JP4627467B2 - 電子ビーム検出器、電子ビーム計測方法、及び電子ビーム描画装置 - Google Patents
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Description
許容値から外れていた場合には、表示装置220にエラーを示す結果を表示し、オペレーターに、測定条件などの変更を促して終了する(ステップ5)。
X=A0+A1・Bx+A2・By+A3・BxBy
Y=B0+B1・Bx+B2・By+B3・BxBy
ここで、Bx、ByはそれぞれX方向、Y方向のビームサイズを、X、Yはそれぞれ補正されたX方向、Y方向のビームサイズを、A0、A1、A2、A3、B0、B1、B2、B3は補正係数を示す。ステップ2とステップ3で得られたビームサイズのデータを用いて、最も誤差が少なくなるように、例えば、最小二乗法を用いて、係数A0、A1、A2、A3、B0、B1、B2、B3を算出する。この補正係数は、第1の計測方法と第2の計測方法の全ての測定結果を使用して算出しても良い。また、第1の計測方法と第2の計測方法でそれぞれの補正係数をもち、それぞれ算出しても良い。
Claims (15)
- 電子ビームの走査方向のマーク幅が走査方向と直交方向の長さに比べて小さいスリット形状の開口マークを備えた少なくとも1個の第1の散乱体領域と、直線状のエッジ形状をもつ開口マークを備えた少なくとも1個の第2の散乱体領域と、前記第1の散乱体領域および前記第2の散乱体領域からの電子を検出する電子検出素子とを有し、
前記第1の散乱体領域と前記第2の散乱体領域とは、計測する前記電子ビームのビームサイズに応じて切り替えて用いられるものであることを特徴とする電子ビーム検出器。 - 請求項1に記載の電子ビーム検出器において、前記第1の散乱体領域および前記第2の散乱体領域を、それぞれ複数個有し、かつ、一支持体上に配置してなることを特徴とする電子ビーム検出器。
- 請求項1又は2に記載の電子ビーム検出器において、前記スリット形状の開口マークは、計測する最小のビームサイズ以下の前記マーク幅と、計測する最大のビームサイズ以上の前記長さを有することを特徴とする電子ビーム検出器。
- 請求項3に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビームは、可変成形ビームもしくは一括図形ビームであることを特徴とする電子ビーム検出器。
- 電子ビームの走査方向のマーク幅が走査方向と直交方向の長さに比べて小さいスリット形状の開口マーク上を、前記電子ビームにより走査して、検出素子により検出される第1の信号をもとに前記電子ビームのビームサイズを計測する第1の計測工程と、前記電子ビームを直線状のエッジ形状をもつ開口マーク上を走査して、前記検出素子により検出される第2の信号をもとに前記電子ビームのビームサイズを計測する第2の計測工程とを含み、前記第1の計測工程と前記第2の計測工程とを、計測する前記電子ビームのビームサイズに応じて用いるようにしたことを特徴とする電子ビーム計測方法。
- 請求項5に記載の電子ビーム計測方法において、前記スリット形状の開口マークは、計測する最小のビームサイズ以下の前記マーク幅と、計測する最大のビームサイズ以上の前記長さを有することを特徴とする電子ビーム計測方法。
- 請求項5に記載の電子ビーム計測方法において、計測する電子ビームを前記電子検出素子に照射し、ビーム電流値を計測することにより、前記第2の計測工程でのビームサイズの補正を行う第3の計測工程を含むことを特徴とする電子ビーム計測方法。
- 請求項5に記載の電子ビーム計測方法において、前記第1の計測工程において適用するビームサイズの範囲と、前記第2の計測工程において適用するビームサイズの範囲が重複するようにしたことを特徴とする電子ビーム計測方法。
- 請求項6に記載の電子ビーム計測方法において、前記電子ビームは、可変成形ビームもしくは一括図形ビームであることを特徴とする電子ビーム計測方法。
- 電子銃から放射される電子ビームを試料上に照射し走査することにより、前記試料上に所望のパターンを形成する電子光学系と、前記電子ビームのビームサイズを計測するための電子ビーム検出器とを備えた電子ビーム描画装置において、前記電子ビーム検出器は、電子ビームの走査方向のマーク幅が走査方向と直交方向の長さに比べて小さいスリット形状の開口マークを備えた少なくとも1個の第1の散乱体領域と、直線状のエッジ形状をもつ開口マークを備えた少なくとも1個の第2の散乱体領域と、前記第1の散乱体領域上に電子ビームを走査して、散乱された電子を制限する開口部を備えた制限絞りと、前記制限絞りおよび前記第2の散乱体領域からの電子を検出する電子検出素子とを有し、
前記第1の散乱体領域と前記第2の散乱体領域とは、計測する前記電子ビームのビームサイズに応じて切り替えて用いられるものであることをすることを特徴とする電子ビーム描画装置。 - 請求項10に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビーム検出器は、電子ビームの走査方向のマーク幅が走査方向と直交方向の長さに比べて小さいスリット形状の開口マークを備えた複数の第1の散乱体領域と、直線状のエッジ形状をもつ開口マークを備えた複数の第2の散乱体領域とを有し、前記第1の散乱体領域と前記第2の散乱体領域とが一支持体上に交互に配置されていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項10又は11に記載の電子ビーム描画装置において、前記スリット形状の電子ビーム検出器の前記開口マークは、計測する最小のビームサイズ以下の前記マーク幅と、計測する最大のビームサイズ以上の前記長さを有することを特徴とする電子ビーム計測方法。
- 請求項10又は11に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビーム検出器から得られたビームサイズ計測値に関する信号を基に、前記電子光学系を調整する補正データを作成し、前記補正データにより前記試料上でのパターン描画にフィードバックする手段を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項10又は11に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビーム検出器から得られたビームサイズ計測値に関する信号を基に設定ビームサイズを校正する手段を有し、描画するパターンデータに応じて前記校正されたビームサイズを用いて描画を行うことを特徴とする電子ビーム描画装置。
- 請求項12に記載の電子ビーム描画装置において、前記電子ビームは、可変成形ビームもしくは一括図形ビームであることを特徴とする電子ビーム描画装置。
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---|---|---|---|---|
JPS56107185A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-25 | Jeol Ltd | Beam measurement |
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JP2004355884A (ja) * | 2003-05-28 | 2004-12-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子ビーム検出器及びその製造方法、並びにそれを用いた電子ビーム描画装置 |
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JPS56107185A (en) * | 1980-01-31 | 1981-08-25 | Jeol Ltd | Beam measurement |
JPH11149893A (ja) * | 1997-11-18 | 1999-06-02 | Sony Corp | 電子ビーム描画装置および描画方法並びに半導体装置 |
JP2004045068A (ja) * | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Japan Atom Energy Res Inst | 微少ビーム径を評価する方法 |
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