JPH04120716A - 露光装置の位置決め方法と位置決め機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は露光装置に関し、特にマスクとウェハとの位置
決めを高精度に行なうための露光装置の位置決め機構に
関するものである。

〔従来の技術〕

従来、この種の位置決め機構には、本出願人による特開
斗１−１９３６８９号公報に記載されたものかある。こ
のものにおいては、位置合わせずべき部材（ウェハ、マ
スク等）に対して移動する移動台の上に検出機構を設け
、該移動台を駆動する手段であるクロスローラガイドを
直交２軸の案内機構としていた。この案内機構を駆動す
る手段は、位置検出手段であるリニアエンコーダとモー
タとが組合わされるＸＹステージにより構成されている
。

第８図（ａ）乃至第８図（ｃ）は従来より行なわれてい
る位置決め検出動作を説明するための図である。第８図
（ａ）　、　（ｂ）中にそれぞれ示されているアライメ
ント信号検出センサ８１０は上述のような移動台上に搭
載されるアライメントユニットに内蔵されるもので、マ
スク８１２およびウェハ８１４上にそれぞれ形成された
アライメントマーク８１３，８１６の位置関係が第８図
（ｃ）に示す状態の同心円状のものである場合にアライ
メントが完了したものと判断するものであり、これらの
位置関係はアライメント信号検出センサ８１０側より投
射されるアライメントビーム８０８により確認される。

第８図（ａ）　、　（ｂ）にはアライメントを行なうた
めのアライメントビーム８０８がそわぞわ異なる方向に
傾いた例が示されている。第８図（ａ）　、　（ｂ）の
いずれの状態においても、アライメント信号検出センサ
８１０上には第８図（Ｃ）に示すアライメント完了のパ
ターンが形成されるか、実際には第８図（ａ）　、　（
ｂ）にそれぞれ示したものではマスク８１２とウェハ８
１４との位置関係は異なるものであるため、この状態で
複数回の露光が行なわれると、既に露光されたパターン
とあらたに露光されるパターンとの間にずれが生じてし
まう。

上記のようなアライメントビームの傾きは、アライメン
トユニットを搭載する移動台の姿勢変化により生じるも
のである。

第９図（ａ）−、（ｂ）はアライメントビームの傾きを
説明するための図であり、第９図（ａ）にはアライメン
トビームが正常（垂直）に投光されている状態が示され
、第９図（ｂ）にはアライメントビームが傾いて投光さ
れている状態が示されている。図においては、姿勢変化
のうちＸ軸まわりの回転量ω８について示している。図
中、９０１は移動台であるＸＹステージ、９０３はＸＹ
ステージ９０１を支持する基台、９０８はアライメント
ユニット９１１内に埋設されたレーザダイオード９０９
より出射されるアライメントビーム、９１３．９１６は
マスク９１２．ウェハ９１４にそれぞれ設けられたアラ
イメントマークである。

アライメントユニット９１１内には、この他に第８図（
ａ）　、　（ｂ）に示したようなアライメント信号検出
センサ（不図示）がアライメントビーム９０Ｂの反射光
を受光する位置に設けられている。

以下の説明では、簡単化するためにアライメントビーム
９０８が垂直に投光されるものとして説明する。

第９図（ａ）に示した状態からＸＹステージ９０１の移
動に伴なって第９図（ｂ）に示すようにアライメントユ
ニット９１１が角度θ傾くと、アライメントユニット９
１１より投光されるアライメントビーム９０８も角度θ
傾くこととなる。

この場合、角度θを２０″、レーザダイオード９０９と
アライメントマーク９１３との間隔Ｇを５０ｍｍ、各ア
ライメントマーク９１３．９１６の間隔ｇを５０μｍと
すると、アライメントユニット９１１は所定の位置にあ
るにも関らず、マスク９１２上におけるアライメントビ
ーム９０８のビームスポットは図面左方向に５μｍずれ
ることになり、マスク９１２とウェハ９１４には０．０
０５μｍの位置ずれか生してしまう。

しかしながら従来、このようなアライメントユニットの
姿勢変化を検出する機構は特に設けられていなかった。

〔発明が解決しようとする課題〕

ト述した従来の露光装置の位置決め機構には、アライメ
ントユニットの姿勢変化を検出する機構が設けられてい
ないため、アライメントユニットか傾いた場合にはこれ
を検出することができず、傾いたアライメントビームに
よって位置決めか行なわわてしまう。このアライメント
ビームの傾く方向は一定のものではないために、多重露
光されるウェハ上のパターンにずれが生じてしまい、該
ウニハートに焼付けられるパターン線幅の劣化や、該ウ
ェハを用いて製造されるＩＣ等の性能か低下してしまう
という問題点かある。

本発明は上記従来技術か有する問題点に鑑みてなされた
ものであって、アライメントユニットの姿勢変化を検出
することかでき、また、姿勢変化か生じた場合にはこｔ
を補正することのてきる露光装置の位置決め機構を実現
することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の露光装置の位置決め方法は、 マスクとウェハとの位置決めをアライメントユニットよ
り投光されるアライメントビームを用いて行なう露光装
置の位置決め機構において、前記アライメントユニット
・の露光装置に対する姿勢変化量を計測するアライメン
トユニット計測手段を有し、 前記アライメントユニット計測手段にて３”ｌ？ｌｌ’
ｌされた姿勢変化量に基づいて前記マスクとウェハとの
位置決めを行う。

この場合、 アライメントユニットの姿勢を調節する姿勢調節手段を
設け、 アライメントユニット計測手段にて計測されたＳ勢変化
量により前記アライメントユニットの姿勢を前記姿勢調
節手段にて補正した後にマスクとウェハとの位置決めを
行なうものとしてもよい。

また、この方法による位置決め機構として、アライメン
トユニット計測手段をオートコリメータやレーザ測距装
置にて構成し、姿勢調節手段として補正ステージをアラ
イメントユニットの下部に設け、これらの動作を制御す
る制御装置を設けてもよい。

〔作用〕

アライメントユニットの姿勢変化量がアライメントユニ
ット計測手段により計測され、該姿勢変化量に基づいて
マスクとウェハとの位置決めが行なわれるので、複数枚
のマスクを使用する場合においても、その都度上記の位
置決めを縁返し行なうことにより、アライメントユニッ
トより投光されるアライメントビームとマスクおよびウ
ェハとの位置関係を常に一定のものとすることかできる
。

姿勢調節手段を設けた場合には、アライメントユニット
計測手段にて計測された姿勢変化量によりアライメント
ユニットの姿勢か補正されるので、アライメントユニッ
トより投光されるアライメントビームの位置を常に一定
のものとすることができる。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について図面を姦照して説明する
。

第１図は本発明の第１の実施例の要部構成を示す斜視図
である。

図中、１０１はＸ方向に移動自在な可動ガイド、１０２
は基台１０３上に固設された同定ガイドであり、可動ガ
イド１０１と固定ガイド１０２によってＸ軸方向のクロ
スローラガイドが構成されている。Ｙ軸方向のクロスロ
ーラガイドは、可動ガイド１０５と固定ガイド１０６に
より構成されて可動ガイド１０１上に設けられており、
これらのＸ軸方向、Ｙ軸方向の各クロスローラガイドに
よりＸ−Ｙステージか構成されている。なお、各可動ガ
イド１０１，１０５を駆動するためのモータおよび該モ
ータによる移動量を検出するためのリニアエンコーダは
図示省略されている。アライメントユニット１１１は可
動ガイド１０５上に設けられてＸ−Ｙ方向に移動するも
ので、その内部にはアライメントビーム１０８を出射す
るレーザダイオード１０９、アライメントビーム１０８
の反射光を受光するアライメント信号検出センサ１１０
およびアライメントビーム１０８の投光、受光を行なう
ためのアライメント光学系（不図示）か設けられている
。

本実施例においてアライメントがなされるマスク１１２
とウェハ１１４には、位置合わせを行なうためのアライ
メントマーク１１３，１１６がそれぞれ設けられ、マス
ク１１２にはこのほかにウェハ１１４に焼付けるマスク
パターン１１５が設けられている。このうちの下方に配
置されるウェハ１１４は、ウェハステージ１１８上に設
けられたウェハチャック１１７に吸着され、ウェハステ
ージ１１８の移動に伴なってＸ−Ｙ方向に移動する。ウ
ェハ１１４の北方に配置されるマスク１１２は、不図示
のマスクホルタ゛によってウェハ１１４との間隔が一定
となるように保持されている。

アライメントユニット１１１には、Ｘ軸に対して垂直な
面であるＸ方向反射部１２１とＹ軸に対して垂直な面で
あるＹ方向反射部１２２が設けられている。２個のオー
トコリメータ１２３゜１２４のそれぞれは、Ｘ方向反射
部１２１．Ｙ方向反射部１２２に対向して配置され、ア
ライメントユニット１１１の姿勢変化を検出するもので
、オートコリメータ１２３においては、第１図中に示さ
れるｙ軸まわりの回転量ω、とＺ軸まわりの回転量゛ω
２とが検出され、オートコリメータ１２４においてはＸ
軸まわりの回転量ω８が検出される。上記の各オートコ
リメータ１２３゜１２４はマスクホルタと一体化され、
露光装置に固設された不図示のコリメータベース上に設
けられている。このため、各オートコリメータ１２３．
１２４にて検出されるアライメントユニット１１１の姿
勢変化（回転量）は露光装置に対するものとなる。

Ｌ記のように、本実施例においては各オートコリメータ
１２３．１２４およびＸ方向反射部１２１、Ｙ方向反射
部１２２によりアライメントユニット計測手段が構成さ
れている。

アライメントビームの傾きに起因するずれ量には、９図
に示す如くビームスポットかずれる「ビームスポットず
わ」とマスクとウェハの位置がずれる「マスク／ウェハ
ずれ」かある。ビームスポットずれは、アライメントビ
ームの傾きのみならずピッークアップ移動量の誤差によ
っても発生する。本発明では特に［マスク／ウェハずれ
１に着目している。

本実施例の説明においても簡単のために第９図に示した
従来例と同様にアライメントビーム１０８は垂直に投光
されるものとして説明する。

アライメントユニット１１１が傾き、アライメントビー
ム１０８か傾いて投光されると回転９ω８．ωッに起因
するずれ量は第９図に示した従来例と同様のものとなり
、回転量ω２に起因するビームスポットのずれ１−は「
姿勢変化（ω２）の回転中心からレーザダイオード１０
９までの距離」×「回転量ωｔＪとなる。アライメント
ビーム１０８か垂直に対して所定の角度φをもって投光
されている場合には、回転量ω２によって「マスク１１
２とウェハ１１４との間隔ｇ×ω２×ｔａｎφ」のマス
ク／ウェハずれか生じる。

本実施例における各ステージの駆動、アライメントユニ
ット１１１の姿勢変化の検出およびアライメント動作等
の各制御は不図示の制御装置により行なわれるものであ
る。

第２図は上記制御装置のアライメント時の制御動作を示
すフローチャートである。

アライメント動作を行なう旨の指示入力がなざれると、
制御装置はアライメントユニット１１１を移動させる（
ステップＳｌ）。次にアライメントユニット１１１かア
ライメントを行なうマスク１１２、ウェハ１１４にそれ
ぞれ設けられたアライメントマーク１１３，１１６を検
出する所定位置まで移動したことを確認した後に（ステ
ップＳ２）、各オートコリメータ１２３．１２４の出力
からアライメントユニット１１１の各回転量ω８．ω９
．ω２を検出し、姿勢変化を検出する。このとき、各回
転量ω８．ω２．ω２の検出イ直からマスク１１２とウ
ェハ１１４とのずれ量Ｄ１を補正データとして算出する
（ステップＳ３）。次に、第８図に示した従来例と同様
のアライメント計測を行ない、アライメントデータＤ２
を検出する（ステップＳ４）。続いて、補正データＤ、
とアライメントデータＤ２とを加算したウェハステージ
１１８の移動量りを算出しくステップＳ５）、該移動量
り分だけウェハステージ１１８を駆動する（ステップＳ
６）。この状態においてマスク１１２とウェハ１１４と
の位置関係が露光を行なう際のトレランス内のものであ
るかをアライメント信号検出センサ１１０の受光状態に
より判定し、トレランス内である場合には終了し、トレ
ランス内てない場合にはアライメントユニット１１１の
姿勢計測以下の動作を緑返す（ステップＳ７）。

以上説明したように本実施例においては、アライメント
ユニット１１１の姿勢変化量に応してウェハ１１４を移
動させるため、アライメントかなされるときのマスク１
１２とウェハ１１４との位置関係は常に同様のものとな
る。

第３図は本発明の第２の実施例の要部構成を示す斜視図
、第４図は本実施例の制御動作？示す図である。

本実施例は、アライメントユニット１１１に傾きが生じ
たときに、これを補正するための姿勢調節手段である補
正ステージ３０３を設けたものである。第３図中、Ｘ−
Ｙステージ３０１は、第１図中の各可動カイト１０１．
１０５および各同定ガイド１０２，１０６により構成さ
れるものを不している。Ｘ−Ｙステージ３０１は３点支
持により上下動を行なう３個のチルトねし３０２を介し
て補正ステージ３０３に支持される。該補正ステージ３
０３は、補正ステーシヘース３０５）に設けられており
、同様に補正ステージベース３０５上に設けられた伸縮
自在の２個のピエゾ素子３０４に押圧されることにより
、回転軸３０６を中心として回動可能とされている。こ
の他の構成（オートコリメータ、マスク、ウェハステー
ジ等）は第１図に示したものと同様であるため、図示お
よび説明は省略する。

上記のような構成とすることにより、アライメントユニ
ット１１１に傾きが生じたときに、その回転量ω８．ω
、に関しては各チルトねじ３０２によって補正を行なう
ことができ、回転量ω２に関しては各ピエゾ素子３０４
によって補正を行なうことができる。

次に、本実施例の動作について第４図を参照して説明す
る。

制御装置は、アライメント動作が開始となると、第１の
実施例と同様にアライメントユニット１１１を所定の位
置まで移動させ（ステップＳ８．Ｓ９）、この状態でア
ライメントユニット１１１の姿勢変化量Ｄ　＋　’を補
正データとして算出する（ステップ５１０）。続いて、
各チルトねし３０２、各ピエゾ素子３０４によって補正
ステージ３０３を駆動し、アライメントユニット１１１
の傾きを補止する（ステップ５１１）。このときの駆動
手順としては、まず各ピエゾ素子３０４によって回転量
ω２を補正し、次に、各チルトねじ３０２によって回転
量ω８．ωアをそれぞれ補正する。該補正の終了後、ア
ライメントユニット１１１の姿勢判定を再度行ない、ア
ライメントユニット１１１の姿勢がトレランス内のもの
かを確認する（ステップ５１２）。このとき、アライメ
ントユニット１１１の姿勢かトレランス外のものであれ
ば補正データＤ′の算出およびこれによる補正ステージ
３０３の駆動を繰返し行なう。上記の各手順により、ア
ライメントユニット１１１の姿勢が補正されると、続い
てアライメント計測を行ない、アライメントデータＤ２
を検出しくステップ５１３）、該アライメントデータＤ
２によりウェハステージ１１８（第１図参照）を駆動す
る（ステップ５１４）。次に、現在の位置関係が露光を
行なう際のトレランス内のものであるかを確認しくステ
ップ５１５）、トレランス内てあれば終了とし、トレラ
ンス外であればアライメント計測およびこれによるウェ
ハステージ１１８の駆動を繰返し行なう。

本実施例においてはアライメントユニット１１１の傾き
が補正され、アライメントユニットより照射されるアラ
イメントビーム１０８（第１図参照）が常に一定となる
ので、位置決め積度がさらに向上する。

第５図は本発明の第３の実施例の要部構成を示す斜視図
である。

第１および第２の実施例においてはアライメントユニッ
ト計測手段として２個のオートコリメータを用いてアラ
イメントユニット１１１の姿勢変化を検出していたのに
対し、本実施例においては１個のオートコリメータによ
りアライメントユニット１１１の姿勢変化を検出するも
のである。

第５図にはアライメントユニット１１１の姿勢変化検出
に必要な部分のみが示され、この他の部分は省略されて
いる。

図中、５０１はオートコリメータ、５０２はオートコツ
メータ５０１より出射される光束を２方向に分岐するた
めのハーフミラ−１５０３゜５０４はハーフミラ−５０
２により分岐された各光束をＸ方向反射部１２１．Ｙ方
向反射孔１２２にそれぞれ反射させるためのミラー、５
０６゜５０７はハーフミラ−５０２とミラー５０３およ
びハーフミラ−５０２とミラー５０４の間の光路上にそ
れぞれ設けられたシャッタである。

これらのオートコリメータ５０１、ハーフミラ−５０２
、各ミラー５０３，５０４および各シャッタ５０６，５
０７は固定ガイド１０２と同様にコリメータベース５０
５上に固設され、アライメントユニット１１１の姿勢計
測を行なうための光束の光路は一定に保たれる。

本実施例におけるアライメント動作の制御は第１の実施
例と同様のものであるか、アライメントユニット１１１
の姿勢変化を検出する際、一方の反射部（例えばＸ方向
反射部１２１）による反射光を用いて回転量（ωア、ω
２）を検出する場合には他方の反射部（Ｙ方向反射孔１
２２）による反射光が干渉しないように各シャッタ５０
６゜５０７の開閉状態の制御を行なう。第５図はＹ方向
反射孔１２２による反射光により回転量ω８を検出する
状態を示す図であり、シャッタ５０６が閉じられ、シャ
ッタ５０７が開けられている。

第６図（ａ）は本発明の第４の実施例の要部構成を示す
斜視図であり、第６図（ｂ）は第４の実施例の動作原理
を説明するための図である。

本実施例はアライメントユニット１１１の姿勢変化を検
出するアライメントユニット計測手段として５個のセー
ザ測距装置６０１〜６０５を用いて検出するもので、第
６図には上記姿勢変化の検出に必要な部分のみが示され
ている。

レーザ測距装置６０１，６０２はアライメントユニット
１１１のＹ方向反射孔１２２に対向して設けられ、レー
ザ測距装置６０３〜６０５はアライメントユニット１１
１のＸ方向反射部１２１に対向して設けられている。各
レーザ測距装置６０１〜６０５はマスクホルダ（不図示
）とともにベース（不図示）」二に固設され、アライメ
ントユニット１１１の各回転量ω。、ωア、ω２がいず
れも０の場合には等しい距離を検出するように配置され
ている。本実施例においては各レーザ測距装置６０１．
６０２の各検出結果により回転量ω８が、各レーザ測距
装置６０３，６０５の各検出結果により回転量ωッが検
出され、各レーザ測距装置６０４，６０５の各検出結果
により回転量ω２が検出される。

本実施例の各回転量の検出原理について、第６図（ｂ）
を参照して説明する。

第６図（ｂ）は、各レーザ測距装置６０１゜６０２によ
り回転量ω８を検出する状態を示す図である。レーザ測
距装置６０１により検出されたＹ方向反射孔１２２まで
の距離ｊ２２と、レーザ測距装置６０２により検出され
たＹ方向反射部１２２までの距１１１１との差をΔｌと
し、各レーザ測距装置６０１，６０２の配置間隔をａと
するとアライメントユニット１１１の回転量ω８はｔａ
ｎωα＝Δｆｌ　／　ａ　　となる。

本実施例においてはアライメントユニット１１１の各回
転量ω８．ωア、ω２のみならす、アライメントユニッ
ト１１１の絶対位置が検出されるため、以下の利点があ
る。

アライメントユニット１１１は各可動ガイド１０１．１
０５（第１図参照）ニヨリ、Ｘ−Ｙ方向に駆動されるか
、該駆動量は内蔵するリニアエンコーダによって検出さ
れるため、送りねじのピッチ等に誤差がある場合には、
実際の駆動量と所望する駆動量とに誤差が生じてしまい
、アライメントユニット１１１はアライメントを行なう
べき所定の位置とは異なる位置に送られてしまう。

方、アライメントを行うためのアライメントビーム１０
８（第１図参照）のビームスポットはマスクおよびウェ
ハにそれぞれ設けられるアライメントマークよりも大き
なものである。このため、アライメントユニット１１１
の駆動量に誤差がある場合にも、その誤差がアライメン
トビーム１０８が各アライメントマークをはずれる程大
きなものでない限りアライメント動作が行なわれてしま
い、不正確なアライメントとなってしまう。

本実施例においてはアライメントユニット１１１の絶対
位置を検出できるので、上記のような問題が生じること
を防止することができる。

第７図は本発明の第５の実施例の要部構成を示す図であ
る。

本実施例は、アライメントユニット１１１の姿勢計測を
アライメントビーム１０８を用いて行なうものである。

本実施例のアライメントユニット１１１には、レーザダ
イオード１０９、アライメント信号検出センサ１１０の
ばかに、アライメント信号検出センサ１１０と同様に構
成された姿勢検出センサ７０１が埋設されている。また
、レーザダイオード１０９より出射されるアライメント
ビーム１０８の光路−Ｆにマスクホルダ７０５と一体化
されたハーフミラ−７０２か設けられている。ハーフミ
ラ−７０２で反射されたアライメントビーム１０８の反
射光７０３か姿勢検圧センサ７０１に入射されることに
よりマスクホルダ７０５に対するアライメントユニット
１１１の姿勢変化が検出され、ハーフミラ−７０２を透
過したアライメントビーム１０８の透過光７０４が不図
示のマスク１１２に設けられたアライメントマーク１１
３（第１図参照）およびウェハ１１４に設けられたアラ
イメントマーク１１６を介してアライメント信号検出セ
ンサ１１０に入射されることによりアライメントがなさ
れる。

上記のように本実施例においてはレーザダイオード１０
９、姿勢検出センサ７０１およびハーフミラ−７０２に
よりアライメントユニット計測手段が構成されている。

本実施例においては、上記のようにマスクホルダ７０５
に対するアライメントユニット１１１の姿勢変化を行な
えるとともに、投光部、受光部、マスクの位置関係およ
び反射角度からこれらの距離を検出することができる。

本実施例においては、ハーフミラ−７０２はマスクホル
ダ７０５と一体化されたものとして説明したか、ハーフ
ミラ−に可動部を設けてアライメント時には退避する構
造としてもよく、また、ハーフミラ−の代わりに、電気
的に透過状態を制御することのできる液晶等の薄膜素子
を用いてもよい。

〔発明の効果〕

本発明は以ト説明したように構成されているので、以下
に記載するような効果を奏する。

請求項１に記載にした方法においては、アライメントユ
ニットより投光されるアライメントビームとマスクおよ
びウェハとの位置関係が常に一定のものとなるので、マ
スクとウェハとの位置決め精度を向上することができ、
製造されるＩＣ等の性能を安定化することかできる効果
がある。

請求項２に記載した方法においては、アライメントユニ
ットより投光されるアライメントビームの位置が常に一
定となるので、アライメントによる位置決め粒度か向上
し、上記各効果がさらに向トしたものとなる。

請求項３乃至請求項５にそれぞれ記載したものにおいて
は−Ｆ記各効果を備えた位置決め機構を実現することが
できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例の要部構成を示す斜視図
、第２図は本発明の第１の実施例の制御動作を示すフロ
ーチャート、第３図は本発明の第２の実施例の要部構成
を示す斜視図、第４図は本発明の第２の実施例の制御動
作を示すフローチャート、第５図は本発明の第３の実施
例の要部構成を示す斜視図、第６図（ａ）は本発明の第
４の実施例の要部構成を示す斜視図、第６図（ｂ）は本
発明の第４の実施例の動作原理を説明するための図、第
７図は本発明の第５の実施例の要部構成を示す斜視図、
第８図（ａ）乃至第８図（ｃ）のそれそわば従来例によ
るマスクとウェハとのアライメント状態を示す図、第９
図（ａ）、第９図（ｂ）のそれぞれは、従来例における
アライメントユニットの傾きを説明するための図である
。 １０１．１０５−・・可動ガイド、 １０２．１０６・・・固定ガイド、 １０３・・・基台、 １０８・・・アライメントビーム、 １０９−・・レーザダイオード、 １１０−・・アラ、イメント信号検出センサ、１１１−
・・アライメントユニット、 １１２−・・マスク、 １１３．１１６−・・アライメントマーク、１１４−・
・ウェハ、 １１５−・・マスクパターン、 １１７・・・ウェハチャック、 １１８−・・ウェハステージ、 １２１−Ｘ方向反射部、 １２２・−Ｙ方向反射部、 １２３．１２４．５０１−・・オートコリメータ、３０
１−・・Ｘ−Ｙステージ、 ３０２・・・チルトねし、 ３０３−・・補正ステージ、 ３０４・・・ピエゾ素子、 ３０５・・・補正ステージベース、 ３０６−・・回転軸、 ５０２．７０２・・・ハーフミラ− ５０３，５０４・・・ミラー ５０５−・・コリメータベース、 ５０６．５０７−・・シャッタ、 ６０１〜６０５・・・レーザ測距装置、７０１・・・姿
勢検出センサ、 ７０３・・・反射光、 ７０４・・・透過光、 ７０５・・・マスクホルダ、 Ｓ１〜５１５−・・ステップ。 特許出願人　　キャノン株式会社 代　理　人　　弁理士　若株　忠

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、マスクとウェハとの位置決めをアライメントユニッ
   トより投光されるアライメントビームを用いて行なう露
   光装置の位置決め方法において、前記アライメントユニ
   ットの露光装置に対する姿勢変化量を計測するアライメ
   ントユニット計測手段を有し、 前記アライメントユニット計測手段にて計測された姿勢
   変化量に基づいて前記マスクとウェハとの位置決めを行
   うことを特徴とする露光装置の位置決め方法。 ２、請求項１記載の露光装置の位置決め方法において、 アライメントユニットの姿勢を調節する姿勢調節手段を
   有し、 アライメントユニット計測手段にて計測された姿勢変化
   量により前記アライメントユニットの姿勢を前記姿勢調
   節手段にて補正した後にマスクとウェハとの位置決めを
   行う露光装置の位置決め方法。 ３、マスクとウェハとの位置決めをアライメントユニッ
   トより投光されるアライメントビームを用いて行なう露
   光装置の位置決め機構において、前記アライメントユニ
   ットの露光装置に対する姿勢変化量を計測するアライメ
   ントユニット計測手段としてオートコリメータを備え、 前記オートコリメータにて計測された姿勢変化量に基づ
   いて前記マスクとウェハとの位置決めを行う制御装置を
   備えたことを特徴とする露光装置の位置決め機構。 ４、マスクとウェハとの位置決めをアライメントユニッ
   トより投光されるアライメントビームを用いて行なう露
   光装置の位置決め機構において、前記アライメントユニ
   ットの露光装置に対する姿勢変化量を計測するアライメ
   ントユニット計測手段としてレーザ測距装置を備え、 前記レーザ測距装置にて計測された姿勢変化量に基づい
   て前記マスクとウェハとの位置決めを行なう制御装置を
   備えたことを特徴とする露光装置の位置決め機構。 ５、請求項３または４いずれかに記載の露光装置の位置
   決め機構において、 アライメントユニットの姿勢を調節する姿勢調節手段と
   してアライメントユニットの下部に設けられる補正ステ
   ージを備え、 アライメントユニット計測手段にて計測された姿勢変化
   量により前記アライメントユニットの姿勢を前記補正ス
   テージを駆動して補正した後にマスクとウェハとの位置
   決めを行う制御装置を備えた露光装置の位置決め機構。