JP5162385B2 - 荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法 - Google Patents
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- 互いに直交するX方向及びY方向に移動自在なステージと、ステージ上に載置した試料に荷電粒子ビームを照射するビーム照射手段と、ステージに固定したX方向の法線を持つ第1ステージミラーへのレーザー光の入反射でステージのX方向位置を測定する第1レーザー測長計と、ステージに固定したY方向の法線を持つ第2ステージミラーへのレーザー光の入反射でステージのY方向位置を測定する第2レーザー測長計とを備える荷電粒子ビーム描画装置の第1と第2の各レーザー測長計のレーザー光の光軸位置を、光軸が荷電粒子ビームのビーム中心に交差するように調整する方法において、
ステージにX方向及びY方向に位置決めして固定可能な調整用治具であって、ステージ上に張り出す治具部分に形成した、所定位置のポイントを示すマーカー部と、第1ステージミラーを覆う治具部分に形成した、マーカー部で示されるポイントを通るX方向の線上に第1レーザー測長計のレーザー光の光軸が位置したときにこのレーザー光が入射される第1光軸ターゲット部と、第2ステージミラーを覆う治具部分に形成した、マーカー部で示されるポイントを通るY方向の線上に第2レーザー測長計のレーザー光の光軸が位置したときにこのレーザー光が入射される第2光軸ターゲット部とを有するものを用い、
ステージに調整用治具を固定して、マーカー部で示されるポイントの位置が荷電粒子ビームのビーム中心に合致する位置になるようにステージをX方向及びY方向に位置調整するステージ位置調整工程と、
第1と第2の各レーザー測長計のレーザー光が第1と第2の各光軸ターゲット部に入射されるように第1と第2の各レーザー測長計のレーザー光の光軸位置を調整する光軸調整工程とを順に実行することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法。 - 前記ステージ位置調整工程では、顕微鏡を、前記ステージを収納するチャンバーの天井部に形成した前記ビーム照射手段の取付穴に、前記ビーム中心に合致する位置に顕微鏡の光軸が位置するように配置し、前記マーカー部で示される前記ポイントの位置が顕微鏡の光軸に合致する位置になるようにステージをX方向及びY方向に位置調整することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法。
- 前記第1と第2の各光軸ターゲット部は、前記ステージ上に載置する試料と同一高さ位置に形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法。
- 前記マーカー部は、前記ポイントからX方向とY方向にのびる2つのエッジ部で構成されることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項記載の荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法。
- 前記ステージ上に張り出す前記治具部分に、ステージの上面に着座する着座部が形成されていることを特徴とする請求項1〜4の何れか1項記載の荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法。
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