JP2659320B2 - 電子線露光装置 - Google Patents
電子線露光装置Info
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- JP2659320B2 JP2659320B2 JP35753492A JP35753492A JP2659320B2 JP 2659320 B2 JP2659320 B2 JP 2659320B2 JP 35753492 A JP35753492 A JP 35753492A JP 35753492 A JP35753492 A JP 35753492A JP 2659320 B2 JP2659320 B2 JP 2659320B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、描画精度向上を図った
電子線露光装置に関する。
電子線露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子線露光装置においては従来は、加工
室が大気の状態でレーザ測長系のアライメントを行い、
レーザ光路を遮る等の手段によりレーザ測長軸の位置を
確認している。また電子ビームについては、対物レンズ
を加工室に取り付ける前に、対物レンズ中心直下を被加
工物設置位置と仮定してレーザ測長軸と電子ビーム軸の
位置合せを確認し、その後対物レンズを取り付けて加工
室を真空排気する、ということが行われていた。
室が大気の状態でレーザ測長系のアライメントを行い、
レーザ光路を遮る等の手段によりレーザ測長軸の位置を
確認している。また電子ビームについては、対物レンズ
を加工室に取り付ける前に、対物レンズ中心直下を被加
工物設置位置と仮定してレーザ測長軸と電子ビーム軸の
位置合せを確認し、その後対物レンズを取り付けて加工
室を真空排気する、ということが行われていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この様な従来の電子線
露光装置では、対物レンズの取り付け誤差、および加工
室の真空排気時の位置ずれ等によって、レーザ測長軸と
電子ビーム軸の位置ずれが生じる。この位置ずれは、ア
ッベの原理に従って位置決めすべき点すなわち露光装置
の位置計測誤差の原因となり、従って精密な電子線描画
を困難にする。
露光装置では、対物レンズの取り付け誤差、および加工
室の真空排気時の位置ずれ等によって、レーザ測長軸と
電子ビーム軸の位置ずれが生じる。この位置ずれは、ア
ッベの原理に従って位置決めすべき点すなわち露光装置
の位置計測誤差の原因となり、従って精密な電子線描画
を困難にする。
【０００４】本発明は、この様な事情を考慮してなされ
たもので、レーザ測長軸と電子ビーム軸のずれをなくし
て精密描画を可能とした電子線露光装置を提供すること
を目的とする。
たもので、レーザ測長軸と電子ビーム軸のずれをなくし
て精密描画を可能とした電子線露光装置を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、電子ビームを
照射する電子線照射系と、加工室内で被加工物を載置し
て移動できる，被加工物位置を測定するレーザ測長器付
きステージとを有する電子線露光装置において、前記ス
テージ上の前記被加工物載置位置から離れた位置でレー
ザ測長軸と電子ビーム軸の位置合わせを行う調整手段が
設けられ、この調整手段は、前記ステージ上に設けられ
て前記レーザ測長器のレーザ光ビームの一部を透過させ
るスリット板と、前記ステージ上に設けられて前記スリ
ット板を透過したレーザ光ビームの光量を検出する光検
出器と、前記ステージ上の前記光検出器の後方に前記ス
リット板のスリット位置に合わせて配置された電子ビー
ム位置合せ用マークと、このマークに電子ビームを照射
したときの二次電子または反射電子信号の少なくとも一
方を検出する電子信号検出器とを有することを特徴とし
ている。
照射する電子線照射系と、加工室内で被加工物を載置し
て移動できる，被加工物位置を測定するレーザ測長器付
きステージとを有する電子線露光装置において、前記ス
テージ上の前記被加工物載置位置から離れた位置でレー
ザ測長軸と電子ビーム軸の位置合わせを行う調整手段が
設けられ、この調整手段は、前記ステージ上に設けられ
て前記レーザ測長器のレーザ光ビームの一部を透過させ
るスリット板と、前記ステージ上に設けられて前記スリ
ット板を透過したレーザ光ビームの光量を検出する光検
出器と、前記ステージ上の前記光検出器の後方に前記ス
リット板のスリット位置に合わせて配置された電子ビー
ム位置合せ用マークと、このマークに電子ビームを照射
したときの二次電子または反射電子信号の少なくとも一
方を検出する電子信号検出器とを有することを特徴とし
ている。
【０００６】
【作用】本発明によれば、電子線照射系を組み立て、か
つ加工室内を真空排気した状態で、電子ビームを出しな
がら、被加工物載置位置とは離れた位置に設けられた調
整手段によって電子ビーム軸とレーザ測長軸の位置合せ
を行うことができる。従って、対物レンズの取り付け誤
差や、真空排気に伴う電子ビーム軸とレーザ測長軸の位
置ずれ等が修正されて、高精度の電子線描画ができる。
つ加工室内を真空排気した状態で、電子ビームを出しな
がら、被加工物載置位置とは離れた位置に設けられた調
整手段によって電子ビーム軸とレーザ測長軸の位置合せ
を行うことができる。従って、対物レンズの取り付け誤
差や、真空排気に伴う電子ビーム軸とレーザ測長軸の位
置ずれ等が修正されて、高精度の電子線描画ができる。
【０００７】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。図１は、本発明の一実施例に係る電子線露光
装置の概略構成である。電子線照射系は、電子銃１、電
子レンズ２，３、偏向コイル４等からなる。電子照射系
の下に加工室５がある。加工室５内には、Ｘ，Ｙ二軸方
向に移動可能なステージ６が設けられ、この上に被加工
物７が載置される。加工室５の外には、ステージ駆動装
置１０およびレーザ測長器８が設けられている。レーザ
測長器８からのレーザ光ビームを反射するレーザ・ミラ
ー９は、ステージ６上に配置されている。加工室５の上
部には、ステージ６からの二次電子または反射電子信号
を検出するための電子信号検出器１２が設けられてい
る。制御回路１１はシステム全体を制御するものであ
る。
説明する。図１は、本発明の一実施例に係る電子線露光
装置の概略構成である。電子線照射系は、電子銃１、電
子レンズ２，３、偏向コイル４等からなる。電子照射系
の下に加工室５がある。加工室５内には、Ｘ，Ｙ二軸方
向に移動可能なステージ６が設けられ、この上に被加工
物７が載置される。加工室５の外には、ステージ駆動装
置１０およびレーザ測長器８が設けられている。レーザ
測長器８からのレーザ光ビームを反射するレーザ・ミラ
ー９は、ステージ６上に配置されている。加工室５の上
部には、ステージ６からの二次電子または反射電子信号
を検出するための電子信号検出器１２が設けられてい
る。制御回路１１はシステム全体を制御するものであ
る。
【０００８】図２および図３は、電子ビーム軸とレーザ
測長軸の位置合わせを行うための調整手段のステージ上
の部分と、被加工物７やレーザ測長器８との関係を示し
ている。ここで図２と図３の関係は、図２が電子ビーム
軸とレーザ測長軸の位置合わせ調整を行う状態、図３が
レーザ測長器アライメントおよび電子線描画を行う状態
であって、両状態はステージ移動により切り替えられ
る。即ち、図２の状態からステージを左斜め下方に移動
させた状態が図３である。レーザ測長器８は、図示のよ
うにＸ軸方向にレーザ光ビーム２１ｘを出すＸ軸レーザ
測長器８ｘと、Ｙ軸方向にレーザ光ビーム２１ｙを出す
Ｙ軸レーザ測長器８ｙの二つがある。レーザミラー９
は、これらの二つのレーザ光ビーム２１ｘ，２１ｙに直
交する二面を持つように、被加工物７を載置する位置の
近くに配置されている。
測長軸の位置合わせを行うための調整手段のステージ上
の部分と、被加工物７やレーザ測長器８との関係を示し
ている。ここで図２と図３の関係は、図２が電子ビーム
軸とレーザ測長軸の位置合わせ調整を行う状態、図３が
レーザ測長器アライメントおよび電子線描画を行う状態
であって、両状態はステージ移動により切り替えられ
る。即ち、図２の状態からステージを左斜め下方に移動
させた状態が図３である。レーザ測長器８は、図示のよ
うにＸ軸方向にレーザ光ビーム２１ｘを出すＸ軸レーザ
測長器８ｘと、Ｙ軸方向にレーザ光ビーム２１ｙを出す
Ｙ軸レーザ測長器８ｙの二つがある。レーザミラー９
は、これらの二つのレーザ光ビーム２１ｘ，２１ｙに直
交する二面を持つように、被加工物７を載置する位置の
近くに配置されている。
【０００９】ステージ上の被加工物７の載置位置から所
定距離離れた位置には、二つのレーザ測長器８ｘ，８ｙ
からのレーザ光ビーム２１ｘ，２１ｙの一部を透過させ
るように、それぞれスリット２２ｘ，２２ｙが開けられ
たスリット板２３ｘ，２３ｙが配置されている。これら
スリット板２３ｘ，２３ｙの後方には、それぞれスリッ
ト２２ｘ，２２ｙを透過したレーザ光ビームの光量を検
出する光検出器２４ｘ，２４ｙが配置されている。これ
ら光検出器２４ｘ，２４ｙの出力は、加工室外部に設け
られた出力モニタ２８で監視できるようになっている。
定距離離れた位置には、二つのレーザ測長器８ｘ，８ｙ
からのレーザ光ビーム２１ｘ，２１ｙの一部を透過させ
るように、それぞれスリット２２ｘ，２２ｙが開けられ
たスリット板２３ｘ，２３ｙが配置されている。これら
スリット板２３ｘ，２３ｙの後方には、それぞれスリッ
ト２２ｘ，２２ｙを透過したレーザ光ビームの光量を検
出する光検出器２４ｘ，２４ｙが配置されている。これ
ら光検出器２４ｘ，２４ｙの出力は、加工室外部に設け
られた出力モニタ２８で監視できるようになっている。
【００１０】光検出器２４ｘ，２４ｙの後方には、スリ
ット２２ｘ，２２ｙの延長上でクロスする電子ビーム位
置合わせマーク２５が形成されている。図２では、この
位置合わせマーク２５の近くに当たる電子ビームの偏向
領域２６と電子ビーム中心２７を示している。
ット２２ｘ，２２ｙの延長上でクロスする電子ビーム位
置合わせマーク２５が形成されている。図２では、この
位置合わせマーク２５の近くに当たる電子ビームの偏向
領域２６と電子ビーム中心２７を示している。
【００１１】この実施例の装置での調整動作を、次に具
体的に説明する。まず電子ビーム照射系を組み立てた
後、加工室５を真空排気する前に、二つのレーザ測長器
８ｘ，８ｙのアライメントを行う。この時は図３の状態
であり、レーザ測長器８ｘ，８ｙからのレーザ光ビーム
２１ｘ，２１ｙはレーザミラー９により全反射されるか
ら、その反射レーザ光ビームを観測することにより、レ
ーザ測長器８ｘ，８ｙのアライメントができる。次い
で、加工室５を真空排気して、電子銃から電子ビームを
発生させ、電子信号検出器の出力を走査像観察によって
モニタすることにより、電子ビームの最大輝度を有する
ビーム中心部分がレンズ系光軸の中心を通過して、被加
工物又は電子ビーム位置合せマークを照射するように、
電子ビームのアライメントを行う。
体的に説明する。まず電子ビーム照射系を組み立てた
後、加工室５を真空排気する前に、二つのレーザ測長器
８ｘ，８ｙのアライメントを行う。この時は図３の状態
であり、レーザ測長器８ｘ，８ｙからのレーザ光ビーム
２１ｘ，２１ｙはレーザミラー９により全反射されるか
ら、その反射レーザ光ビームを観測することにより、レ
ーザ測長器８ｘ，８ｙのアライメントができる。次い
で、加工室５を真空排気して、電子銃から電子ビームを
発生させ、電子信号検出器の出力を走査像観察によって
モニタすることにより、電子ビームの最大輝度を有する
ビーム中心部分がレンズ系光軸の中心を通過して、被加
工物又は電子ビーム位置合せマークを照射するように、
電子ビームのアライメントを行う。
【００１２】その後、ステージ６を移動させて図２の状
態とし、スリット板２３ｘ，２３ｙを通して光検出器２
４ｘおよび２４ｙで検出される出力が最大になるよう
に、ステージ６の位置を微調整する。レーザ光ビームの
径ａと、スリット２２ｘ，２２ｙの幅ｂの関係は、図４
に示す状態にある。例えば、ａが６mm程度、ｂが１mm程
度とすると、スリット２２はレーザ光ビーム２１の一部
を取り出すことができ、スリット２２の位置がレーザ光
ビーム２１の中心位置になったときに光検出器２４には
最大出力が得られる。従って出力モニタ２８で監視しな
がら、光検出出力が最大になるようにステージ位置を調
整すれば、Ｘ，Ｙ方向のレーザ測長軸をそれぞれスリッ
ト２２ｘ，２２ｙに一致させることができる。
態とし、スリット板２３ｘ，２３ｙを通して光検出器２
４ｘおよび２４ｙで検出される出力が最大になるよう
に、ステージ６の位置を微調整する。レーザ光ビームの
径ａと、スリット２２ｘ，２２ｙの幅ｂの関係は、図４
に示す状態にある。例えば、ａが６mm程度、ｂが１mm程
度とすると、スリット２２はレーザ光ビーム２１の一部
を取り出すことができ、スリット２２の位置がレーザ光
ビーム２１の中心位置になったときに光検出器２４には
最大出力が得られる。従って出力モニタ２８で監視しな
がら、光検出出力が最大になるようにステージ位置を調
整すれば、Ｘ，Ｙ方向のレーザ測長軸をそれぞれスリッ
ト２２ｘ，２２ｙに一致させることができる。
【００１３】この時、位置合わせ用マーク２５の領域を
電子ビームで走査して、検出器１２により得られる信号
を処理して得られるＳＥＭ像を観察することにより、電
子ビーム軸とレーザ測長軸のずれを知ることができる。
そこで、このずれがなくなるように、即ち位置合わせ用
マーク２５の中心がＳＥＭ像の中心になるように、電子
ビーム照射系を調整する。これにより、電子ビーム軸と
レーザ測長軸の位置合わせができる。
電子ビームで走査して、検出器１２により得られる信号
を処理して得られるＳＥＭ像を観察することにより、電
子ビーム軸とレーザ測長軸のずれを知ることができる。
そこで、このずれがなくなるように、即ち位置合わせ用
マーク２５の中心がＳＥＭ像の中心になるように、電子
ビーム照射系を調整する。これにより、電子ビーム軸と
レーザ測長軸の位置合わせができる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、電
子線照射系を組み立て、かつ加工室内を真空排気した状
態で、電子ビームを出しながら電子ビーム軸とレーザ測
長軸の位置合せを行うことを可能とし、もって高精度の
電子線描画を可能とした電子線露光装置を提供すること
ができる。
子線照射系を組み立て、かつ加工室内を真空排気した状
態で、電子ビームを出しながら電子ビーム軸とレーザ測
長軸の位置合せを行うことを可能とし、もって高精度の
電子線描画を可能とした電子線露光装置を提供すること
ができる。
【図１】 本発明の一実施例に係る電子線露光装置の概
略構成を示す図である。
略構成を示す図である。
【図２】 同実施例の電子ビーム軸とレーザ光ビーム軸
の位置合わせ法を説明するための図である。
の位置合わせ法を説明するための図である。
【図３】 同実施例のレーザ測長器のアライメント及び
電子線描画法を説明するための図である。
電子線描画法を説明するための図である。
【図４】 同実施例のレーザ光ビームとスリットの関係
を示す図である。
を示す図である。
１…電子銃、２，３…電子レンズ、４…偏向コイル、５
…加工室、６…ステージ、７…被加工物、８（８ｘ，８
ｙ）…レーザ測長器、９…レーザミラー、１０…ステー
ジ駆動装置、１１…制御回路、１２…電子信号検出器、
２１（２１ｘ，２１ｙ）…レーザ光ビーム、２２（２２
ｘ，２２ｙ）…スリット、２３（２３ｘ，２３ｙ）…ス
リット板、２４（２４ｘ，２４ｙ）…光検出器、２５…
位置合せ用マーク、２６…電子ビームの偏向領域、２７
…電子ビーム中心、２８…出力モニタ。
…加工室、６…ステージ、７…被加工物、８（８ｘ，８
ｙ）…レーザ測長器、９…レーザミラー、１０…ステー
ジ駆動装置、１１…制御回路、１２…電子信号検出器、
２１（２１ｘ，２１ｙ）…レーザ光ビーム、２２（２２
ｘ，２２ｙ）…スリット、２３（２３ｘ，２３ｙ）…ス
リット板、２４（２４ｘ，２４ｙ）…光検出器、２５…
位置合せ用マーク、２６…電子ビームの偏向領域、２７
…電子ビーム中心、２８…出力モニタ。
Claims (1)
- 【請求項１】 電子ビームを照射する電子線照射系と、
加工室内で被加工物を載置して移動できる，被加工物位
置を測定するレーザ測長器付きステージとを有する電子
線露光装置において、前記ステージ上の前記被加工物載
置位置から離れた位置でレーザ測長軸と電子ビーム軸の
位置合わせを行う調整手段が設けられ、この調整手段
は、 前記ステージ上に設けられて前記レーザ測長器のレーザ
光ビームの一部を透過させるスリット板と、 前記ステージ上に設けられて前記スリット板を透過した
レーザ光ビームの光量を検出する光検出器と、 前記ステージ上の前記光検出器の後方に前記スリット板
のスリット位置に合わせて配置された電子ビーム位置合
せ用マークと、 このマークに電子ビームを照射したときの二次電子また
は反射電子信号の少なくとも一方を検出する電子信号検
出器と、 を有することを特徴とする電子線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35753492A JP2659320B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 電子線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35753492A JP2659320B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 電子線露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06196395A JPH06196395A (ja) | 1994-07-15 |
| JP2659320B2 true JP2659320B2 (ja) | 1997-09-30 |
Family
ID=18454625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35753492A Expired - Fee Related JP2659320B2 (ja) | 1992-12-24 | 1992-12-24 | 電子線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2659320B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4713773B2 (ja) * | 2001-07-09 | 2011-06-29 | 株式会社アドバンテスト | 電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光方法 |
| JP5162385B2 (ja) * | 2008-09-16 | 2013-03-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法 |
| CN118039438B (zh) * | 2024-02-23 | 2024-09-20 | 深圳市鹏芯微集成电路制造有限公司 | 离子注入机的校准设备及校准方法 |
-
1992
- 1992-12-24 JP JP35753492A patent/JP2659320B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06196395A (ja) | 1994-07-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |