JP6199544B2 - 空間光変調器および反射屈折アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム - Google Patents
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Description
Claims (3)
- 画像データファイルに従って画像形成面上を工程横断方向に広がる略一次元ライン画像
を発生するための単一パス画像形成システムであって、
第1の光強度を有する光部分を含む二次元変調光場を発生するための手段と、
反射屈折アナモルフィック光学系と、を備え、
前記手段は、
1つまたは複数の光ビームを発生するための少なくとも1つの光源と、前記1つまたは複数の光ビームを、均質化される光ビームの一部が均質な光場を形成するように均質化するための手段を含む少なくとも1つの光ホモジナイザとを含む均質光発生器と、
アレイ状に配置される複数の光変調素子と、前記複数の光変調素子を、前記二次元変調光場が第1の変調状態における前記複数の光変調素子のうちの第1の光変調素子から方向づけられる前記均質な光場の一部によってのみ発生されるように、画像データファイルに従って第1の変調状態および第2の変調状態のうちの一方へと個々に構成するための手段とを含む空間光変調器と、を含み、
前記反射屈折アナモルフィック光学系は、
円柱/非円柱コリメート視野レンズと、
三重レンズ素子と、
少なくとも1つの円柱/非円柱鏡素子を含む少なくとも2つの鏡素子と、を含み、
円柱/非円柱コリメート視野レンズ及び前記三重レンズ素子は、前記二次元変調光場を工程横断方向へ画像化すべく動作可能に位置合わせされかつ配置され、
前記三重レンズ素子は、第1の円柱/非円柱レンズ素子と、第2の円柱/非円柱レンズ素子と、第3の円柱/非円柱レンズ素子と、を含み、前記円柱/非円柱コリメート視野レンズを通過した前記二次元変調光場を受け入れ、
前記第1の円柱/非円柱レンズ素子、前記第2の円柱/非円柱レンズ素子、及び前記第3の円柱/非円柱レンズ素子は、前記円柱/非円柱コリメート視野レンズから受け入れた前記二次元変調光場を前記画像形成面上に前記工程横断方向に画像化すべく協働的に成形され且つ配置され、
前記少なくとも2つの鏡素子は各々、前記少なくとも1つの円柱/非円柱レンズ素子から受け入れられる変調光を、前記少なくとも2つの鏡素子から送信される画像化されかつ集中される変調光場が前記画像形成面上に前記略一次元ライン画像を形成するように、工程方向へ協働的に画像化しかつ集中させるべく動作可能に位置合わせされかつ配置され、
前記複数の光変調素子は、複数の行及び複数の列に配置され、
前記複数の列の各々は、前記複数の光変調素子における関連したグループを含み、
前記反射屈折アナモルフィック光学系は、前記複数の列の各々における前記複数の光変調素子での前記グループの各々から受け入れた変調光部分を、延伸されるライン画像における関連するライン画像部分に集中させるように配置される
単一パス画像形成システム。 - 画像データファイルに従って画像形成面上を工程横断方向に広がる略一次元ライン画像
を発生するための単一パス画像形成システムであって、
第1の光強度を有する光部分を含む二次元変調光場を発生するための手段と、
前記画像形成面上へ前記略一次元ライン画像を発生すべく前記二次元変調光場を画像化しかつ集中させるための反射屈折アナモルフィック光学系と、を備え、
前記手段は、
1つまたは複数の光ビームを発生するための少なくとも1つの光源と、前記1つまたは複数の光ビームを、均質化される光ビームの一部が均質な光場を形成するように均質化するための手段を含む少なくとも1つの光ホモジナイザとを含む均質光発生器と、
アレイ状に配置される複数の光変調素子と、前記複数の光変調素子を、前記二次元変調光場が第1の変調状態における前記複数の光変調素子のうちの第1の光変調素子から方向づけられる前記均質な光場の一部によってのみ発生されるように、画像データファイルに従って第1の変調状態および第2の変調状態のうちの一方へと個々に構成するための手段とを含む空間光変調器であって、前記二次元変調光場は工程横断方向に第1の幅を有しかつ工程方向に第1の高さを有する空間光変調器と、を備え、
前記反射屈折アナモルフィック光学系は、
円柱/非円柱コリメート視野レンズと、
三重レンズ素子と、
少なくとも2つの円柱/非円柱鏡素子と、を含み、
前記円柱/非円柱コリメート視野レンズ及び前記三重レンズ素子は、前記二次元変調光場を、前記略一次元ライン画像が工程横断方向に前記二次元変調光場の前記第1の幅以上である第2の幅を有するように工程横断方向へ画像化しかつ拡張すべく動作可能に位置合わせされかつ配置され、
前記三重レンズ素子は、第1の円柱/非円柱レンズ素子と、第2の円柱/非円柱レンズ素子と、第3の円柱/非円柱レンズ素子と、を含み、前記円柱/非円柱コリメート視野レンズを通過した前記二次元変調光場を受け入れ、
前記第1の円柱/非円柱レンズ素子、前記第2の円柱/非円柱レンズ素子、及び前記第3の円柱/非円柱レンズ素子は、前記円柱/非円柱コリメート視野レンズから受け入れた前記二次元変調光場を前記画像形成面上に前記工程横断方向に画像化すべく協働的に成形され且つ配置され、
前記少なくとも2つの鏡素子は、前記画像化されかつ拡張される変調光場を、前記略一次元ライン画像が工程方向に前記二次元変調光場の前記第1の高さより少なくとも3分の1以上小さい第2の高さを有するように工程方向へ画像化しかつ集中させるべく動作可能に位置合わせされかつ配置され、
前記複数の光変調素子は、複数の行及び複数の列に配置され、
前記複数の列の各々は、前記複数の光変調素子における関連したグループを含み、
前記反射屈折アナモルフィック光学系は、前記複数の列の各々における前記複数の光変調素子での前記グループの各々から受け入れた変調光部分を、延伸されるライン画像における関連するライン画像部分に集中させるように配置される
単一パス画像形成システム。 - 前記複数の光変調素子の各々は、基板に配置された電気機械式ミラー機構を含み、
前記電気機械式ミラー機構は、
ミラーと、
前記ミラーを、支持し、且つ、コントローラによって生成された関連する制御信号に従って、前記基板に対して傾斜した第1位置と前記基板に対して傾斜した第2位置との間で移動させる支持移動手段と、を含み、
前記均質光発生器、前記空間光変調器、及び前記反射屈折アナモルフィック光学系は、前記電気機械式ミラー機構の各々の前記ミラーが、前記第1位置の場合に、受け入れた均質化された光のうちの関連する部分を、前記変調光部分が前記反射屈折アナモルフィック光学系へ方向付けられるように反射し、前記電気機械式ミラー機構の各々の前記ミラーが、前記第2位置の場合に、受け入れた前記均質化された光の部分のうちの関連する部分を、前記反射屈折アナモルフィック光学系から離れて方向付けられるように反射する位置に配される請求項1又は請求項2に記載の単一パス画像形成システム。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7394771B2 (ja) | 2018-01-29 | 2023-12-08 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 光学装置改善のための湿潤層 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9030515B2 (en) | 2011-08-24 | 2015-05-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging method using spatial light modulator and anamorphic projection optics |
US9630424B2 (en) | 2011-08-24 | 2017-04-25 | Palo Alto Research Center Incorporated | VCSEL-based variable image optical line generator |
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US8872875B2 (en) * | 2011-08-24 | 2014-10-28 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system with anamorphic optical system |
US8390917B1 (en) * | 2011-08-24 | 2013-03-05 | Palo Alto Research Center Incorporated | Multiple line single-pass imaging using spatial light modulator and anamorphic projection optics |
US8791972B2 (en) | 2012-02-13 | 2014-07-29 | Xerox Corporation | Reflex-type digital offset printing system with serially arranged single-pass, single-color imaging systems |
US9690179B2 (en) * | 2013-09-17 | 2017-06-27 | Ricoh Company, Ltd. | Illumination unit and image display device incorporating same |
US9354379B2 (en) | 2014-09-29 | 2016-05-31 | Palo Alto Research Center Incorporated | Light guide based optical system for laser line generator |
FR3047294A1 (fr) * | 2016-02-02 | 2017-08-04 | Valeo Vision | Optique de collimation simple pour source lumineuse coherente |
US10373297B2 (en) * | 2016-10-26 | 2019-08-06 | Valve Corporation | Using pupil location to correct optical lens distortion |
US10594887B1 (en) * | 2019-03-18 | 2020-03-17 | Xerox Corporation | Method for measuring beam to beam stitch error in the presence of variable width beams |
WO2022130393A1 (en) * | 2020-12-20 | 2022-06-23 | Lumus Ltd. | Image projector with laser scanning over spatial light modulator |
AT526145B1 (de) * | 2023-02-23 | 2023-12-15 | Wilfried Lutz Dr | Abbildende Optik |
Family Cites Families (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3800699A (en) | 1970-06-17 | 1974-04-02 | A Carley | Fountain solution image apparatus for electronic lithography |
JPH0195661A (ja) * | 1987-10-07 | 1989-04-13 | Canon Inc | 画像読取装置 |
US5105369A (en) * | 1989-12-21 | 1992-04-14 | Texas Instruments Incorporated | Printing system exposure module alignment method and apparatus of manufacture |
US5105207A (en) * | 1990-12-31 | 1992-04-14 | Texas Instruments Incorporated | System and method for achieving gray scale DMD operation |
US5500670A (en) | 1993-09-07 | 1996-03-19 | Xerox Corporation | Asymmetric spatial filtering for pulsed imaging, pulse width modulation raster output scanner with tri-level exposure |
JPH086481A (ja) * | 1994-03-31 | 1996-01-12 | Texas Instr Inc <Ti> | 空間光変調器を使用したホログラフィック画像発生方法及びホログラフィック画像ディスプレイシステム |
US6121984A (en) | 1995-01-11 | 2000-09-19 | Texas Instruments Incorporated | DMD modulated continuous wave light source for imaging systems |
US5754217A (en) | 1995-04-19 | 1998-05-19 | Texas Instruments Incorporated | Printing system and method using a staggered array spatial light modulator having masked mirror elements |
US5699168A (en) | 1995-06-22 | 1997-12-16 | Texas Instruments Incorporated | Grayscale printing with sliding window memory |
KR19980028035A (ko) | 1995-10-25 | 1998-07-15 | 윌리엄 이. 힐러 | 하드 카피 장치용 조명 시스템 |
US5828485A (en) | 1996-02-07 | 1998-10-27 | Light & Sound Design Ltd. | Programmable light beam shape altering device using programmable micromirrors |
JP2000019441A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Fuji Xerox Co Ltd | 画像形成装置 |
JP3910317B2 (ja) * | 1999-09-08 | 2007-04-25 | 富士フイルム株式会社 | 画像記録方法および装置 |
JP2001255664A (ja) | 2000-03-14 | 2001-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像露光方法 |
JP2001330912A (ja) * | 2000-05-18 | 2001-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
US6606739B2 (en) | 2000-11-14 | 2003-08-12 | Ball Semiconductor, Inc. | Scaling method for a digital photolithography system |
US6753898B2 (en) | 2001-03-29 | 2004-06-22 | Masanori Kubota | Method and apparatus for high speed digitized exposure |
US6594090B2 (en) * | 2001-08-27 | 2003-07-15 | Eastman Kodak Company | Laser projection display system |
US6567217B1 (en) | 2001-11-06 | 2003-05-20 | Eastman Kodak Company | Image-forming system with enhanced gray levels |
US6577429B1 (en) * | 2002-01-15 | 2003-06-10 | Eastman Kodak Company | Laser projection display system |
EP1947513B1 (en) | 2002-08-24 | 2016-03-16 | Chime Ball Technology Co., Ltd. | Continuous direct-write optical lithography |
JP4223936B2 (ja) | 2003-02-06 | 2009-02-12 | 株式会社リコー | 投射光学系、拡大投射光学系、拡大投射装置及び画像投射装置 |
US6950454B2 (en) | 2003-03-24 | 2005-09-27 | Eastman Kodak Company | Electronic imaging system using organic laser array illuminating an area light valve |
JP2005091660A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Minolta Co Ltd | アナモフィック光学系 |
US8282221B2 (en) | 2003-11-01 | 2012-10-09 | Silicon Quest Kabushiki Kaisha | Projection apparatus using variable light source |
JP2006128194A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7061581B1 (en) | 2004-11-22 | 2006-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
JP2006297792A (ja) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Noritsu Koki Co Ltd | 画像露光装置 |
KR100814644B1 (ko) | 2006-07-31 | 2008-03-18 | 주식회사 나노브릭 | 이미지 프로젝션 시스템 및 방법 |
JP4983156B2 (ja) * | 2006-08-29 | 2012-07-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
CN1916768A (zh) | 2006-09-08 | 2007-02-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 个性化隐形眼镜定制设备 |
US8199178B1 (en) * | 2007-05-03 | 2012-06-12 | Silicon Light Machines Corporation | Linear array of two dimensional dense-packed spatial light modulator |
US7719766B2 (en) | 2007-06-20 | 2010-05-18 | Texas Instruments Incorporated | Illumination source and method therefor |
JP5248903B2 (ja) * | 2008-04-18 | 2013-07-31 | リコー光学株式会社 | ライン照明装置およびライン照明方法および光学検査装置および光加工装置 |
JP5029667B2 (ja) | 2008-12-29 | 2012-09-19 | ソニー株式会社 | 画像記録媒体 |
US8531755B2 (en) | 2009-02-16 | 2013-09-10 | Micronic Laser Systems Ab | SLM device and method combining multiple mirrors for high-power delivery |
US8872875B2 (en) * | 2011-08-24 | 2014-10-28 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system with anamorphic optical system |
-
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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