JP2013093406A - 気相成長装置の清浄度評価方法 - Google Patents
気相成長装置の清浄度評価方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013093406A JP2013093406A JP2011233743A JP2011233743A JP2013093406A JP 2013093406 A JP2013093406 A JP 2013093406A JP 2011233743 A JP2011233743 A JP 2011233743A JP 2011233743 A JP2011233743 A JP 2011233743A JP 2013093406 A JP2013093406 A JP 2013093406A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- growth apparatus
- wafer
- vapor phase
- phase growth
- cleanliness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
【解決手段】 気相成長装置の清浄度を評価する方法であって、
前記気相成長装置を用いて、シリコンウエーハ上に導電型がP型のエピタキシャル層とN型のエピタキシャル層を順不同で連続して成長させたモニタウエーハを製造して、該モニタウエーハのライフタイム値を測定し、
前記モニタウエーハのライフタイム値から前記気相成長装置の清浄度を評価することを特徴とする気相成長装置の清浄度評価方法。
【選択図】 図1
Description
前記気相成長装置を用いて、シリコンウエーハ上に導電型がP型のエピタキシャル層とN型のエピタキシャル層を順不同で連続して成長させたモニタウエーハを製造して、該モニタウエーハのライフタイム値を測定し、
前記モニタウエーハのライフタイム値から前記気相成長装置の清浄度を評価することを特徴とする気相成長装置の清浄度評価方法を提供する。
1/Tw=1/T1+1/T2
Tw: モニタウエーハ4のウエーハライフタイム値
T1: 第1エピタキシャル層1のライフタイム値
T2: 第2エピタキシャル層1のライフタイム値
直径200mm、基板抵抗率10ΩcmのP型シリコンウエーハを準備した。次に、予めCuで汚染した気相成長装置、予めFeで汚染した気相成長装置、汚染していない気相成長装置を準備した。これらの気相成長装置を使って、このシリコンウエーハの上に、10ΩcmのP型エピタキシャル層を10μm堆積し、さらに引き続き10ΩcmのN型エピタキシャル層を10μm堆積させたモニタウエーハをそれぞれ作製した。
次に、直径200mm、基板抵抗率10ΩcmのP型シリコンウエーハを準備した。実施例と同じく、予めCuで汚染した気相成長装置、予めFeで汚染した気相成長装置、汚染していない気相成長装置を用いて、このP型シリコンウエーハの上に10ΩcmのP型エピタキシャル層を10μm堆積してモニタウエーハをそれぞれ作製した。
直径200mm、基板抵抗率10ΩcmのN型シリコンウエーハを準備した。実施例と同じく、予めCuで汚染した気相成長装置、予めFeで汚染した気相成長装置、汚染していない気相成長装置を用いて、このN型シリコンウエーハの上に10ΩcmのN型エピタキシャル層を10μm堆積してモニタウエーハをそれぞれ作製した。
Claims (4)
- 気相成長装置の清浄度を評価する方法であって、
前記気相成長装置を用いて、シリコンウエーハ上に導電型がP型のエピタキシャル層とN型のエピタキシャル層を順不同で連続して成長させたモニタウエーハを製造して、該モニタウエーハのライフタイム値を測定し、
前記モニタウエーハのライフタイム値から前記気相成長装置の清浄度を評価することを特徴とする気相成長装置の清浄度評価方法。 - 前記モニタウエーハのライフタイム値の測定は、μPCD法で行うことを特徴とする請求項1に記載の気相成長装置の清浄度評価方法。
- 前記気相成長装置の清浄度の評価において、Cuの汚染度とFeの汚染度を同時に評価することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の気相成長装置の清浄度評価方法。
- 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の気相成長装置の清浄度評価方法により評価した気相成長装置を用いてエピタキシャルウエーハを製造することを特徴とするエピタキシャルウエーハの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011233743A JP5614394B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | 気相成長装置の清浄度評価方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011233743A JP5614394B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | 気相成長装置の清浄度評価方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013093406A true JP2013093406A (ja) | 2013-05-16 |
JP5614394B2 JP5614394B2 (ja) | 2014-10-29 |
Family
ID=48616322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011233743A Active JP5614394B2 (ja) | 2011-10-25 | 2011-10-25 | 気相成長装置の清浄度評価方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5614394B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0750331A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Toshiba Corp | 半導体発光素子の評価装置及び評価方法 |
JPH09139408A (ja) * | 1995-11-16 | 1997-05-27 | Sony Corp | エピタキシャル成長半導体層を有する半導体基板の選別方法と半導体装置の製造方法 |
JP2010040793A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Sumco Corp | 熱処理炉評価用ウェーハ、熱処理炉評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
JP2010177238A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | エピタキシャルウエーハの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
-
2011
- 2011-10-25 JP JP2011233743A patent/JP5614394B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0750331A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Toshiba Corp | 半導体発光素子の評価装置及び評価方法 |
JPH09139408A (ja) * | 1995-11-16 | 1997-05-27 | Sony Corp | エピタキシャル成長半導体層を有する半導体基板の選別方法と半導体装置の製造方法 |
JP2010040793A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Sumco Corp | 熱処理炉評価用ウェーハ、熱処理炉評価方法および半導体ウェーハの製造方法 |
JP2010177238A (ja) * | 2009-01-27 | 2010-08-12 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | エピタキシャルウエーハの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6014024161; 住江伸吾, 高松弘行: '半導体プロセスにおける重金属汚染の検出 -キャリアライフタイム測定装置-' 神戸製鋼技報 Vol.52, No. 2, 200209, p. 87-93 * |
JPN6014024163; A. L. P. Rotondaro, 外7名: 'Impact of Fe and Cu Contamination on the Minority Carrier Lifetime of Silicon Substrates' Journal of the Electrochemical Society Vol. 143, No. 9, 1996, p. 3014-3019 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5614394B2 (ja) | 2014-10-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6300104B2 (ja) | シリコン結晶の炭素濃度測定方法、シリコン結晶の炭素関連準位測定方法 | |
JP2009302133A (ja) | 膜厚測定方法、エピタキシャルウェーハの製造方法、および、エピタキシャルウェーハ | |
WO2018037831A1 (ja) | 抵抗率標準サンプルの製造方法及びエピタキシャルウェーハの抵抗率測定方法 | |
JP5439752B2 (ja) | 汚染検出用モニターウェーハ、汚染検出方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 | |
JP5018682B2 (ja) | シリコン基板の評価方法、汚染検出方法及びエピタキシャル基板の製造方法 | |
JP2010040813A (ja) | シリコン基板の評価方法、汚染検出方法及びエピタキシャル基板の製造方法 | |
JP6061017B1 (ja) | 半導体エピタキシャルウェーハの汚染評価方法およびそれを用いたエピタキシャル成長装置の汚染評価方法 | |
JP2010118487A (ja) | エピタキシャルウェーハの評価方法およびエピタキシャルウェーハの製造方法 | |
JP5434491B2 (ja) | 半導体基板の評価方法及び半導体デバイスの製造方法 | |
JP5614394B2 (ja) | 気相成長装置の清浄度評価方法 | |
JP5741467B2 (ja) | 気相成長装置の清浄度評価方法 | |
JP5502528B2 (ja) | 半導体ウエハの処理方法と処理済の半導体ウエハ | |
JP5794212B2 (ja) | 気相成長装置の汚染評価方法及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 | |
JP2011021898A (ja) | 走査プローブ顕微鏡用標準試料及びキャリア濃度測定方法 | |
JP2013105914A (ja) | 気相成長装置の清浄度評価方法 | |
JP5077145B2 (ja) | シリコン単結晶基板の評価方法及びエピタキシャル基板の製造方法 | |
WO2014192215A1 (ja) | 半導体ウェーハの評価方法 | |
JP6634962B2 (ja) | シリコンエピタキシャルウェーハのエピタキシャル層の評価方法及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 | |
JP6003447B2 (ja) | 半導体基板の金属汚染評価方法および半導体基板の製造方法 | |
JP7192757B2 (ja) | エピタキシャルシリコンウェーハ及びその製造方法並びにx線検出センサ | |
JP6119680B2 (ja) | 半導体基板の欠陥領域の評価方法 | |
JP5630426B2 (ja) | 気相成長装置の清浄度評価方法 | |
JP5720557B2 (ja) | 半導体基板の評価方法および半導体基板の製造方法 | |
JP5454298B2 (ja) | 半導体基板の製造方法 | |
JP2020126985A (ja) | SiCエピタキシャルウェハ及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140617 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140812 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140825 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5614394 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |