JP3836408B2 - 位置調整装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、加速器プラントにおける電磁石などの機器の据付けを効率的に行うための位置調整装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図9は特開平10−239057号公報に示された従来の位置調整装置の構成の説明図である。図9において、101は定点Aに配置され、基準点の方向にレーザビームを出射する第1のレーザ装置、102は定点Bに配置され、基準点の方向にレーザビームを出射する第2のレーザ装置、103は位置調整対象の機器(図示せず)に設置され、機器(図示せず)の位置調整時に位置合わせが行われるターゲットである。第1のレーザ装置101から出射されたレーザビームと第2のレーザ装置102から出射されたレーザビームとは基準点で交差する。
【0003】
次に位置調整方法について説明する。
位置調整対象の機器(図示せず)にターゲット103を設置する。第1及び第2のレーザ装置101,102から基準点の方向に向けてレーザビームを出射する。ターゲット103が基準点から外れている場合、ターゲット103上にレーザスポットが2点表示される。ターゲット103上に表示された2点のレーザスポットが1点に収斂するようにターゲット103の位置合わせを行う。
ターゲット103上に表示された2点のレーザスポットが1点に収斂することが視認により確認できたとき、機器(図示せず)の位置調整を終了する。このとき、ターゲット103が基準点に配置される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来の位置調整装置は以上のように構成されているので、複数のレーザ装置が必要であり、装置コストが高くなるという課題があった。
また、一つの機器に位置合わせしなければならない箇所が複数ある場合、順番に位置合わせを行わなければならず、複数の箇所の位置合わせを同時に行うことができない。このため、例えば、位置合わせしなければならない箇所が2つである場合について説明すれば、一方の箇所の位置合わせを行い、その後に他方の箇所の位置合わせを行った後、再度、一方の箇所の位置合わせを行い、その後に他方の箇所の位置合わせを行うというように、すべての箇所が正しい位置に配置されるまで、位置合わせを繰り返し行わなければならない。従って、位置調整作業の工数が多くなり、作業時間及び作業コストが増加するという課題があった。
【0005】
この発明は上記のような課題を解決するためになされたもので、1台のレーザ装置を用いて、機器の据付作業を効率的に行うことが可能な位置調整装置を得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る位置調整装置は、レーザビームの集束位置を変更可能なレーザビーム集束位置可変機構を有し、基準点の方向に向けてレーザビームを出射するレーザ装置と、位置調整対象機器に設置され中心にレーザビームを透過する開口部を有しかつ開口部からの距離が判読できる目盛を設けた第1のターゲットと、位置調整対象機器に第1のターゲットから所定の距離だけ離して設置された第1のターゲットと同一の材質、構造を有する第2のターゲットと、レーザ装置から出射されたレーザビームが第1のターゲットの開口部を通過し、かつ第1のターゲットの開口部を通過したレーザビームが第2のターゲットの開口部を通過するように、第1及び第2のターゲットの位置合わせが可能な位置調整機構とを備えたものである。
【0008】
この発明に係る位置調整装置は、第1及び第2のターゲットの各々が、通過部から外れた位置に入射したレーザビームを、その入射位置に対応する位置に反射して返す反射部を有し、位置調整装置が、第1及び第2のターゲットの反射部で反射して返ってきたレーザビームを受光して、第1及び第2のターゲットへのレーザビームの入射位置の、第1及び第2のターゲットの通過部からの位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出装置を備えたものである。
【0009】
この発明に係る位置調整装置は、位置ずれ量検出装置が、その受光面の前面に検光子を有するものである。
【0010】
この発明に係る位置調整装置は、レーザビーム集束位置可変機構を遠隔制御する制御装置を備えたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の一形態を説明する。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1による位置調整装置の構成の説明図である。図1はレーザ装置からレーザビームが出射されている場合と距離測定装置からレーザ光が出射されている場合の両方を同時に示している。図1において、1は加速器プラントに電磁石(位置調整対象機器)Aを据え付ける際の基準となる基準ターゲットである。基準ターゲット1は複数の電磁石の据付けの基準となる。
【0012】
2は所定の方向に向けてレーザビームを出射するレーザ装置である。電磁石Aの位置調整時、レーザ装置2は基準ターゲット1上の基準点の方向に向けてレーザビームを出射する。レーザ装置2は、レーザビームを出射する半導体レーザ11と、レーザビームの集束位置を変更可能なレーザビーム集束位置可変機構12と、レーザ装置2を所定箇所に据え付けるための三脚13と、レーザビームの光軸が水平になるように調整するための整準台14と、視認しながらレーザ装置2の回転中心を所定位置に合わせるための回転中心位置合わせ光学系15と、レーザビームを回転させるための回転台16と、レーザビームをXYZ方向に移動させるためのXYZ移動台17とを備える。X方向はレーザビームのビーム方向であり、Y方向はX方向に垂直でかつ床面に水平な方向であり、Z方向はX方向に垂直でかつ床面に垂直な方向である。図2はレーザビーム集束位置可変機構の構成の説明図である。図2に示すように、レーザビーム収束位置可変機構12は、X方向に移動可能なレンズ12aを備え、半導体レーザ11とレンズ12aとの間の距離Lを変化させることにより、レーザビームの集束位置を変える。
【0013】
3は電磁石Aの上部に設置され、電磁石Aの位置調整時に設計位置に配置されるように位置合わせが行われる第1のターゲット、4は電磁石Aの上部に第1のターゲット3から所定の距離だけ離して設置され、電磁石Aの位置調整時に設計位置に配置されるように位置合わせが行われる第2のターゲットである。図3は第1及び第2のターゲットの平面図である。図3(a)に示すように、第1のターゲット3には、レーザ装置2から出射されたレーザビームが通過可能な開口3aが形成され、開口3aを中心として十文字の目盛り3bが刻印されている。また、図3(b)に示すように、第2のターゲット4には、第1のターゲット3の開口3aを通過したレーザビームが通過可能な開口4aが形成され、開口4aを中心として十文字の目盛り4bが刻印されている。第1及び第2のターゲット3,4に形成する目盛りは、開口3a,4aからの距離を示すものであればよく、例えば同心円状の目盛りであってもよい。加速器プラントでは、電磁石Aの中心が加速粒子ビーム上に位置するように電磁石Aを配置する必要があり、第1及び第2のターゲット3,4が設計位置に配置されたとき、電磁石Aの中心が加速粒子ビーム上に位置するように設計されている。加速粒子ビームは図1中の電磁石Aの左から右、あるいは右から左を通過する。
【0014】
5は電磁石Aの下部に設置され、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット3の開口3aを通過しかつ第1のターゲット3の開口3aを通過したレーザビームが第2のターゲット4の開口4aを通過するように、第1及び第2のターゲット3,4の位置合わせを行うための位置調整機構である。位置調整機構5は、主に第1のターゲット3のZ方向の位置調整に用いる第1の高さ調整器具5aと、主に第2のターゲット4のZ方向の位置調整に用いる第2の高さ調整器具5bとを備える。位置調整機構5は、第1及び第2の高さ調整器具5a,5bの長さを変化させて、第1及び第2のターゲット3,4のZ方向における設計位置からの位置ずれを調整可能である。第1及び第2のターゲット3,4のX方向の位置が設計通りである状態において、レーザビームが第1及び第2のターゲット3,4の開口3a,4aを通過するように第1及び第2のターゲット3,4を位置合わせすると、第1及び第2のターゲット3,4は設計位置に配置される。
【0015】
6はレーザ装置2から出射されるレーザビームと同一光軸上にレーザ光を出射し、第1のターゲット3で反射して返ってきたレーザ光を受光して、レーザ光が出射されてから返ってくるまでの時間を計測し、第1のターゲット3までの距離を測定する距離測定装置である。距離測定装置6は、レーザ光を出射するとともに、第1のターゲット3で反射して返ってきたレーザ光を受光して、レーザ光が出射されてから返ってくるまでの時間を計測し、第1のターゲット3までの距離を測定する距離測定部6aと、距離測定部6aから出射されたレーザ光をレーザ装置2から出射されるレーザビームの光軸上に導くとともに、第1のターゲット3で反射して返ってきたレーザ光を距離測定部6aに導く第1及び第2のハーフミラー6b,6cとを備える。距離測定装置は第1のターゲット3までの距離を測定できるものであればよく、例えば三角測量方式の距離測定装置であってもよい。
【0016】
なお、図1中、aはレーザ装置2から出射されたレーザビームを示し、bは距離測定装置から出射されたレーザ光を示す。
【0017】
次に位置調整方法について説明する。
図4はこの発明の実施の形態1の位置調整装置による位置調整方法の説明図である。
【0018】
先ず、三脚13によりレーザ装置2を所定箇所に据え付ける。そして、整準台14によりレーザビームの光軸が水平になるように調整する。そして、回転中心位置合わせ光学系15で視認しながらレーザ装置2の回転中心を所定位置に合わせる。
【0019】
その後、レーザ装置2からレーザビームを出射する。そして、回転台16によりレーザビームを回転させながらXYZ移動台17によりレーザビームの高さを調整し、レーザビームを基準ターゲット1の方向に向ける。そして、図4(a)に示すように、レーザビーム集束位置可変機構12によりレーザビームを基準ターゲット1上に集束する。そして、基準ターゲット1上に照射されたレーザスポットの位置を視認しながら、レーザビームが基準ターゲット1上の基準点の方向に向かうように、レーザスポットを基準ターゲット1上の基準点に合わせる。ここでは、レーザ装置2から出射されたレーザビームを基準ターゲット1上に集束した後、基準ターゲット1上に照射されたレーザスポットの位置を基準ターゲット1上の基準点に合わせるので、レーザビームの出射方向を精度良く設定することができる。
【0020】
その後、第1及び第2のターゲット3,4を電磁石A上に所定の距離だけ離して設置する。
【0021】
その後、距離測定装置6からレーザ光をレーザビームと同一光軸上に出射し、第1のターゲット3で反射して返ってきたレーザ光を受光して、レーザ光が出射されてから返ってくるまでの時間を計測し、第1のターゲット3までの距離を測定する。第1のターゲット3と第2のターゲット4との間の距離が決まっているため、第1のターゲット3までの距離を測定することにより、第2のターゲット4までの距離が決まる。さらに、第1及び第2のターゲット3,4までの距離から第1及び第2のターゲット3,4のX方向の位置が決まる。そして、第1及び第2のターゲット3,4のX方向の位置が設計からずれていた場合、電磁石Aを設計からずれた距離だけX方向に移動させる。
【0022】
その後、第1及び第2のターゲット3,4のX方向の位置が設計通りであることが確認できたとき、図4(b)に示すように、レーザ装置2からレーザビームを出射し、第1のターゲット3を照射する。そして、レーザビーム集束位置可変機構12によりレーザビームを第1のターゲット3上に集束する。ここで、第1のターゲット3上に照射されたレーザスポットの位置を視認し、第1のターゲット3のY方向の位置が設計からずれていた場合、電磁石Aを設計からずれた距離だけY方向に移動させる。この際、第2のターゲット4のY方向における設計位置からの位置ずれも調整される。そして、第1のターゲット3のY方向の位置が設計通りであることが確認できたとき、第1のターゲット3上に照射されたレーザスポットの位置を視認しながら、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット3の開口3aを通過するように、第1のターゲット3の位置合わせを行う。第1のターゲット3の位置合わせは、第1の高さ調整器具5aの長さと必要に応じて第2の高さ調整器具5bの長さとを変化させて第1のターゲット3のZ方向の位置を調整することにより行う。レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット3の開口3aを通過したとき、第1のターゲット3の開口3aを通過したレーザビームは第2のターゲット4を照射する。
【0023】
その後、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット3の開口3aを通過したことを視認により確認できたとき、図4(c)に示すように、レーザビーム集束位置可変機構12によりレーザビームを第2のターゲット4上に集束する。そして、第2のターゲット4上に照射されたレーザスポットの位置を視認しながら、第1のターゲット3の開口3aを通過したレーザビームが第2のターゲット4の開口4aを通過するように、第2のターゲット4の位置合わせを行う。第2のターゲット4の位置合わせは、第2の高さ調整器具5bの長さと必要に応じて第1の高さ調整器具5aの長さとを変化させて第2のターゲット4のZ方向の位置を調整することにより行う。第2のターゲット4の位置合わせ中、レーザビームが第1のターゲット3の開口3aを通過しなくなった場合、第1のターゲット3の位置合わせをやり直す。
【0024】
レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット3の開口3aを通過し、第1のターゲット3の開口3aを通過したレーザビームが第2のターゲット4の開口4aを通過したことを視認により確認できたとき、電磁石Aの位置調整を終了する。このとき、第1及び第2のターゲット3,4は設計位置に配置され、電磁石Aの中心が加速粒子ビーム上に位置する。
【0025】
以上のように、この実施の形態1によれば、第1のターゲット3と第2のターゲット4とを電磁石Aに所定の距離だけ離して設置し、第1及び第2のターゲット3,4のレーザビームのビーム方向の位置が設計通りであることを第1のターゲット3の距離測定によって確認した後、レーザビームが第1及び第2のターゲット3,4の開口3a,4aを通過するように第1及び第2のターゲット3,4の位置合わせを行うことによって、第1及び第2のターゲット3,4を設計位置に配置するので、第1及び第2のターゲット3,4が設計位置に配置されたことを同時に確認することができ、1台のレーザ装置2で電磁石Aの据付作業を効率的に行うことができるという効果が得られる。
【0026】
また、この実施の形態1によれば、第1のターゲット3を位置合わせする際に第1のターゲット3上にレーザビームを集束し、第2のターゲット4を位置合わせする際に第2のターゲット4上にレーザビームを集束するので、第1及び第2のターゲット3,4の位置合わせを精度良く行なうことができるという効果が得られる。
【0027】
実施の形態2.
図5はこの発明の実施の形態2による位置調整装置の構成の説明図である。図5はレーザ装置からレーザビームが出射されている場合と距離測定装置からレーザ光が出射されている場合の両方を同時に示している。図5において、21は電磁石Aの上部に設置され、電磁石Aの位置調整時に設計位置に配置されるように位置合わせが行われる第1のターゲット、31は電磁石Aの上部に第1のターゲット21から所定の距離だけ離して設置され、電磁石Aの位置調整時に設計位置に配置されるように位置合わせが行われる第2のターゲットである。
【0028】
図6は第1及び第2のターゲットの断面図である。ただし、断面を示すハッチングは省略している。図6(a)に示すように、第1のターゲット21は、偏光ビームスプリッタ22と、偏光ビームスプリッタ22の前面に取り付けられた第1の1/2波長板23と、偏光ビームスプリッタ22の後面に取り付けられた第2の1/2波長板24とを備える。偏光ビームスプリッタ22は、断面が台形状である第1の結晶体25と、第1の結晶体25と組み合わさって円柱体を構成する第2の結晶体26と、第1の結晶体25の前面25aと後面25bとを結ぶ斜面(すなわち、第1の結晶体25と第2の結晶体26との境界面)25cに設けられた、垂直偏光(振動面が紙面に対して垂直な光成分)を反射し水平偏光(振動面が紙面に対して平行な光成分)を透過する特性を有する反射膜(反射部)27とを備える。第2の1/2波長板24には、第1の結晶体25の後面25bと対向する位置に開口24aが形成されている。第1のターゲット21は、第1の結晶体25の後面25bが位置する領域(以下、中央領域(通過部)という)に、第1のターゲット21の前面から入射したレーザビームが入った場合、通過させる。一方、第1の結晶体25の後面25bが位置する領域から外れた領域(以下、周辺領域という)にレーザビームが入った場合、反射膜27で反射してその入射位置に対応する位置に返す。
【0029】
また、図6(b)に示すように、第2のターゲット31は、偏光ビームスプリッタ32を備える。偏光ビームスプリッタ32は、断面が台形状である第1の結晶体33と、第1の結晶体33と組み合わさって円柱体を構成する第2の結晶体34と、第1の結晶体33の前面33aと後面33bとを結ぶ斜面(すなわち、第1の結晶体33と第2の結晶体34との境界面)33cに設けられた、垂直偏光(振動面が紙面に対して垂直な光成分)を反射し水平偏光(振動面が紙面に対して平行な光成分)を透過する特性を有する反射膜(反射部)35とを備える。第2のターゲット31は、第1の結晶体33の後面33bが位置する領域(以下、中央領域(通過部)という)に、第2のターゲット31の前面から入射したレーザビームが入った場合、通過させる。一方、第1の結晶体33の後面33bが位置する領域から外れた領域(以下、周辺領域という)にレーザビームが入った場合、反射膜35で反射してその入射位置に対応する位置に返す。
【0030】
41は第1及び第2のターゲット21,31の反射膜27,35で反射して返ってきたレーザビームを受光して、第1及び第2のターゲット21,31への入射位置を判定し、第1及び第2のターゲット21,31へのレーザビームの入射位置の、第1及び第2のターゲット21,31の中央領域からの位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出装置である。位置ずれ量検出装置41は、第1及び第2のターゲット21,31の反射膜27,35で反射して返ってきたレーザビームを受光して、その受光位置から第1及び第2のターゲット21,31への入射位置を判定し、第1及び第2のターゲット21,31へのレーザビームの入射位置の、第1及び第2のターゲット21,31の中央領域からの位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出部41aと、第1及び第2のターゲット21,31の反射膜27,35で反射して返ってきたレーザビームを位置ずれ量検出部41aに導くハーフミラー41bと、位置ずれ量検出部41aの受光面の前面に設けられた検光子41cとを備える。位置ずれ量検出部41aは例えばPSD(Position Sensitive Detector)やCCD(Charge Coupled Device)や4分割検出器などのレーザビームの位置が検出可能な素子で構成される。検光子41cは回転してその偏光方向を変更可能であるように設けられている。
【0031】
なお、この実施の形態における位置調整機構5は、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット21の中央領域を通過し、第1のターゲット21の中央領域を通過したレーザビームが第2のターゲット31の中央領域を通過するように、第1及び第2のターゲット21,31の位置合わせを行うためのものである。第1及び第2のターゲット3,4のX方向の位置が設計通りである状態において、レーザビームが第1及び第2のターゲット21,31の中央領域を通過するように第1及び第2のターゲット21,31を位置合わせすると、第1及び第2のターゲット21,31は設計位置に配置される。
その他の構成要素は図1で同一符号を付して示したものと同一または同等であるので、その詳細な説明は省略する。
【0032】
次に位置調整方法について説明する。
図7はこの発明の実施の形態2の位置調整装置による位置調整方法の説明図である。図7中、c〜kはそれぞれの位置におけるレーザビームの偏光方向を示す。c,e,iは水平偏光であることを示し、d,f,g,h,j,kは垂直偏光であることを示す。
【0033】
先ず、実施の形態1の場合と同様に、レーザ装置2の位置調整及びレーザビームの出射方向の設定を行う。
その後、第1及び第2のターゲット21,31を電磁石A上に所定の距離だけ離して設置する。
その後、距離測定装置6を用いて第1のターゲット21までの距離を測定する。そして、第1及び第2のターゲット21,31のX方向の位置が設計からずれていた場合、電磁石Aを設計からずれた距離だけX方向に移動させる。
【0034】
その後、第1及び第2のターゲット21,31のX方向の位置が設計通りであることが確認できたとき、レーザ装置2から水平偏光のレーザビームを出射し、第1のターゲット21を照射する。そして、レーザビーム集束位置可変機構12によりレーザビームを第1のターゲット21上に集束する。レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット21の周辺領域に入射したとき、そのレーザビームは、反射膜27で反射してその入射位置と対応する、その入射位置とは異なる位置に返る。そして、第1のターゲット21の反射膜27で反射して返ってきたレーザビームを、位置ずれ量検出装置41で受光し、その受光位置から、第1のターゲット21へのレーザビームの入射位置の、第1のターゲット21の中央領域からの位置ずれ量を検出する。ここで、位置ずれ量検出装置41による位置ずれ量検出結果より、第1のターゲット21のY方向の位置が設計からずれていた場合、位置ずれ量検出装置41により検出された、第1のターゲット21へのレーザビームの入射位置の、Y方向における第1のターゲット21の中央領域からの位置ずれ量だけ電磁石AをY方向に移動させる。この際、第2のターゲット31のY方向における設計位置からの位置ずれも調整される。そして、位置ずれ量検出装置41による位置ずれ量検出結果より、第1のターゲット21のY方向の位置が設計通りであることが確認できたとき、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット21の中央領域を通過するように、第1のターゲット21の位置合わせを行う。第1のターゲット21の位置合わせは、第1の高さ調整器具5aの長さと必要に応じて第2の高さ調整器具5bの長さとを変化させて、位置ずれ量検出装置41により検出された、第1のターゲット21へのレーザビームの入射位置の、Z方向における第1のターゲット21の中央領域からの位置ずれ量だけ第1のターゲット21をZ方向に移動させることにより行う。レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット21の中央領域を通過したとき、第1のターゲット21の中央領域を通過したレーザビームは第2のターゲット31を照射する。
【0035】
なお、第1のターゲット21の周辺領域に入射するレーザビームは、最初、水平偏光(c参照)であり、第1の1/2波長板23を透過することにより垂直偏光(d参照)となって、第1の結晶体25に入射する。そして、垂直偏光のまま反射膜27で反射しながら第1の結晶体25を伝播し、第1の結晶体25を出射する。そして、再度、第1のターゲット21の第1の1/2波長板23を透過することにより水平偏光(e参照)となる。このため、第1のターゲット21の反射膜27で反射して返ってきたレーザビームは水平偏光であり、水平偏光が透過する方向に検光子41cを向けておくことにより、位置ずれ量検出装置41が受光したレーザビームが第1のターゲット21の反射膜27で反射して返ってきたものであると判断できる。
【0036】
その後、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット21の中央領域を通過したことを、位置ずれ量検出装置41でレーザビームが受光されなくなることにより確認できたとき、図7(b)に示すように、レーザビーム集束位置可変機構12によりレーザビームを第2のターゲット31上に集束する。第1のターゲット21の中央領域を通過したレーザビームが第2のターゲット31の周辺領域に入射したとき、そのレーザビームは、反射膜35で反射してその入射位置と対応する、その入射位置とは異なる位置に返る。そして、第2のターゲット31の反射膜35で反射して返ってきたレーザビームを、位置ずれ量検出装置41で受光し、その受光位置から、第2のターゲット31へのレーザビームの入射位置の、第2のターゲット31の中央領域からの位置ずれ量を検出する。そして、第1のターゲット21の中央領域を通過したレーザビームが第2のターゲット31の中央領域を通過するように、第2のターゲット31の位置合わせを行う。第2のターゲット31の位置合わせは、第2の高さ調整器具5bの長さと必要に応じて第2の高さ調整器具5aの長さとを変化させて、位置ずれ量検出装置41により検出された、第2のターゲット31へのレーザビームの入射位置の、Z方向における第2のターゲット31の中央領域からの位置ずれ量だけ第2のターゲット31をZ方向に移動させることにより行う。第2のターゲット31の位置合わせ中、レーザビームが第1のターゲット21の中央領域を通過しなくなった場合、第1のターゲットの位置合わせをやり直す。
【0037】
なお、第1のターゲット21の中央領域を通過した後、第2のターゲット31の周辺領域に入射するレーザビームは、第1の1/2波長板23を透過しているため、最初、垂直偏光(f参照)である。そして、垂直偏光(g,h参照)のまま第1の結晶体33に入射し、反射膜35で反射しながら第1の結晶体33を伝播し、第1の結晶体33を出射する。そして、第1のターゲット21の後方から第1のターゲット21の周辺領域に入射する。そして、第2の1/2波長板24を透過することにより水平偏光(i参照)となり、水平偏光のまま、第2の結晶体26、反射膜27、第1の結晶体25を伝播し、第1の結晶体25を出射する。そして、第1の1/2波長板23を透過することにより垂直偏光(j参照)となる。このため、第2のターゲット31の反射膜35で反射して返ってきたレーザビームは垂直偏光であり、垂直偏光が透過する方向に検光子41cを向けておくことにより、位置ずれ量検出装置41が受光するレーザビームが第2のターゲット31の反射膜35で反射して返ってきたものであると判断できる。
【0038】
図7(c)に示すように、レーザ装置2から出射されたレーザビームが第1のターゲット21の中央領域を通過し、第1のターゲット21の中央領域を通過したレーザビームが第2のターゲット31の中央領域を通過したことを、位置ずれ量検出装置41でレーザビームが受光されなくなることにより確認できたとき、電磁石Aの位置調整を終了する。このとき、第1及び第2のターゲット21,31は設計位置に配置され、電磁石Aの中心が加速粒子ビーム上に位置する。なお、第2のターゲット31の中央領域を通過したレーザビームは垂直偏光(k参照)である。
【0039】
以上のように、この実施の形態2によれば、第1のターゲット21と第2のターゲット31とを電磁石Aに所定の距離だけ離して設置し、第1及び第2のターゲット21,31のレーザビームのビーム方向の位置が設計通りであることを第1のターゲット21の距離測定によって確認した後、レーザビームが第1及び第2のターゲット21,31の中央領域を通過するように第1及び第2のターゲット21,31の位置合わせを行うことによって、第1及び第2のターゲット21,31を設計位置に配置するので、第1及び第2のターゲット21,31が設計位置に配置されたことを同時に確認することができ、1台のレーザ装置2で電磁石Aの据付作業を効率的に行うことができるという効果が得られる。
【0040】
また、この実施の形態2によれば、第1のターゲット21を位置合わせする際に第1のターゲット21上にレーザビームを集束し、第2のターゲット31を位置合わせする際に第2のターゲット31上にレーザビームを集束するので、第1及び第2のターゲット21,31の位置合わせを精度良く行なうことができるという効果が得られる。
【0041】
また、この実施の形態2によれば、第1及び第2のターゲット21,31の反射膜27,35で反射して返ってきたレーザビームを受光して、その受光位置から、第1及び第2のターゲット21,31へのレーザビームの入射位置の、第1及び第2のターゲット21,31の中央領域からの位置ずれ量を検出し、検出した位置ずれ量だけ第1及び第2のターゲット21,31を移動させることによって、第1及び第2のターゲット21,31の位置合わせを行うので、第1及び第2のターゲット21,31の位置合わせを精度良く効率的に行なうことができるという効果が得られる。
【0042】
また、この実施の形態2によれば、位置ずれ量検出装置41の受光面の前面に検光子41cを設けているので、位置ずれ量検出装置41が受光するレーザビームが第1のターゲット27で反射して返ってきたものであるか、第2のターゲット31の反射膜35で反射して返ってきたものであるかを容易に判断することができるという効果が得られる。
【0043】
実施の形態3.
図8はこの発明の実施の形態3による位置調整装置の構成の説明図である。図8はレーザ装置からレーザビームが出射されている場合と距離測定装置からレーザ光が出射されている場合の両方を同時に示している。図8において、51はレーザビーム集束位置可変機構12を遠隔制御する制御装置である。制御装置51は、レーザビーム集束位置可変機構12中のレンズ12aをX方向に移動させる駆動部51aと、駆動部51aを遠隔操作する操作部51bとを備える。
その他の構成要素は図1で同一符号を付して示したものと同一または同等であるので、その詳細な説明は省略する。
【0044】
この実施の形態では、操作部51bで駆動部51aを遠隔操作して、レンズ12aをX方向に移動させ、レーザビームの集束位置を変える。
その他の動作は実施の形態1と同様である。
【0045】
以上のように、この実施の形態3によれば、レーザビームの集束位置を遠隔制御することができるので、電磁石Aの位置調整場所からレーザビームの集束位置を変えることができ、作業員を削減して電磁石Aの位置調整作業を省力化することができるという効果が得られる。
【0046】
なお、上述した各実施の形態では、2個のターゲットを用いた場合にいて説明したが、少なくとも2個のターゲットを用いればよく、3個以上のターゲットを用いてもよい。
また、上述した各実施の形態では、位置調整機構として、2個の高さ調整器具を備えるものを用いる場合について説明したが、3個以上の高さ調整器具を備えるものを用いてもよい。
また、上述した各実施の形態では、位置調整機構5として、ターゲットのZ方向の設計位置からの位置ずれを調整可能なものを用いる場合について説明したが、X方向やY方向の設計位置からの位置ずれを調整可能なものを用いてもよい。また、上述した各実施の形態では、位置調整対象機器が電磁石である場合について説明したが、電磁石以外の他の機器にも本発明の位置調整装置を適用することができる。
【0047】
【発明の効果】
以上のように、この発明によれば、レーザビームの集束位置を変更可能なレーザビーム集束位置可変機構を有し、基準点の方向に向けてレーザビームを出射するレーザ装置と、位置調整対象機器に設置され中心にレーザビームを透過する開口部を有しかつ開口部からの距離が判読できる目盛を設けた第1のターゲットと、位置調整対象機器に第1のターゲットから所定の距離だけ離して設置された第1のターゲットと同一の材質、構造を有する第2のターゲットと、レーザ装置から出射されたレーザビームが第1のターゲットの開口部を通過し、かつ第1のターゲットの開口部を通過したレーザビームが第2のターゲットの開口部を通過するように、第1及び第2のターゲットの位置合わせが可能な位置調整機構とを備えるように位置調整装置を構成したので、レーザビームが第1及び第2のターゲットの開口部を通過するように第1及び第2のターゲットの位置合わせを行うことによって、第1及び第2のターゲットを設計位置に配置するようにすれば、第1及び第2のターゲットが設計位置に配置されたことを同時に確認することができ、1台のレーザ装置を用いて位置調整対象機器の据付作業を効率的に行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による位置調整装置の構成の説明図である。
【図2】 レーザビーム集束位置可変機構の構成の説明図である。
【図3】 第1及び第2のターゲットの平面図である。
【図4】 この発明の実施の形態1の位置調整装置による位置調整方法の説明図である。
【図5】 この発明の実施の形態2による位置調整装置の構成の説明図である。
【図6】 第1及び第2のターゲットの断面図である。
【図7】 この発明の実施の形態2の位置調整装置による位置調整方法の説明図である。
【図8】 この発明の実施の形態3による位置調整装置の構成の説明図である。
【図9】 従来の位置調整装置の構成の説明図である。
【符号の説明】
1 基準ターゲット、2 レーザ装置、3 第1のターゲット、3a 開口、3b 目盛り、4 第2のターゲット、4a 開口、4b 目盛り、5 位置調整機構、5a,5b 第1及び第2の高さ調整器具、6 距離測定装置、6a 距離測定部、6b,6c 第1及び第2のハーフミラー、11 半導体レーザ、12 レーザビーム集束位置可変機構、12a レンズ、13 三脚、14 整準台、15 回転中心位置合わせ光学系、16 回転台、17 XYZ移動台、21 第1のターゲット、22 偏光ビームスプリッタ、23 第1の1/2波長板、24 第2の1/2波長板、24a 開口、25 第1の結晶体、25a前面、25b 後面、25c 斜面、26 第2の結晶体、27 反射膜(反射部)、31 第2のターゲット、32 偏光ビームスプリッタ、33 第1の結晶体、33a 前面、33b 後面、33c 斜面、34 第2の結晶体、35 反射膜(反射部)、41 位置ずれ量検出装置、41a 位置ずれ量検出部、41b ハーフミラー、41c 検光子、51 制御装置、51a 駆動部、51b 操作部。
Claims (4)
- レーザビームの集束位置を変更可能なレーザビーム集束位置可変機構を有し、基準点の方向に向けてレーザビームを出射するレーザ装置と、
位置調整対象機器に設置され中心にレーザビームを透過する開口部を有しかつ開口部からの距離が判読できる目盛を設けた第1のターゲットと、
位置調整対象機器に上記第1のターゲットから所定の距離だけ離して設置された上記第1のターゲットと同一の材質、構造を有する第2のターゲットと、
上記レーザ装置から出射されたレーザビームが上記第1のターゲットの開口部を通過し、かつ上記第1のターゲットの開口部を通過したレーザビームが上記第2のターゲットの開口部を通過するように、上記第1及び第2のターゲットの位置合わせが可能な位置調整機構と
を備えたことを特徴とする位置調整装置。 - 第1及び第2のターゲットの各々は、開口部から外れた位置に入射したレーザビームを、その入射位置に対応する位置に反射して返す反射部を有し、
位置調整装置は、上記第1及び第2のターゲットの上記反射部で反射して返ってきたレーザビームを受光して、上記第1及び第2のターゲットへのレーザビームの入射位置の、上記第1及び第2のターゲットの上記開口部からの位置ずれ量を検出する位置ずれ量検出装置を備えたことを特徴とする請求項1記載の位置調整装置。 - 位置ずれ量検出装置は、その受光面の前面に検光子を有することを特徴とする請求項2記載の位置調整装置。
- レーザビーム集束位置可変機構を遠隔制御する制御装置を備えたことを特徴とする請求項1記載の位置調整装置。
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