビームによるアブレーション加工で分断溝形成ステップを実施するようにしてもよい。
分断溝形成ステップ終了後、粘着力低下ステップを実施する。即ち、図9に示すように、UV照射ユニット12中にウエーハユニット59を挿入し、環状凸部25に対応した円形開口78を有するマスク74を使用して、紫外線ランプ72を点灯して円形開口78を介して紫外線を環状凸部25が貼着された紫外線硬化型粘着テープ58に照射し、粘着テープ58の環状凸部25に対応する領域の粘着力を低下させる。
粘着力低下ステップ実施後、図12に示すように、ウエーハ11の円形凹部23より僅かに小さい(1〜3mm小さい)保持面26aを有するチャックテーブル26上にウエーハユニット59を載置する。この時、フレーム固定部としての電磁石30は非励磁(オフ)のままである。
この載置ステップを実施したとき、粘着テープ58へのウエーハ11の貼り付け位置のばらつきにより、ウエーハ11の中心と環状フレーム56の中心が一致していない場合がある。そこで、載置ステップを実施した後、ウエーハ11の中心と環状フレーム56の中心とを合わせる中心合わせステップを実施する。
この中心合わせステップでは、図13に示すように、まず爪アセンブリ32を矢印A方向に下降して、複数の爪46をチャックテーブル26上に載置されたウエーハ11の環状凸部26の高さにウエーハ11の外周側から位置付け、次いで、複数の爪46を矢印Bに示すように同一速度でウエーハ中心方向に移動させることでウエーハ11の環状凸部26を押動して、ウエーハ11の中心とチャックテーブル26の中心とを位置合わせする。この位置合わせステップが終了すると、図14に示すように、チャックテーブル26でウエーハ11の円形凹部23を吸引保持する円形凹部吸引保持ステップを実施する。
次いで、図15及び図16に示すように、エアシリンダ90を駆動して外テーブル27を上昇し、外テーブル27の環状凸部支持部80を粘着テープ58を介して環状凸部25に当接させ、環状凸部25の内周部を環状凸部支持部80で支持する環状凸部支持ステップを実施する。この環状凸部支持ステップは、上述した円形凹部吸引保持ステップを実施する前に実施するようにしてもよい。
この環状凸部支持ステップを実施した後、図17に示すように、電磁石30から構成されるフレーム固定部で環状フレーム56を固定するとともに、外テーブル27の第2保持面82に形成された吸引溝84で少なくともウエーハユニット59のウエーハ11の外周と環状フレーム56の内周との間の粘着テープ58を吸引保持することにより、環状凸部25の上面25aの外周側に貼着された粘着テープ58を環状凸部25の上面25aから剥離して、環状凸部25の上面25aの外周側と第2保持面82で吸引保持された粘着テープ58との間に隙間Gを形成する隙間形成ステップを実施する。
隙間形成ステップを実施後、図18に示すように、爪アセンブリ32を矢印A方向に下降して複数の爪46を第2保持面82上の粘着テープ58と環状凸部25の上面25aとの間に位置づけた後、矢印Bに示すように複数の爪46をウエーハ11の外周側からウエーハ中心方向に移動させて、環状凸部25の上面25aと第2保持面82で吸引保持された粘着テープ58との間に形成された隙間Gに侵入させる侵入ステップを実施する。
このように爪46を隙間Gに侵入させた後、図19に示すように、複数の爪46を矢印B方向に互いに接近させてから、矢印C方向に爪46を引き上げて環状凸部25をウエーハユニット59から除去する除去ステップを実施する。
このように環状凸部25をウエーハユニット59から除去した後は、爪アセンブリ32を図4で右方向に移動して環状凸部25を環状凸部収容部55に位置づけた後、複数の爪46を互いに遠ざかる方向に移動して環状凸部25を環状凸部収容ケース57内に廃棄する。以下、この廃棄方法について図20乃至図23を参照して詳細に説明する。
図20に示すように、Z軸移動機構(第2爪移動手段)52を駆動して複数の爪46で環状凸部25を支持した爪アセンブリ32を矢印A方向に下降させる。そして、図21(A)に示すように、複数の柱61を環状凸部25内に収容し、次いで図21(B)に示すように、第1爪移動手段42を駆動して爪46を矢印D方向に移動して待機位置に位置付ける。
これにより、図22に示すように、切削液で環状凸部25が何れかの爪46に付着して爪46とともに退避位置に移動しようとしても柱61に引っかかり、環状凸部25は矢印Eに示すように落下して環状凸部収容ケース57内に収容される。
図23を参照すると、環状凸部収容ケース57内には第2実施形態の立設部63Aが配設されている。本実施形態では、立設部63Aを環状凸部25の内径内に収容可能な一つのブロックで構成する。
この第2実施形態の立設部63Aを利用する場合にも、切削液で環状凸部25が何れかの爪46に付着して爪46とともに退避位置に移動しようとしても、環状凸部25が立設部63Aに引っかかり、環状凸部25は落下して環状凸部収容ケース57内に収容される。
2 環状凸部除去装置
11 半導体ウエーハ
12 UV照射ユニット
13 ストリート(分割予定ライン)
15 デバイス
23 円形凹部
25 環状凸部
26 チャックテーブル
27 外テーブル
30 電磁石
32 爪アセンブリ
42 第1爪移動手段
52 第2爪移動手段
55 環状凸部収容部
56 環状フレーム
57 環状凸部収容ケース
58 UV硬化型粘着テープ
59 ウエーハユニット
61 柱
63,63A 立設部
70 切削ブレード
80 環状凸部支持部
82 第2保持面
84 吸引溝

Claims (1)

  1. 裏面に形成された円形凹部と該円形凹部を囲繞する環状凸部とを有し、該円形凹部と該環状凸部との境界部分に分断溝が形成されたウエーハと、ウエーハの裏面に貼着された粘着テープと、該粘着テープの外周部分に装着された環状フレームとから構成されるウエーハユニットから該環状凸部を除去する環状凸部除去装置であって、
    該ウエーハユニットを保持する保持手段と、
    待機位置と互いに半径方向に接近した作動位置との間で同時に移動可能な環状に配設された複数の爪と、該複数の爪を鉛直方向に移動させる鉛直移動手段とを含み、該保持手段で保持された該ウエーハユニットから該環状凸部を除去する環状凸部除去手段と、
    該環状凸部除去手段で該ウエーハユニットから除去された該環状凸部を収容する環状凸部収容部と、
    該環状凸部除去手段を該保持手段と該環状凸部収容部とに位置付け可能な移動手段とを具備し、
    該環状凸部収容部は、底面と複数の側面とを有した環状凸部収容ケースと、
    該環状凸部の内径より小さい面積を有し該環状凸部収容ケースの該底面から立設した立設部とを含み、
    該保持手段に位置付けられた該環状凸部除去手段の該複数の爪が該鉛直移動手段で該ウエーハユニットの該粘着テープと該ウエーハとの界面の高さ位置に位置付けられた後、該作動位置に移動することで該粘着テープと該ウエーハとの界面に侵入し、
    該複数の爪が該鉛直移動手段によって上昇することで該ウエーハユニットから該環状凸部を除去するとともに該複数の爪で該環状凸部を支持し、
    該環状凸部が該複数の爪で支持された状態で該移動手段が該環状凸部除去手段を該環状凸部収容部の上方に位置付けた後、該鉛直移動手段で該複数の爪を下降させることで該複数の爪で支持した該環状凸部の開口に該立設部を挿入するとともに、該複数の爪が該退避位置に移動することで該環状凸部が落下して該環状凸部収容ケース内に収容されることを特徴とする環状凸部除去装置。
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