JP2013079191A - TiO2を含有するシリカガラスおよびEUVリソグラフィ用光学部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】TiO2濃度が1〜12質量%のシリカガラスであり、かつ、TiO2濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.06質量%以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
【選択図】なし
Description
ガラス形成原料であるSi前駆体およびTi前駆体を火炎加水分解させて得られるTiO2−SiO2ガラス微粒子を、ある一定の速度で、軸を中心として回転する石英ガラス製の種棒(例えば特公昭63−24937号公報記載の種棒)を基材として用い、この基材に堆積、成長させて多孔質TiO2−SiO2ガラス体を形成させる。ガラス形成原料としては、ガス化可能な原料であれば特に限定されないが、Si前駆体としては、SiCl4、SiHCl3、SiH2Cl2、SiH3Clなどの塩化物、SiF4、SiHF3、SiH2F2などのフッ化物、SiBr4、SiHBr3などの臭化物、SiI4などのヨウ化物といったハロゲン化ケイ素化合物、またRnSi(OR)4−n(ここにRは炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜3の整数)で示されるアルコキシシランが挙げられ、またTi前駆体としては、TiCl4、TiBr4などのハロゲン化チタン化合物、またRnTi(OR)4−n(ここにRは炭素数1〜4のアルキル基、nは0〜3の整数)で示されるアルコキシチタンが挙げられる。また、Si前駆体およびTi前駆体として、シリコンチタンダブルアルコキシドなどのSiとTiの化合物を使用することもできる。また前記基材としては棒状に限らず板状の基材を使用してもよい。
多孔質TiO2−SiO2ガラス体を透明ガラス化温度まで昇温して透明ガラス化し、透明TiO2−SiO2ガラス体を得る。本明細書では、透明ガラス化とは、光学顕微鏡で空隙が確認できなくなるまで多孔質ガラス体が緻密化した状態をいい、透明ガラス化温度とは、光学顕微鏡で空隙が確認できなくなるまで多孔質ガラス体を緻密化できる温度をいう。透明ガラス化温度は、通常は1400〜1700℃であり、特に1450〜1650℃であることが好ましい。雰囲気としては、ヘリウムなどの不活性ガス100%の雰囲気、またはヘリウムなどの不活性ガスを主成分とする雰囲気であることが好ましい。圧力については、減圧または常圧であればよい。特に常圧の場合はヘリウムガスを用いることができる。また、減圧の場合は13000Pa以下が好ましい。なお、本明細書における「Pa」は、ゲージ圧ではなく絶対圧の意である。
工程(b)で得られた透明TiO2−SiO2ガラス体を軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、成形TiO2−SiO2ガラス体を得る。成形加工の温度としては、1500〜1800℃が好ましい。1500℃以下では、TiO2−SiO2ガラスの粘度が高いため、実質的に自重変形が行われず、またSiO2の結晶相であるクリストバライトの成長またはTiO2の結晶相であるルチルもしくはアナターゼの成長が起こり、いわゆる失透が生じる。1800℃以上では、SiO2の昇華が無視できなくなる。
(c)工程で得られた成形TiO2−SiO2ガラス体を、600〜1200℃の温度にて5時間以上保持した後、10℃/hr以下の降温速度で500℃以下まで降温するアニール処理を行い、TiO2−SiO2ガラスの仮焼温度を制御する。500℃以下まで降温した後は放冷できる。この場合の雰囲気は、ヘリウム、アルゴン、窒素などの不活性ガス100%の雰囲気下、これらの不活性ガスを主成分とする雰囲気下、または空気雰囲気下で、圧力は減圧または常圧が好ましい。
TiO2−SiO2ガラスのガラス形成原料であるTiCl4とSiCl4を、それぞれガス化させた後に混合させ、酸水素炎中で加熱加水分解(火炎加水分解)させることで得られるTiO2−SiO2ガラス微粒子を、25回転/分の速度で回転する石英ガラス製の種棒に堆積・成長させて、直径約80mm、長さ約100mmの多孔質TiO2−SiO2ガラス体を形成した(工程(a))。
例1における工程(a)において、TiO2−SiO2ガラス微粒子を100回転/分の速度で回転する石英ガラス製の種棒に堆積・成長させた。これ以外は例1と全く同様の方法により、TiO2−SiO2ガラスを得た。
例1における工程(a)において、TiO2−SiO2ガラス微粒子を250回転/分の速度で回転する石英ガラス製の種棒に堆積・成長させた。これ以外は例1と全く同様の方法により、TiO2−SiO2ガラスを得た。
例1における工程(a)において、TiO2−SiO2ガラス微粒子を5回転/分の速度で回転する石英ガラス製の種棒に堆積・成長させた。これ以外は例1と全く同様の方法により、TiO2−SiO2ガラスを得た。
TiO2−SiO2ガラスのガラス形成原料であるTiCl4とSiCl4を、それぞれガス化させた後に混合させ、酸水素炎中で加熱加水分解(火炎加水分解)させることで得られるTiO2−SiO2ガラス微粒子を、25回転/分の速度で回転する石英ガラス製の種棒に堆積・成長させて、直径30cm、長さ80cmの多孔質TiO2−SiO2ガラス体を形成した(工程(a))。得られた多孔質TiO2−SiO2ガラス体をHe100%雰囲気下で1430℃まで昇温し、この温度で2時間保持して、透明ガラス体を得た(工程(b))。さらに大気雰囲気で、軟化点以上の1680℃に加熱して自重変形を行わせ、160mm×160mm×150mmのブロック形状に成形した(工程(c))。その後、厚さ7mmのブロックにスライスして得られた160mm×160mm×7mmのブロックを電気炉内に設置し、950℃にて100時間保持した後、500℃まで5℃/hrで降温し、その後室温まで放冷し(工程(d))、TiO2−SiO2ガラスを得た。
Claims (5)
- TiO2濃度が1〜12質量%のシリカガラスであり、かつ、TiO2濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.06質量%以下であることを特徴とするTiO2を含有するシリカガラス。
- TiO2濃度の最大値と最小値との差が、直交する二つの面内における30mm×30mmの範囲でそれぞれ0.06質量%以下である請求項1に記載のTiO2を含有するシリカガラス。
- TiO2濃度が1〜12質量%のTiO2を含有するシリカガラスからなり、光の入射方向に垂直な面内における30mm×30mmの範囲において、TiO2濃度の最大値と最小値との差が、0.06質量%以下であることを特徴とするEUVリソグラフィ用光学部材。
- 光の入射方向に垂直な面において、0.06質量%を超えるTiO2濃度の最大値と最小値との差を生じさせる脈理が存在しない請求項3に記載のEUVリソグラフィ用光学部材。
- 請求項1または2に記載のTiO2を含有するシリカガラスを用いたEUVリソグラフィ用光学部材。
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2013084978A1 (ja) * | 2011-12-09 | 2013-06-13 | 信越石英株式会社 | チタニア-シリカガラス製euvリソグラフィ用フォトマスク基板 |
CN111003934A (zh) * | 2019-12-31 | 2020-04-14 | 成都光明光电有限责任公司 | 光通讯用基板玻璃及玻璃预制件、光学元件和光学仪器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6476933A (en) * | 1986-10-16 | 1989-03-23 | Seiko Epson Corp | Doped quartz glass and its production |
WO2002088036A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Corning Incorporated | Method for producing titania-doped fused silica extreme ultraviolet lithography substrates glass |
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---|---|---|---|---|
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US6776006B2 (en) * | 2000-10-13 | 2004-08-17 | Corning Incorporated | Method to avoid striae in EUV lithography mirrors |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6476933A (en) * | 1986-10-16 | 1989-03-23 | Seiko Epson Corp | Doped quartz glass and its production |
JP2003505891A (ja) * | 1999-07-22 | 2003-02-12 | コーニング インコーポレイテッド | 遠紫外軟x線投影リソグラフィー法およびマスク装置 |
WO2002088036A1 (en) * | 2001-04-27 | 2002-11-07 | Corning Incorporated | Method for producing titania-doped fused silica extreme ultraviolet lithography substrates glass |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015067595A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | ユニ・チャーム株式会社 | 皮膚洗浄組成物を調製するためのキット、皮膚洗浄組成物、及び皮膚洗浄組成物の調製方法 |
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