JP2013095760A - ラジカル抑制剤 - Google Patents

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Abstract

【解決課題】新規なラジカル抑制剤、これを含有する組成物、及び、これを用いたラジカル生成抑制方法を提供する。
【解決手段】本発明に係るラジカル抑制剤は2価金属のサレン錯体化合物からなる。
【選択図】なし

Description

本発明は、ラジカル抑制剤、当該ラジカル抑制剤を含有した化粧料等の組成物、及び、当該ラジカル抑制剤を用いたラジカル抑制方法に関するものである。
「ラジカル」とは、不対電子をもつ原子や分子、あるいはイオンを意味し、フリーラジカルまたは遊離基とも呼ばれている。ラジカルは、通常、反応性が高く、酸化力が強いため、糖質、たんぱく質、脂肪などあらゆる有機化合物と反応する。
これら有機化合物を主体とする製品が、ラジカルの生成によりその保存中に劣化し、異臭の発生、変色・退色、硬化、分解、変性や機能低下を起こすことがよく知られている。しかも、ラジカルおよびラジカルの生成に連鎖する化学反応により生じる過酸化物は、細胞、組織に対する障害作用があることから、近年、皮膚の老化、生活習慣病、炎症性疾患、悪性新生物等の各種疾患の発症や増殖の主要原因の一つとされている。
ラジカルは、光照射や加温など日常的な環境条下で容易に生成されるため、ラジカルやその反応生成物である過酸化物による製品の劣化やヒトへの悪影響は、食品分野、化粧品分野、医薬品分野、化学工業品分野などの広範な分野で起こりえる。したがって、ラジカル生成を抑制することは、特定の分野に限らず、広く、製品の品質や機能の保持、ヒトの健康維持の上で重要である。
この課題を解決するために、現在のところ、各分野においてもっとも汎用されている手段は、一般にラジカルスカベンジャーと呼ばれる物質、すなわち、ラジカルと反応してラジカルの反応性を阻止ないしは抑制する物質を、製品またはその原料に配合することである。しかしながら、ラジカルスカベンジャーによるラジカルの抑制効果は長時間持続するものではないという欠点がある。このような状況下、ラジカル生成抑制効果を有する機能性に優れた材料の更なる開発が望まれている。
一方、特許第3556690号公報には、糖質のヒドロキシメチル基および/またはヘミアセタール水酸基を酸化してカルボキシル基としたカルボキシル化誘導体及びその製造方法が開示されている。また、特開平10−251263号公報、特開2002−153294号公報には、α,α―トレハース(α―D−グルコピラノシル―α―D−グルコピラノシド)が有する2個のヒドロキシメチル基を参加して得られる酸化トレハロース(α―D−グルクロノピラノシル―α―D−グルクロノピラノシド)が開示されている。
特許第3556690号公報 特開平10−251263号公報 特開2002−153294号公報
本発明は、新規なラジカル抑制剤、これを含有した化粧料等の組成物、及び、これを用いたラジカル抑制方法を提供することを目的とする。
本発明者が鋭意検討したところ、2価金属の金属錯体化合物に顕著なラジカル抑制作用があることを見出し、本願発明に至ったものである。
すなわち、第1の本願発明は、2価金属錯体化合物をラジカル抑制成分として含有するラジカル抑制剤である。活性酸素等のフリーラジカルは、2価金属、例えば、サレンによって配位された2価金属にトラップされる。
さらに、第2の本願発明は、2価金属錯体化合物を副成分として含有し、ラジカルによる変性、腐敗等が進まないようにした、化粧料等の外用組成物、医薬組成物、食品組成物等の各種組成物である。当該組成物における2価金属錯体の含有量は、ラジカルに対する抑制効果を発揮する上での必要十分な量であり、好適には、鉄等の金属サレン錯体化合物と混合成分としてのオリゴ糖の一種である含水結晶ネオトレハロース(株式会社林原生物化学研究所)を、例えば、重量比で3〜5:7〜5の割合で混合する。
さらに、第3の本願発明は、2価金属錯体化合物を用いたラジカル生成抑制方法である。
前記金属錯体化合物の好適な形態を下記(I)式として示す。
(I)
X及びYは、NとMとの間の配位結合を含む5員環構造、又は、その6員環構造であり、Mは、Fe、Cr、Mn、Co、Ni、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Re、Os、Ir、Pt、Nd、Sm、Eu、又は、Gdからなる2価の金属元素である。X及びYが共に前記5員環構造の場合、b,gは無く、さらに、前記(I)は、下記(i)〜(iv)のいずれかである。
(i)a〜hのそれぞれは、
水素であるか、又は、
下記(A)〜(G)、及び、−C(=O)m(mは水素であるか、又は、下記(A)〜(G)の何れかである。)の何れかであり、
(ii)(c,d)、及び、(f,e)は、それぞれ、ヘテロ環式構造の一部を形成して、前記(I)化合物と前記ヘテロ環式構造との縮合体を構成させるものであり、
a、b、g、hは、それぞれ、
水素であるか、又は、
下記(A)〜(G)、及び、−C(=O)m(mは水素であるか、又は、下記(A)〜(G)の何れかである。)の何れかであり、
前記ヘテロ環式構造は、フラン、チオフェン、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、ピラゾロン、イミダゾール、2−イソイミダゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、イミダゾリジン、オキサゾリン、オキサゾリジン、1,2−ピラン、チアジン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オルトキサジン(orthoxazine)、オキサジン、ピペリジン、ピペラジン、トリアジン、デオキサン(Dioxane)、モルフォリン、を含む、3−7員環式構造の何れかであり、
前記ヘテロ環式構造の側鎖は、ハロゲン、−R、−O−R(Rはメチル基を含む炭化水素基から選択された一つの官能基である。)、又は、水素であり、
(iii)
(c,d)、及び、(f,e)は、それぞれ、
ベンゼン、又は、ナフタレン、及び、アントラセンを含む縮合環式構造の一つの一部を形成して、前記(I)化合物と前記縮当環式構造との縮合体を形成させるものであり、
a、b、g、hは、それぞれ、
水素であるか、下記(A)〜(G)の何れかであり、
前記縮合環式構造の側鎖は、ハロゲン、R−O−:(Rはメチル基を含む炭化水素基から選択された一つの官能基である。)、又は、水素であり、
(iv)
a,hは下記化合物を含む環状炭化水素構造の一部を形成して、前記(I)化合物と前記環状炭化水素構造の縮合体を形成するものであり、
又は
b〜g、及び、前記環状炭化水素構造の側鎖は、それぞれ、水素であるか、又は、下記(A)〜(G)の何れかである。
(A)−COR,−C(=O)R(Rは、水素、又は、C1〜C6の飽和構造、又は、不飽和構造(アルケン、又は、アルキン)からなる鎖状又は環状炭化水素である。)
(B)−CO(OCHCHOCH
(C)

(D)


(Rはアデニン、グアニン、チミン、シトシン、ないし、ウラシルからなる核酸の一つ又は複数が結合されたものである。)、
(E)−NHCOH、又は、−NR2(R、R2は、水素、同一又は異なる、C1〜C6の飽和構造、又は、不飽和構造(アルケン、又は、アルキン)からなる鎖状又は環状炭化水素)
(F)−NHR3−、−NHCOR3、−CO2−R3、−S−S−R3、又は、−R3(R3は、水素、又は、水酸基等の脱離基が脱離して縮合した置換化合物であり、当該置換化合物は、酵素、抗体、抗原、ペプチド、アミノ酸、オリゴヌクレオチド、タンパク質、核酸、及び、医薬分子の少なくとも一つからなる機能性分子である。)
(G)塩素、臭素、弗素などのハロゲン原子
本発明の金属錯体のうち、金属サレン錯体は、サレン(N,N'-ビス(2-ヒドロキシベンジリデン)エチレンジアミン)が金属原子に配位した化合物である。本願出願人は、金属錯体化合物としての金属サレン錯体化合物が、磁性のキャリアを含むことなく、自身で磁性を有することと、抗癌効果を有する明らかにした(国際公開第2010/058280号公報)。既述のR3としては、例えば、同公報に記載の置換化合物を用いることができる。同公報の内容は、本願明細書の記載事項をなす。医薬分子等に対する金属錯体化合物の骨格は、医薬分子等の組成物に添加されることにより、また、医薬分子と結合することにより、医薬分子をフリーラジカルから保護する手段を提供する。
以上説明したように、本願発明によれば、新規なラジカル抑制剤、これを含有する組成物、及び、これを用いたラジカル抑制方法を提供することができる。
前記(I)で示される金属錯体化合物の実施形態は、下記の(II)乃至XIのいずれかである。
(II)
X,Y:6員環構造
(a〜h)=H

(III)
X,Y:6員環構造
(c,f)=C(O)H
(a,b,d,e,g,h)=H

(IV)
X,Y:5員環構造、(a,c,d,e,f,h)=H

(V)
X,Y:6員環構造
(a,b,g,h):H
(e,f),(c,d):フランの一部を構成し、フランは主骨格に縮合している。
M:Fe
(VI)
X,Y:6員環構造
(a,h):シクロヘキサンの一部を構成し、シクロヘキサンは主骨格に縮合している。
(c,d),(e,f):ベンゼンを構成
(b,g):H
M:Fe
(VII)
X,Y:6員環構造
(a,h):ベンゼンの一部を構成
(c,d),(e,f):ベンゼンを構成
(b,g):H
M:Fe

(VIII)
X,Y:6員環構造
(c,d),(e,f):アントラセンを構成
(a,b,g,h):H
M:Fe
(IX)
X,Y:6員環構造
(c,d),(e,f):アントラセンを構成
(a,b,g,h)=H
(V)の異性体
M:Fe

(X)
X,Y:6員環構造
(c,d),(e,f):ベンゼンを構成
ベンゼンのメタ位置の側鎖がハロゲン(臭素)である。
(a,b,g,h):H
M:Fe
(XI)
X,Y:6員環構造
(c,d),(e,f):ベンゼンを構成
ベンゼンのメタ位置の側鎖がメトキシル基である。
(a,b,g,h):H
M:Fe
次に本発明の実施例について説明する。
(実施例1)
金属錯体化合物(II)の合成
(第1の合成例)
金属錯体化合物(II)を次の反応式に従って合成した。
(化合物1の合成)
グリシン・メチル・エステル一塩酸塩(glycine methyl ester monohydrochloride)(10.0g, 0.079mol)を含むギ酸エチル(ethyl formate)溶液(60mL)にP-TsOH (10 mg)を加えた。そして、その溶液を加熱して沸騰させた。沸騰中にトリエチルアミン(triethylamine)を数滴滴下し、その混合液を24時間還流した。その後、その溶液を室温まで冷却した。白いトリエチルアミン塩酸塩をろ過した。ろ過物を20mLまで濃縮した。得られた溶液をマイナス摂氏5度まで冷却し、ろ過を行った。ろ過物である、赤茶色の濃縮溶液(化合物1)を得た。
(化合物2の合成)
化合物1に、CH2Cl2 (20mL)を溶かした。その後に、ethane-1,2-diamine(1.2g)、そして、酢酸(HOAc)(20μL)を加えた。反応させた混合溶液を6時間還流させた。そして、反応混合溶液を室温まで冷却し、4グラムの黄色い油状の濃縮物(化合物2)を得た。得られた化合物2の純度を、シリカゲルを用いたフラッシュコラムクロマトグラフィーによって向上させた。
(化合物0の合成)
メタノール(50ml)の中に化合物2、triethylamineを入れ、10mlメタノールの中に、金属塩化物(鉄サレン錯体化合物の合成の際は、FeCl3(4H2O)である。)溶液を窒素雰囲気下で混合した。室温窒素雰囲気で1時間混合したところ茶色の化合物が得られた。その後、これを真空中で乾燥した。得られた化合物をジクロロメタン400mLで希釈し、塩性溶液で2回洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、真空中で乾燥させて化合物0(金属錯体化合物(II))を得た。
(第2の合成例)
金属錯体化合物(II)を次の反応式に基づいて合成した。
氷上の酢酸でpH6に調整しながら無水メタノール(50mL)の中に3.4gの3-メチルアセチルアセトン(化合物2)と0.9gのエチレンジアミン(化合物1)を入れて化合物3を合成した。得られた溶液を15分間還流し、これが半分の体積になるまで蒸発させた。その後、同体積の水を加えて析出させたところ1.4gの白い化合物(化合物3)を合成した。
その後、化合物3(1.2g、5mmol)をメタノール(50mL)に入れ、FeSO4・7H2O
(1.4 g, 5 mmol)を加えたところ、青白い緑の溶液が得られた。混合溶液を、8時間、室温、窒素雰囲気で攪拌したところ、色が徐々に茶色になった。その後、溶液を蒸発させてその体積を半分にした後、同体積の水を加えた。次いで、真空引きでメタノールを蒸発させたて茶色の塊を得た。その塊を集めて水で洗浄し、真空引きで乾燥したところ目的の化合物0(鉄錯体化合物(II))が360mg得られた。
(第3の合成例)
金属錯体化合物(II)を次の反応式に基づいて合成した。
窒素雰囲気下、反応容器に酢酸鉄(II)(0.83g, 4.8mmol)、脱気メタノール48mLを仕込み、アセチルアセトン(0.95g, 9.5mmol)を加えた。還流下15分攪拌後、放冷した。析出した結晶をろ過し、冷却したメタノール10mLで洗浄した。その後、減圧乾燥し1.07gの中間体を得た。
窒素雰囲気下、中間体(1.07mg, 3.4 mmol)、配位原子(0.70g, 3.4 mmol)、脱気デカリン30mLを反応容器に仕込み、還流下1時間攪拌した。放冷後、析出した固体をろ過した後取り出し脱気シクロヘキサン10mLで洗浄した。減圧乾燥を行い、0.17gの生成物(鉄錯体化合物(II))を得た。
(実施例2)
金属錯体化合物(III)の合成
金属錯体化合物(III)を次の反応式に基づいて合成した。

窒素雰囲気下、反応容器に酢酸鉄(II)(0.78g, 4.5mmol)、脱気メタノール20mLを仕込み、アセチルアセトン(0.91g, 9.9mmol)を加えた。還流下15分攪拌後、放冷した。析出した結晶をろ過し、冷却したメタノール10mLで洗浄した。その後、減圧乾燥し0.58gの中間体を得た(収率 67%)。
窒素雰囲気下、中間体(240mg, 0.75 mmol)、配位原子(210mg, 0.75 mmol)、脱気デカリン10mLを反応容器に仕込み、還流下30分攪拌した。放冷後、析出した固体をろ過した後取り出し脱気シクロヘキサン3mLで洗浄した。減圧乾燥を行い、101mgの生成物(金属錯体化合物(III))を得た。
(実施例3)
金属錯体化合物(IV)の合成
金属錯体化合物(IV)を次の反応式に基づいて合成した。

窒素雰囲気下、反応容器に酢酸鉄(II)(0.83g, 4.8mmol)、脱気メタノール48mLを仕込み、アセチルアセトン(0.95g, 9.5mmol)を加えた。還流下15分攪拌後、放冷した。CH2Cl2(10mL)に溶かした化合物1の溶液(60mg, 1.0 mmol)に化合物2(120mg, 2.0 mmol)とSiO2 (1g)を加えた。得られた溶液を、反応させるため終夜、室温で攪拌したところ化合物3が合成された。その後、得られた化合物を窒素雰囲気下、反応容器に酢酸鉄(II)(0.83g, 4.8mmol)、脱気メタノール48mLを入れ、アセチルアセトン(0.95g, 9.5mmol)を加えた。還流下15分攪拌後、析出した結晶をろ過したところ茶色の目的化合物(金属錯体化合物(IV))を得た。
(実施例4)
前記(V)〜(XI)の化合物は、国際公開第2010/058280号公報43〜47頁に記載の方法によって合成する。側鎖である臭素、又は、メトキシル基の主骨格への付加は、サレンに金属錯体の結合を形成する際に、ベンゼン環のOH基とはパラの位置でベンゼン環に結合している保護基(NHBoc)を臭素、又は、メトキシル基で置換する。(c,d),(e,f)がアントラセンを構成する(VIII)及び(IX)の化合物では、出発物質として、パラニトロフェノールに代えて、下記化合物を使用する。
(a,h)がシクロヘキサンを構成する金属サレン錯体(VI)、さらに、(a,h)がベンゼンを構成する金属サレン錯体(VII)の合成については、Journal of
thermal Analysis and Calorimetry, Vol.75(2004)599-606 のExperimental
の600Pに記載の方法によって、金属と配位結合する前の目的のサレンを作成する。
(実施例5)
下記(1)の化合物は、鉄の2価のサレン錯体化合物である。本化合物はがん細胞の中に存在する活性酸素と結合して酸素ラジカルをトラップするにより、2価から3価に変化する。ここでは、下記(1)の化合物ががん細胞から発生する酸素ラジカルをトラップする様子を3価の錯体を検出して発色するヘマトキシン(hamatoxylin)を用いて確認した。

(R,R,R,Rは、いずれも「H」である。)
最初に皮膚がんであるメラノーマ細胞(clone
M3)を(1)式の鉄サレン錯体化合物(濃度1mM)の存在下で培養した。培養は丸型シャーレを用い、そのシャーレ(直径100mm)の下に磁束密度240mTの丸いボタン状の磁石(直径10mm)を置き、そのシャーレを24時間培養した(培地はPBS(リン酸緩衝生理食塩水)、培養時間24時間、培養温度37℃)。この培地をヘマトキシリンで染色した。
染色の手法は次のとおりである。
(1)脱パラフィン、脱キシレン、水洗を行う。
(2)核染色をヘマトキシリンで5-15分行う。
(3)軽く水洗をする。
(4)必要に応じ0.25%−0.5%塩酸水で分別する。
(5)色だしを行うため、流水で水洗10分(冬季15分)する。
(6)水洗5分(アルカリ水にて色だしを行った場合に必要)行う。
(7)細胞質染色(エオシン)1分−1010分行う。
(8)脱水、透徹、封入して、染色を終了する。
以上の結果、ボタン状磁石の直下及びその周辺で、培地が青紫色に染色されたことが確認された。これは、化合物(1)ががん細胞から生じる酸素ラジカル原子をトラップすることによって2価から3価に変化してことを示している。また、染色された領域では、メラノーマ細胞が死滅していることを顕微鏡によって確認した。なお、2価金属サレン錯体の抗ラジカル作用の発揮のためには、ボタン状磁石の存在は必須ではない。ボタン状磁石を置いたのは、2価金属サレン錯体の濃度を高めるためである。

Claims (11)

  1. 2価金属の錯体化合物をラジカル抑制成分として含有するラジカル抑制剤であって、
    前記金属錯体化合物は、下記(I)式からなる、ラジカル抑制剤。
    (I)
    X及びYは、NとMとの間の配位結合を含む5員環構造、又は、その6員環構造であり、
    Mは、Fe、Cr、Mn、Co、Ni、Mo、Ru、Rh、Pd、W、Re、Os、Ir、Pt、Nd、Sm、Eu、又は、Gdからなる2価の金属元素であり、
    X及びYが共に前記5員環構造の場合、b,gは無く、
    さらに、前記(I)は、下記(i)〜(iv)のいずれかである。
    (i)a〜hのそれぞれは、
    水素であるか、又は、
    下記(A)〜(G)、及び、−C(=O)m(mは水素であるか、又は、下記(A)〜(G)の何れかである。)の何れかであり、
    (ii)(c,d)、及び、(f,e)は、それぞれ、ヘテロ環式構造の一部を形成して、前記(I)化合物と前記ヘテロ環式構造との縮合体を構成させるものであり、
    a、b、g、hは、それぞれ、
    水素であるか、又は、
    下記(A)〜(G)、及び、−C(=O)m(mは水素であるか、又は、下記(A)〜(G)の何れかである。)の何れかであり、
    前記ヘテロ環式構造は、フラン、チオフェン、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、ピラゾロン、イミダゾール、2−イソイミダゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、イミダゾリジン、オキサゾリン、オキサゾリジン、1,2−ピラン、チアジン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、オルトキサジン(orthoxazine)、オキサジン、ピペリジン、ピペラジン、トリアジン、デオキサン(Dioxane)、モルフォリン、を含む、3−7員環式構造の何れかであり、
    前記ヘテロ環式構造の側鎖は、ハロゲン、−R、−O−R(Rはメチル基を含む炭化水素基から選択された一つの官能基である。)、又は、水素であり、
    (iii)
    (c,d)、及び、(f,e)は、それぞれ、
    ベンゼン、又は、ナフタレン、及び、アントラセンを含む縮合環式構造の一つの一部を形成して、前記(I)化合物と前記縮当環式構造との縮合体を形成させるものであり、
    a、b、g、hは、それぞれ、
    水素であるか、下記(A)〜(G)の何れかであり、
    前記縮合環式構造の側鎖は、ハロゲン、R−O−:(Rはメチル基を含む炭化水素基から選択された一つの官能基である。)、又は、水素であり、
    (iv)
    a,hは下記化合物を含む環状炭化水素構造の一部を形成して、前記(I)化合物と前記環状炭化水素構造の縮合体を形成するものであり、
    又は
    b〜g、及び、前記環状炭化水素構造の側鎖は、それぞれ、水素であるか、又は、下記(A)〜(G)の何れかである。

    (A)−COR,−C(=O)R(Rは、水素、又は、C1〜C6の飽和構造、又は、不飽和構造(アルケン、又は、アルキン)からなる鎖状又は環状炭化水素である。)
    (B)−CO(OCHCHOCH
    (C)
    (D)
    (Rはアデニン、グアニン、チミン、シトシン、ないし、ウラシルからなる核酸の一つ又は複数が結合されたものである。)、
    (E)−NHCOH、又は、−NR2(R、R2は、水素、同一又は異なる、C1〜C6の飽和構造、又は、不飽和構造(アルケン、又は、アルキン)からなる鎖状又は環状炭化水素)
    (F)−NHR3−、−NHCOR3、−CO2−R3、−S−S−R3、又は、−R3(R3は、水素、又は、水酸基等の脱離基が脱離して縮合した置換化合物であり、当該置換化合物は、酵素、抗体、抗原、ペプチド、アミノ酸、オリゴヌクレオチド、タンパク質、核酸、及び、医薬分子の少なくとも一つからなる機能性分子である。)
    (G)塩素、臭素、弗素などのハロゲン原子
  2. 前記(I)が下記化合物(II)である、請求項1記載のラジカル抑制剤。
    (II)

  3. 前記(I)が下記化合物(III)である請求項1記載のラジカル抑制剤。
  4. 前記(I)が下記化合物(IV)である請求項1記載のラジカル抑制剤。

  5. 前記(I)が下記化合物(V)である請求項1記載のラジカル抑制剤。
    (V)

  6. 前記(I)が下記(VI)又は(VII)である請求項1記載のラジカル抑制剤。
    (VI)


    (VII)

  7. 前記(I)が、下記(VIII)又は(IX)である、請求項1記載のラジカル抑制剤。
    (VIII)


    (IX)

  8. 前記(I)が下記(X)又は(XI)である請求項1記載のラジカル抑制剤。
    (X)


    (XI)

  9. 金属サレン錯体化合物をラジカル抑制成分として含有するラジカル抑制剤。
  10. 請求項1乃至9の何れか1項に記載のラジカル抑制剤を含有する、抗ラジカル作用を備えた組成物。
  11. 請求項1乃至9の何れか1項記載のラジカル抑制剤を利用した、ラジカル抑制方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015143197A (ja) * 2014-01-31 2015-08-06 株式会社Ihi 新規な金属サレン錯体化合物

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090169484A1 (en) * 2007-12-28 2009-07-02 Ihi Corporation Iron-salen complex
JP6017766B2 (ja) * 2011-07-26 2016-11-02 株式会社Ihi 新規な金属サレン錯体化合物の抗がん剤
CN108752383B (zh) * 2018-05-02 2020-10-30 江苏理工学院 一种具有sod活性的吡唑羧酸酯锰配合物及其制备方法

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5403834A (en) * 1992-12-07 1995-04-04 Eukarion, Inc. Synthetic catalytic free radical scavengers useful as antioxidants for prevention and therapy of disease
JPH10167787A (ja) * 1996-12-02 1998-06-23 Toyo Ink Mfg Co Ltd コンクリート又はモルタル用劣化防止剤、それを含有するコンクリート、モルタル
JPH11507646A (ja) * 1995-06-07 1999-07-06 ユーカリオン,インコーポレイティド 疾患の予防及び治療のための酸化防止剤として有用な合成触媒遊離基スカベンジャー
JPH11189449A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd コンクリート又はモルタル用腐食防止剤、及びコンクリート又はモルタルの腐食防止方法
JP2000290123A (ja) * 1999-04-05 2000-10-17 Takeo Okabe 化粧料
JP2002226678A (ja) * 2000-11-28 2002-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd 難燃性エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体封止材料並びに半導体装置
JP2006502313A (ja) * 2002-06-05 2006-01-19 クラリアント インターナショナル リミティド ポリエステル生地材料の染色
JP2007333688A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Toshiba Lighting & Technology Corp 光触媒膜の性能評価用器具および光触媒膜の性能評価方法
WO2008090081A1 (en) * 2007-01-23 2008-07-31 Freie Universität Berlin Metal salophen complexes for prevention and treatment of cancer
US20090035673A1 (en) * 2007-07-31 2009-02-05 Xerox Corporation Iron containing hole blocking layer containing photoconductors
JP2009196914A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Ihi Corp 磁性を有する薬剤、薬剤の誘導システム、並びに磁気検出装置
JP2011153239A (ja) * 2010-01-27 2011-08-11 Ihi Corp 有機el用発光材料、および、これを用いた有機el素子

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU303330A1 (ru) * 1969-09-30 1971-05-13 Всесоюзная i
CH579578A5 (ja) * 1974-03-21 1976-09-15 Sandoz Ag
CH596276A5 (ja) * 1974-07-31 1978-03-15 Ciba Geigy Ag
JP3556690B2 (ja) 1992-11-27 2004-08-18 武田薬品工業株式会社 糖カルボン酸の製造法及び新規糖カルボン酸
US6008190A (en) 1994-12-15 1999-12-28 California Institute Of Technology Cobalt Schiff base compounds
CA2166676C (en) 1995-01-09 2007-05-01 Yasuhisa Fujibayashi Diagnostic agent for hypoxia or mitochondrial dysfunction comprising radioactive copper complex of dithiosemicarbazone derivative or diamine diol schiff base derivative
JP4153057B2 (ja) 1997-03-10 2008-09-17 中国化薬株式会社 D−グルクロノラクトンの製造方法
JP2002153294A (ja) 2000-11-21 2002-05-28 Hayashibara Biochem Lab Inc グルクロン酸類及び/又はd−グルクロノラクトンの製造方法とその用途
GB0125357D0 (en) * 2001-10-22 2001-12-12 Univ Brighton Improvements relating to catalytic antioxidants
JP5339242B2 (ja) * 2008-03-12 2013-11-13 株式会社リコー 二光子吸収材料とその用途
WO2010058280A1 (ja) 2008-11-20 2010-05-27 株式会社Ihi 自己磁性金属サレン錯体化合物
CN103517895A (zh) * 2010-12-21 2014-01-15 株式会社Ihi 金属沙仑配位化合物及其制造方法
JP2012167067A (ja) * 2011-02-15 2012-09-06 Ihi Corp 自己磁性金属サレン錯体化合物
CN103890886A (zh) * 2011-07-11 2014-06-25 株式会社Ihi 双电层电容器用材料
JP6017766B2 (ja) * 2011-07-26 2016-11-02 株式会社Ihi 新規な金属サレン錯体化合物の抗がん剤

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5403834A (en) * 1992-12-07 1995-04-04 Eukarion, Inc. Synthetic catalytic free radical scavengers useful as antioxidants for prevention and therapy of disease
JPH11507646A (ja) * 1995-06-07 1999-07-06 ユーカリオン,インコーポレイティド 疾患の予防及び治療のための酸化防止剤として有用な合成触媒遊離基スカベンジャー
JPH10167787A (ja) * 1996-12-02 1998-06-23 Toyo Ink Mfg Co Ltd コンクリート又はモルタル用劣化防止剤、それを含有するコンクリート、モルタル
JPH11189449A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Toyo Ink Mfg Co Ltd コンクリート又はモルタル用腐食防止剤、及びコンクリート又はモルタルの腐食防止方法
JP2000290123A (ja) * 1999-04-05 2000-10-17 Takeo Okabe 化粧料
JP2002226678A (ja) * 2000-11-28 2002-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd 難燃性エポキシ樹脂組成物およびそれを用いた半導体封止材料並びに半導体装置
JP2006502313A (ja) * 2002-06-05 2006-01-19 クラリアント インターナショナル リミティド ポリエステル生地材料の染色
JP2007333688A (ja) * 2006-06-19 2007-12-27 Toshiba Lighting & Technology Corp 光触媒膜の性能評価用器具および光触媒膜の性能評価方法
WO2008090081A1 (en) * 2007-01-23 2008-07-31 Freie Universität Berlin Metal salophen complexes for prevention and treatment of cancer
US20090035673A1 (en) * 2007-07-31 2009-02-05 Xerox Corporation Iron containing hole blocking layer containing photoconductors
JP2009196914A (ja) * 2008-02-20 2009-09-03 Ihi Corp 磁性を有する薬剤、薬剤の誘導システム、並びに磁気検出装置
JP2011153239A (ja) * 2010-01-27 2011-08-11 Ihi Corp 有機el用発光材料、および、これを用いた有機el素子

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
A. MARY IMELDA JAYASEELI ET AL.: "[Iron(III)-salen] ion catalyzed H2O2 oxidation of organic sulfides and sulfoxides", JOURNAL OF MOLECULAR CATALYSIS A: CHEMICAL, vol. 309, JPN6012062660, 15 May 2009 (2009-05-15), pages 103 - 110, ISSN: 0003426336 *
ANNEGRET HILLE ET AL.: "[N,N′-Bis(salicylidene)-1,2-phenylenediamine]metal complexes with cell death promoting properties", JBIC JOURNAL OF BIOLOGICAL INORGANIC CHEMISTRY, vol. 14, JPN6012062664, 4 March 2009 (2009-03-04), pages 711 - 725, XP019723764, ISSN: 0003426337 *
CHEMICAL & PHARMACEUTICAL BULLETIN,, vol. Vol.56, No.11,, JPN6015037334, pages 1528 - 1534, ISSN: 0003155540 *
POLISH JOURNAL OF CHEMMISTRY,VOL.67,NO.11,PP.2077〜2080,, vol. Vol.67,No.11,, JPN6015037337, pages 2077 - 2080, ISSN: 0003426334 *
POLYHEDRON,, vol. Vol.4,No.8,, JPN6015037339, pages 1383 - 1389, ISSN: 0003426335 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015143197A (ja) * 2014-01-31 2015-08-06 株式会社Ihi 新規な金属サレン錯体化合物

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