JP2013077748A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013077748A5
JP2013077748A5 JP2011217552A JP2011217552A JP2013077748A5 JP 2013077748 A5 JP2013077748 A5 JP 2013077748A5 JP 2011217552 A JP2011217552 A JP 2011217552A JP 2011217552 A JP2011217552 A JP 2011217552A JP 2013077748 A5 JP2013077748 A5 JP 2013077748A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
resist composition
polymerizable compound
nanoimprint method
polymerization initiator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011217552A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5806903B2 (ja
JP2013077748A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from JP2011217552A external-priority patent/JP5806903B2/ja
Priority to JP2011217552A priority Critical patent/JP5806903B2/ja
Priority to CN201280048225.3A priority patent/CN103843113B/zh
Priority to TW101135699A priority patent/TWI553408B/zh
Priority to PCT/JP2012/075872 priority patent/WO2013047905A1/en
Priority to KR1020147011629A priority patent/KR102006177B1/ko
Publication of JP2013077748A publication Critical patent/JP2013077748A/ja
Publication of JP2013077748A5 publication Critical patent/JP2013077748A5/ja
Priority to US14/229,410 priority patent/US20140210140A1/en
Publication of JP5806903B2 publication Critical patent/JP5806903B2/ja
Application granted granted Critical
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2011217552A 2011-09-30 2011-09-30 ナノインプリント方法およびそれに用いられるレジスト組成物 Active JP5806903B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011217552A JP5806903B2 (ja) 2011-09-30 2011-09-30 ナノインプリント方法およびそれに用いられるレジスト組成物
KR1020147011629A KR102006177B1 (ko) 2011-09-30 2012-09-28 나노임프린팅 방법 및 그 나노임프린팅 방법에 사용되는 레지스트 조성물
TW101135699A TWI553408B (zh) 2011-09-30 2012-09-28 奈米壓印方法以及用於該奈米壓印方法的抗蝕劑組成物
PCT/JP2012/075872 WO2013047905A1 (en) 2011-09-30 2012-09-28 Nanoimprinting method and resist composition employed in the nanoimprinting method
CN201280048225.3A CN103843113B (zh) 2011-09-30 2012-09-28 纳米压印方法和在纳米压印方法中采用的抗蚀剂组合物
US14/229,410 US20140210140A1 (en) 2011-09-30 2014-03-28 Nanoimprinting method and resist composition employed in the nanoimprinting method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011217552A JP5806903B2 (ja) 2011-09-30 2011-09-30 ナノインプリント方法およびそれに用いられるレジスト組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013077748A JP2013077748A (ja) 2013-04-25
JP2013077748A5 true JP2013077748A5 (enExample) 2014-03-06
JP5806903B2 JP5806903B2 (ja) 2015-11-10

Family

ID=47995918

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011217552A Active JP5806903B2 (ja) 2011-09-30 2011-09-30 ナノインプリント方法およびそれに用いられるレジスト組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20140210140A1 (enExample)
JP (1) JP5806903B2 (enExample)
KR (1) KR102006177B1 (enExample)
CN (1) CN103843113B (enExample)
TW (1) TWI553408B (enExample)
WO (1) WO2013047905A1 (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5767615B2 (ja) * 2011-10-07 2015-08-19 富士フイルム株式会社 インプリント用下層膜組成物およびこれを用いたパターン形成方法
KR101757573B1 (ko) 2013-06-06 2017-07-12 디아이씨 가부시끼가이샤 임프린트용 경화성 조성물
JP6324363B2 (ja) * 2014-12-19 2018-05-16 キヤノン株式会社 インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP6869838B2 (ja) * 2017-07-14 2021-05-12 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法
WO2019065526A1 (ja) * 2017-09-26 2019-04-04 富士フイルム株式会社 インプリント用下層膜形成用組成物、キット、インプリント用硬化性組成物、積層体、積層体の製造方法、硬化物パターンの製造方法および回路基板の製造方法
JPWO2020162183A1 (ja) * 2019-02-07 2021-10-21 三井化学株式会社 下層膜形成用材料、レジスト下層膜および積層体
JP2020152800A (ja) * 2019-03-20 2020-09-24 株式会社リコー 硬化型組成物、印刷物、粘着ラベル、収容容器、２次元又は３次元の像の形成方法及び形成装置、硬化物、構造体、並びに成形加工品
WO2022086531A1 (en) * 2020-10-22 2022-04-28 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition
US11597781B2 (en) 2020-12-29 2023-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition for making layers with high etch resistance
JP7646447B2 (ja) 2021-05-13 2025-03-17 キヤノン株式会社 基板処理装置、基板処理方法、及び物品の製造方法
WO2024024687A1 (ja) * 2022-07-26 2024-02-01 デンカ株式会社 光硬化性組成物、光硬化性組成物の硬化物及び発光表示装置

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5772905A (en) * 1995-11-15 1998-06-30 Regents Of The University Of Minnesota Nanoimprint lithography
US8076386B2 (en) * 2004-02-23 2011-12-13 Molecular Imprints, Inc. Materials for imprint lithography
US20060128853A1 (en) * 2004-12-13 2006-06-15 General Electric Company Compositions for articles comprising replicated microstructures
JP4929722B2 (ja) * 2006-01-12 2012-05-09 日立化成工業株式会社 光硬化型ナノプリント用レジスト材及びパターン形成法
JP5196933B2 (ja) * 2006-09-27 2013-05-15 富士フイルム株式会社 光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物およびそれを用いたパターン形成方法
JP5309436B2 (ja) * 2006-10-16 2013-10-09 日立化成株式会社 樹脂製微細構造物、その製造方法及び重合性樹脂組成物
JP5243887B2 (ja) * 2008-02-12 2013-07-24 富士フイルム株式会社 ナノインプリント用硬化性組成物およびパターン形成方法
JPWO2009110596A1 (ja) * 2008-03-07 2011-07-14 昭和電工株式会社 Ｕｖナノインプリント方法、樹脂製レプリカモールド及びその製造方法、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記録再生装置
JP5611519B2 (ja) * 2008-10-29 2014-10-22 富士フイルム株式会社 ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法
JP2010186979A (ja) * 2008-12-03 2010-08-26 Fujifilm Corp インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
US8999221B2 (en) * 2008-12-03 2015-04-07 Fujifilm Corporation Curable composition for imprints, patterning method and pattern
JP5518538B2 (ja) * 2009-03-26 2014-06-11 富士フイルム株式会社 レジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体
WO2010132552A1 (en) * 2009-05-12 2010-11-18 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Printed assemblies of ultrathin, microscale inorganic light emitting diodes for deformable and semitransparent displays
KR101560249B1 (ko) * 2009-06-19 2015-10-14 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 저유전율 임프린트 재료
JP5306102B2 (ja) * 2009-08-04 2013-10-02 株式会社東芝 パターン形成方法及び半導体装置の製造方法
JP5564383B2 (ja) * 2009-09-30 2014-07-30 富士フイルム株式会社 インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン
ES2386104T3 (es) * 2009-10-02 2012-08-09 Agfa Graphics N.V. Composiciones de tinta de inyección por UV para cabezales de impresión de alta densidad
JP2011222647A (ja) * 2010-04-07 2011-11-04 Fujifilm Corp パターン形成方法及びパターン基板製造方法
KR101686024B1 (ko) * 2011-04-27 2016-12-13 후지필름 가부시키가이샤 임프린트용 경화성 조성물, 패턴 형성 방법 및 패턴
JP2014065853A (ja) * 2012-09-27 2014-04-17 Tokuyama Corp 光硬化性ナノインプリント用組成物およびパターンの形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013077748A5 (enExample)
Ligon et al. Strategies to reduce oxygen inhibition in photoinduced polymerization
JPS5994B2 (ja) 感光性組成物
RU2017108648A (ru) Покрытия для оптического волокна, отверждаемые монохроматическим актиничным излучением
JPWO2018221177A1 (ja) トリアジンペルオキシド誘導体、該化合物を含有する重合性組成物
Jankowska et al. Novel multi-material photo-curable resins containing high-performance photoinitiating systems and nano additives dedicated to 3D-VAT printing
JP2021535947A (ja) 多機能性ビスアシルホスフィンオキシド光開始剤
CN106102690B (zh) 牙科组合物
JP2005514476A5 (enExample)
KR102710878B1 (ko) 티오크산톤 골격을 갖는 디알킬퍼옥사이드, 그 화합물을 함유하는 중합성 조성물
RU2017104256A (ru) Композиция уф-отверждаемого покрытия, имеющего улучшенную устойчивость к солнечному свету
RU2012137721A (ru) Светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости
Sautrot-Ba et al. Purpurin derivatives as visible-light photosensitizers for 3D printing and valuable biological applications
JP6380907B2 (ja) エネルギー線重合性組成物
CN110891980B (zh) 自由基聚合控制剂和自由基聚合控制方法
ATE434203T1 (de) Lithographiedruckplattenvorläufer und verfahren zur herstellung einer lithographiedruckplatte
JP2009023343A5 (enExample)
Okamura et al. UV curable formulations for UV-C LEDs
JP2007501111A5 (enExample)
IN2014CN02293A (en) Method for producing lithographic printing plate
JP2007501776A5 (enExample)
JP2014178573A5 (enExample)
JPWO2015029844A1 (ja) 高屈折率透明性薄膜の製造方法及びその方法により製造された薄膜
CN110452317B (zh) 一种用于3d打印的可见光光引发体系及其应用
WO2023054225A1 (ja) トリアジンペルオキシド誘導体及びその製造方法、重合性組成物、並びに硬化物及びその製造方法