JP2013080951A - 荷電ビーム描画装置及び荷電ビーム描画装置の設計方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも、内部に試料を載置するXYステージを有する筐体及び、電子ビームを試料に照射する電子光学鏡筒を有する電子ビーム描画装置の設計方法であって、筐体の天板の大気圧変化による変形を解析しS101、この解析に基づいて、筐体の天板の傾きが最も少ない位置を検出しS102、検出された位置に電子光学鏡筒を配置するS103。
【選択図】図3
Description
Claims (5)
- 少なくとも、内部に試料を載置するXYステージを有する筐体及び、荷電ビームを前記試料に照射する荷電粒子光学鏡筒を有する荷電ビーム描画装置の設計方法であって、
前記筐体の天板の大気圧変化による変形を解析し、
この解析に基づいて、前記荷電粒子光学鏡筒を、前記筐体の天板の傾きが最も少ない位置に配置することを特徴とする荷電ビーム描画装置の設計方法。 - 前記筐体の側面に設けられ、前記XYステージのX方向の位置を計測する第1のレーザ干渉計を内部に有する第1のチャンバと、
前記筐体の側面のうち、前記第1のチャンバが設けられた側面に対して垂直な他の側面に設けられ、前記XYステージのY方向の位置を計測する第2のレーザ干渉計を内部に有する第2のチャンバと、
をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の荷電ビーム描画装置の設計方法。 - 前記解析は、有限要素法により行われることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の荷電ビーム描画装置の設計方法。
- 試料を載置するXYステージを内部に有する筐体と、
この筐体の天板のうち、前記筐体の前記天板の大気圧変化による変形についての解析に基づいて前記天板の傾きが最も少なくなると検出された位置に配置され、荷電ビームを前記試料に照射する荷電粒子光学鏡筒と、
を具備することを特徴とする荷電ビーム描画装置。 - 前記筐体の側面に形成され、前記XYステージのX方向の位置を計測する第1のレーザ干渉計を内部に有する第1のチャンバと、
この第1のチャンバが形成された前記側面に対して垂直な前記筐体の他の側面に形成され、前記XYステージのY方向の位置を計測する第2のレーザ干渉計を内部に有する第2のチャンバと、
をさらに具備することを特徴とする請求項4に記載の荷電ビーム描画装置。
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