JP2013048864A - 眼科用レーザ治療装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 治療用レーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射された治療用レーザ光を所定のサイズのスポットとして患者眼の照射部位に照射する照射ユニットと、治療用レーザ光の照射時間を設定する照射時間設定手段と、設定された照射時間に基づいて治療用レーザ光の照射を制御する制御手段と、を備える眼科用レーザ治療装置において、前記照射時間設定手段によって設定された前記照射時間に対応して患者眼に照射される前記所定サイズのスポットにおける治療用レーザ光のビームプロファイルを変更するビームプロファイル変更手段を、備えること。
【選択図】 図3
Description
(1) 治療用レーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射された治療用レーザ光を所定のサイズのスポットとして患者眼の照射部位に照射する照射ユニットと、治療用レーザ光の照射時間を設定する照射時間設定手段と、設定された照射時間に基づいて治療用レーザ光の照射を制御する制御手段と、を備える眼科用レーザ治療装置において、
前記照射時間設定手段によって設定された前記照射時間に対応して患者眼に照射される前記所定サイズのスポットにおける治療用レーザ光のビームプロファイルを変更するビームプロファイル変更手段を、
備えることを特徴とする。
(2) (1)の眼科用レーザ治療装置において、
前記照射時間設定手段は、少なくとも、第1の照射時間と、第1の照射時間よりも短い照射時間である第2の照射時間と、の何れか1つを設定でき、
前記ビームプロファイル変更手段は、前記照射時間設定手段により設定される照射時間に対応して少なくとも2種類の治療用レーザ光のビームプロファイルを変更でき、
前記制御手段は、前記照射時間設定手段において第1の照射時間が設定された場合に前記ビームプロファイル変更手段で設定するビームプロファイルの均一性が、前記照射時間設定手段において第2の照射時間が設定される場合に、前記ビームプロファイル変更手段で設定するビームプロファイルの均一性に対して低くなるようにビームプロファイル変更手段を設定する、ことを特徴とする。
(3) (1)又は(2)の眼科用レーザ治療装置において、
前記ビームプロファイル変更手段は、回折光学素子を用いて治療用レーザ光のビームプロファイルにおいて周辺部に対する中心部の相対的な強度(強度分布)を変更させることを特徴とする。
(4) (1)〜(3)の何れかの眼科用レーザ治療装置において、
前記ビームプロファイル変更手段は、治療用レーザ光のビームプロファイルにおいて治療用レーザ光の前記スポット内に微小スポットを多数配置すると共に、微小スポットの大きさ及び/又は微小スポットの間隔を変更する、ことを特徴とする。
(5) (1)〜(4)の何れかの眼科用レーザ治療装置において、
前記ビームプロファイル変更手段は、回折格子のパターンが異なる複数の回折光学素子を備え、各回折光学素子を前記照射ユニットの光軸上に切換え配置して治療用レーザ光のビームプロファイルを変更する、
ことを特徴とする。
(6) (1)〜(5)の何れかの眼科用レーザ治療装置において
前記ビームプロファイル変更手段は、前記照射時間設定手段で設定可能な照射時間の種類毎に治療用レーザ光のビームプロファイルを変更する、ことを特徴とする。
50 デリバリユニット
60 DOEユニット
62(62a〜62d) DOE
70 制御部
82 操作パネル
84 照射時間設定欄
85 ビームプロファイル表示部
100 眼科用レーザ治療装置
Claims (6)
- 治療用レーザ光を出射するレーザ光源と、該レーザ光源から出射された治療用レーザ光を所定のサイズのスポットとして患者眼の照射部位に照射する照射ユニットと、治療用レーザ光の照射時間を設定する照射時間設定手段と、設定された照射時間に基づいて治療用レーザ光の照射を制御する制御手段と、を備える眼科用レーザ治療装置において、
前記照射時間設定手段によって設定された前記照射時間に対応して患者眼に照射される前記所定サイズのスポットにおける治療用レーザ光のビームプロファイルを変更するビームプロファイル変更手段を、
備えることを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 - 請求項1の眼科用レーザ治療装置において、
前記照射時間設定手段は、少なくとも、第1の照射時間と、第1の照射時間よりも短い照射時間である第2の照射時間と、の何れか1つを設定でき、
前記ビームプロファイル変更手段は、前記照射時間設定手段により設定される照射時間に対応して少なくとも2種類の治療用レーザ光のビームプロファイルを変更でき、
前記制御手段は、前記照射時間設定手段において第1の照射時間が設定された場合に前記ビームプロファイル変更手段で設定するビームプロファイルの均一性が、前記照射時間設定手段において第2の照射時間が設定される場合に、前記ビームプロファイル変更手段で設定するビームプロファイルの均一性に対して低くなるようにビームプロファイル変更手段を設定する、ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 - 請求項1又は2の眼科用レーザ治療装置において、
前記ビームプロファイル変更手段は、回折光学素子を用いて治療用レーザ光のビームプロファイルにおいて周辺部に対する中心部の相対的な強度を変更させることを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 - 請求項1〜3の何れかの眼科用レーザ治療装置において、
前記ビームプロファイル変更手段は、治療用レーザ光のビームプロファイルにおいて治療用レーザ光の前記スポット内に微小スポットを多数配置すると共に、微小スポットの大きさ及び/又は微小スポットの間隔を変更する、ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 - 請求項1〜4の何れかの眼科用レーザ治療装置において、
前記ビームプロファイル変更手段は、回折格子のパターンが異なる複数の回折光学素子を備え、各回折光学素子を前記照射ユニットの光軸上に切換え配置して治療用レーザ光のビームプロファイルを変更する、
ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 - 請求項1〜5の何れかの眼科用レーザ治療装置において
前記ビームプロファイル変更手段は、前記照射時間設定手段で設定可能な照射時間の種類毎に治療用レーザ光のビームプロファイルを変更する、ことを特徴とする眼科用レーザ治療装置。
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