JP2013048235A - 空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成 - Google Patents
空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】複数行および複数列に配置される光変調素子を有する空間光変調器120を用いて二次元均質光場119Aを変調することにより、2つの略一次元スキャンライン画像SL1、SL2を同時発生させる。上側の変調素子グループは、第1のスキャンライン画像データグループを用いて構成され、かつ下側の変調素子グループは、第2のスキャンライン画像データグループを用いて構成される。次に、二次元均質光場を空間光変調器上へ方向づけるために、均質光源110がパルスされる。二次元変調光場119Bはアナモルフィック光学系130を介して方向づけられ、アナモルフィック光学系は、画像形成面上に2つの平行する一次元スキャンライン画像が同時に形成されるように、変調光を画像形成面上へ画像化し、かつ集中させる。
【選択図】図1
Description
Claims (2)
- 画像形成面上へ二次元画像の2つ以上の略一次元スキャンライン画像部分を同時に発生するための方法であって、前記二次元画像は、複数のスキャンライン画像データグループを含む画像データファイルに格納され、各スキャンライン画像データグループは、前記二次元画像の関連する一次元スキャンライン画像部分を表す複数の画像ピクセルデータ部分を含み、前記方法は、
前記複数のスキャンライン画像データグループの少なくとも2つのスキャンライン画像データグループに従って、複数行および複数列内に配置される複数の光変調素子を含む空間光変調器を構成することであって、前記構成することは、
第1の複数の前記行内に配置される前記複数の変調素子による第1の変調素子グループを、前記第1の変調素子グループの各列内に配置される2つ以上の変調素子が前記第1のスキャンライン画像データグループの関連する画像ピクセルデータ部分に従って調整されるように、前記複数のスキャンライン画像データグループの第1のスキャンライン画像データグループに従って調整することと、
第2の複数の前記行内に配置される変調素子を含む第2の変調素子グループを、前記第2の変調素子グループの各列内に配置される2つ以上の変調素子が前記第2のスキャンライン画像データグループの関連する画像ピクセルデータ部分に従って調整されるように、前記複数のスキャンライン画像データグループの第2のスキャンライン画像データグループに従って調整することを含むことと、
前記構成される第1及び第2の変調素子グループが、アナモルフィック光学系を介して前記画像形成面上へ送信される変調光場を発生するように、前記構成される空間光変調器を利用して、均質光を前記複数の光変調素子上へ方向づけることにより、前記画像形成面上へ第1及び第2の略一次元スキャンライン画像を発生することを含み、前記アナモルフィック光学系は、前記変調光場が、前記画像形成面の細長い画像形成領域上へ前記第1及び第2の略一次元スキャンライン画像を形成すべくアナモルフィックに画像化されかつ集中されるように形成されかつ位置合わせされる方法。 - 画像形成面上へ二次元画像の2つ以上の略一次元スキャンライン画像部分を同時に発生するための方法であって、前記二次元画像は、複数のスキャンライン画像データグループを含む画像データファイルに格納され、各スキャンライン画像データグループは、前記二次元画像の関連する一次元スキャンライン画像部分を表す複数の画像ピクセルデータ部分を含み、
第1の時間期間中に、前記複数のスキャンライン画像データグループの少なくとも2つのスキャンライン画像データグループに従って、複数行および複数列内に配置される複数の光変調素子を含む空間光変調器を構成することであって、前記構成することは、
第1の複数の前記行内に配置される前記複数の変調素子による第1の変調素子グループを、前記第1の変調素子グループの各列内に配置される2つ以上の変調素子が前記第1のスキャンライン画像データグループの関連する画像ピクセルデータ部分に従って調整されるように、前記複数のスキャンライン画像データグループの第1のスキャンライン画像データグループに従って調整することと、
第2の複数の前記行内に配置される変調素子を含む第2の変調素子グループを、前記第2の変調素子グループの各列内に配置される2つ以上の変調素子が前記第2のスキャンライン画像データグループの関連する画像ピクセルデータ部分に従って調整されるように、前記複数のスキャンライン画像データグループの第2のスキャンライン画像データグループに従って調整することを含むことと
第2の時間期間中に、前記構成される第1及び第2の変調素子グループがアナモルフィック光学系を通過される変調光場を発生し、よって前記変調光場がアナモルフィックに画像化されかつ集中されて前記画像形成面上へ第1及び第2の略一次元スキャンライン画像が形成されるように、均質光を前記複数の光変調素子上へ方向づけることを含む方法。
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