JP2013050716A - アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム - Google Patents
アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013050716A JP2013050716A JP2012179816A JP2012179816A JP2013050716A JP 2013050716 A JP2013050716 A JP 2013050716A JP 2012179816 A JP2012179816 A JP 2012179816A JP 2012179816 A JP2012179816 A JP 2012179816A JP 2013050716 A JP2013050716 A JP 2013050716A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- optical system
- light
- light field
- cylindrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/465—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using masks, e.g. light-switching masks
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/08—Anamorphotic objectives
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/24—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for reproducing or copying at short object distances
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
- G02B26/0833—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements the reflecting element being a micromechanical device, e.g. a MEMS mirror, DMD
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Printers Or Recording Devices Using Electromagnetic And Radiation Means (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Lenses (AREA)
Abstract
【解決手段】アナモルフィック光学系130を用いて画像形成面162上へ二次元画像の略一次元ライン画像を発生させるために利用される単純化された単一パス画像形成システム100において、システム100はさらに、均質光発生器110と、均質光発生器110から受信される均質光118Aを変調するようにコントローラ180により制御される空間光変調器120と、変調器120により発生される変調光場119Bを画像化しかつ集中させ、かつ画像形成面162上に略一次元ライン画像SLを投影させるように位置合わせされるアナモルフィック光学系130とを含む。
【選択図】図1
Description
Claims (3)
- 画像データファイルに従って画像形成面上へ略一次元ライン画像を発生するための単一パス画像形成システムであって、
前記画像データファイルに従って変調光場を発生するための手段と、
1つまたは複数の円柱/非円柱光学素子を含む光学系とを備え、前記1つまたは複数の円柱/非円柱光学素子は、画像化されかつ集中される変調光場が前記画像形成面上へ前記略一次元ライン画像を形成するように、前記変調光場を画像化しかつ集中させるべく動作可能式に位置合わせされかつ配置される単一パス画像形成システム。 - 画像データファイルに従って、工程横断方向に広がる画像形成面上へ略一次元ライン画像を発生するための単一パス画像形成システムであって、
前記画像データファイルに従って二次元変調光場を発生するための手段と、
少なくとも1つの細長い湾曲した光学表面を有するレンズ素子を含むアナモルフィック光学系とを備え、前記少なくとも1つの細長い湾曲した光学表面は、画像化されかつ集中される変調光場が前記画像形成面上へ前記略一次元ライン画像を形成するように、前記二次元変調光場を工程方向へ画像化しかつ集中させるべく動作可能式に位置合わせされかつ配置され、前記工程横断方向は前記工程方向に対して垂直である単一パス画像形成システム。 - 画像データファイルに従って、工程横断方向に広がる画像形成面上へ略一次元ライン画像を発生するための単一パス画像形成システムであって、
前記画像データファイルに従って変調光場を発生するための手段であって、前記変調光場は前記工程横断方向に第1の幅を有し、かつ前記工程方向に第1の高さを有する手段と、
画像形成面に前記二次元光場をアナモルフィックに画像化しかつ集中させるためのアナモルフィック光学投影系とを備え、前記光学投影系は、
少なくとも1つの工程横断円柱/非円柱レンズ素子を含む工程横断サブ光学系であって、前記少なくとも1つの工程横断円柱/非円柱レンズ素子は、前記略一次元ライン画像が前記工程横断方向に前記二次元変調光場の第1の幅に等しい、またはそれより大きい第2の幅を有するように、前記画像形成面に前記二次元光場を工程横断方向に画像化すべく配置される工程横断サブ光学系と、
少なくとも1つの工程方向円柱/非円柱レンズ素子を含む工程方向サブ光学系であって、前記少なくとも1つの工程方向円柱/非円柱レンズ素子は、前記略一次元ライン画像が前記工程方向に前記二次元変調光場の第1の高さの少なくとも3分の1である第2の高さを有するように、前記工程横断サブ光学系から受け入れられる画像形成光を工程方向に画像化しかつ集中させるべく配置される工程方向サブ光学系とを備える単一パス画像形成システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/216,923 US8872875B2 (en) | 2011-08-24 | 2011-08-24 | Single-pass imaging system with anamorphic optical system |
US13/216,923 | 2011-08-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013050716A true JP2013050716A (ja) | 2013-03-14 |
JP6178054B2 JP6178054B2 (ja) | 2017-08-09 |
Family
ID=47044755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012179816A Active JP6178054B2 (ja) | 2011-08-24 | 2012-08-14 | アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8872875B2 (ja) |
EP (1) | EP2561994B1 (ja) |
JP (1) | JP6178054B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013048235A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-07 | Palo Alto Research Center Inc | 空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成 |
JP2016071357A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | パロ アルト リサーチ センター インコーポレイテッド | レーザラインジェネレータのための導光体ベースの光学システム |
JP2016200808A (ja) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | パロ アルト リサーチ センター インコーポレイテッド | Vcselベースの可変画像光線発生装置 |
JP2017506358A (ja) * | 2014-02-24 | 2017-03-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8872875B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-10-28 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system with anamorphic optical system |
US9030515B2 (en) | 2011-08-24 | 2015-05-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging method using spatial light modulator and anamorphic projection optics |
US8670172B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-03-11 | Palo Alto Research Center Incorporated | Variable length imaging method using electronically registered and stitched single-pass imaging |
US8767270B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-07-01 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging apparatus with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent |
US9630424B2 (en) | 2011-08-24 | 2017-04-25 | Palo Alto Research Center Incorporated | VCSEL-based variable image optical line generator |
US8502853B2 (en) | 2011-08-24 | 2013-08-06 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging method with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent |
US8520045B2 (en) * | 2011-08-24 | 2013-08-27 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system with spatial light modulator and catadioptric anamorphic optical system |
US8472104B2 (en) | 2011-08-24 | 2013-06-25 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system using spatial light modulator anamorphic projection optics |
US8791972B2 (en) * | 2012-02-13 | 2014-07-29 | Xerox Corporation | Reflex-type digital offset printing system with serially arranged single-pass, single-color imaging systems |
WO2018075100A1 (en) * | 2016-06-21 | 2018-04-26 | The Regents Of The University Of California | Mems-based spatial light modulator and method of forming |
US9973645B2 (en) | 2016-09-01 | 2018-05-15 | Xerox Corporation | Multi-mode laser energy control for thermochromic print systems |
US10345596B2 (en) * | 2016-11-10 | 2019-07-09 | North Inc. | Systems, devices, and methods for astigmatism compensation in a wearable heads-up display |
US10629515B2 (en) | 2016-12-20 | 2020-04-21 | Xerox Corporation | System and method for cooling digital mirror devices |
US9878565B1 (en) | 2016-12-20 | 2018-01-30 | Xerox Corporation | Cooling control system |
US10279610B2 (en) | 2016-12-20 | 2019-05-07 | Xerox Corporation | Cooling insert |
US11294035B2 (en) * | 2017-07-11 | 2022-04-05 | Nuro, Inc. | LiDAR system with cylindrical lenses |
US10495979B1 (en) * | 2019-02-19 | 2019-12-03 | Applied Materials, Inc. | Half tone scheme for maskless lithography |
CN118046000A (zh) * | 2019-03-12 | 2024-05-17 | 特里奥实验室公司 | 采用致动微像素化和动态密度控制的用于数字制造对象的方法和装置 |
US10594887B1 (en) * | 2019-03-18 | 2020-03-17 | Xerox Corporation | Method for measuring beam to beam stitch error in the presence of variable width beams |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04278969A (ja) * | 1989-12-21 | 1992-10-05 | Texas Instr Inc <Ti> | 空間光変調装置をアライメントする方法及びその装置 |
JPH04309976A (ja) * | 1990-12-31 | 1992-11-02 | Texas Instr Inc <Ti> | ゼログラフィックシステム及びグレイスケール生成方法 |
JPH086481A (ja) * | 1994-03-31 | 1996-01-12 | Texas Instr Inc <Ti> | 空間光変調器を使用したホログラフィック画像発生方法及びホログラフィック画像ディスプレイシステム |
JP2001071563A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録方法および装置 |
JP2001330912A (ja) * | 2000-05-18 | 2001-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2005091660A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Minolta Co Ltd | アナモフィック光学系 |
JP2006128194A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006297792A (ja) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Noritsu Koki Co Ltd | 画像露光装置 |
US20100208329A1 (en) * | 2009-02-16 | 2010-08-19 | Micronic Laser Systems Ab | SLM Device and Method |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3800699A (en) | 1970-06-17 | 1974-04-02 | A Carley | Fountain solution image apparatus for electronic lithography |
US5101236A (en) | 1989-12-21 | 1992-03-31 | Texas Instruments Incorporated | Light energy control system and method of operation |
US5041851A (en) * | 1989-12-21 | 1991-08-20 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator printer and method of operation |
US5151718A (en) | 1990-12-31 | 1992-09-29 | Texas Instruments Incorporated | System and method for solid state illumination for dmd devices |
US5563398A (en) | 1991-10-31 | 1996-10-08 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator scanning system |
US5500670A (en) | 1993-09-07 | 1996-03-19 | Xerox Corporation | Asymmetric spatial filtering for pulsed imaging, pulse width modulation raster output scanner with tri-level exposure |
US6121984A (en) | 1995-01-11 | 2000-09-19 | Texas Instruments Incorporated | DMD modulated continuous wave light source for imaging systems |
US5754217A (en) | 1995-04-19 | 1998-05-19 | Texas Instruments Incorporated | Printing system and method using a staggered array spatial light modulator having masked mirror elements |
US5699168A (en) | 1995-06-22 | 1997-12-16 | Texas Instruments Incorporated | Grayscale printing with sliding window memory |
KR19980028035A (ko) | 1995-10-25 | 1998-07-15 | 윌리엄 이. 힐러 | 하드 카피 장치용 조명 시스템 |
KR100449129B1 (ko) | 1995-10-25 | 2005-01-24 | 인스트루먼츠 인코포레이티드 텍사스 | 조사시스템 |
US5828485A (en) | 1996-02-07 | 1998-10-27 | Light & Sound Design Ltd. | Programmable light beam shape altering device using programmable micromirrors |
JPH11320968A (ja) | 1998-05-13 | 1999-11-24 | Ricoh Microelectronics Co Ltd | 光像形成方法及びその装置、画像形成装置並びにリソグラフィ用露光装置 |
JP2001255664A (ja) | 2000-03-14 | 2001-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像露光方法 |
JP2002120400A (ja) | 2000-10-17 | 2002-04-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録方法及び装置 |
US6606739B2 (en) | 2000-11-14 | 2003-08-12 | Ball Semiconductor, Inc. | Scaling method for a digital photolithography system |
US6753898B2 (en) | 2001-03-29 | 2004-06-22 | Masanori Kubota | Method and apparatus for high speed digitized exposure |
US7170660B2 (en) | 2001-04-24 | 2007-01-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanner and image forming device |
JP2003107378A (ja) | 2001-10-01 | 2003-04-09 | Canon Inc | マルチビーム走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
US6567217B1 (en) | 2001-11-06 | 2003-05-20 | Eastman Kodak Company | Image-forming system with enhanced gray levels |
EP1327527A1 (de) | 2002-01-15 | 2003-07-16 | Imip Llc | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines fotografischen Bilds |
US6724546B2 (en) * | 2002-04-25 | 2004-04-20 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Light converging optical system for converging light onto a reflecting optical-spatial modulator element and image displaying apparatus for displaying an image formed by light reflected by the reflecting optical-spatial modulator element |
CN100470298C (zh) | 2002-08-24 | 2009-03-18 | 无掩模平版印刷公司 | 连续地直接写的光刻技术 |
JP4223936B2 (ja) | 2003-02-06 | 2009-02-12 | 株式会社リコー | 投射光学系、拡大投射光学系、拡大投射装置及び画像投射装置 |
US6950454B2 (en) | 2003-03-24 | 2005-09-27 | Eastman Kodak Company | Electronic imaging system using organic laser array illuminating an area light valve |
US8282221B2 (en) | 2003-11-01 | 2012-10-09 | Silicon Quest Kabushiki Kaisha | Projection apparatus using variable light source |
US7061581B1 (en) | 2004-11-22 | 2006-06-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
TW200640245A (en) | 2005-02-04 | 2006-11-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Rendering device and rendering method |
KR100814644B1 (ko) | 2006-07-31 | 2008-03-18 | 주식회사 나노브릭 | 이미지 프로젝션 시스템 및 방법 |
JP4983156B2 (ja) | 2006-08-29 | 2012-07-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
CN1916768A (zh) | 2006-09-08 | 2007-02-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 个性化隐形眼镜定制设备 |
US8199178B1 (en) | 2007-05-03 | 2012-06-12 | Silicon Light Machines Corporation | Linear array of two dimensional dense-packed spatial light modulator |
US7719766B2 (en) | 2007-06-20 | 2010-05-18 | Texas Instruments Incorporated | Illumination source and method therefor |
JP5029667B2 (ja) | 2008-12-29 | 2012-09-19 | ソニー株式会社 | 画像記録媒体 |
US8872875B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-10-28 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system with anamorphic optical system |
US8520045B2 (en) * | 2011-08-24 | 2013-08-27 | Palo Alto Research Center Incorporated | Single-pass imaging system with spatial light modulator and catadioptric anamorphic optical system |
-
2011
- 2011-08-24 US US13/216,923 patent/US8872875B2/en active Active
-
2012
- 2012-08-14 JP JP2012179816A patent/JP6178054B2/ja active Active
- 2012-08-20 EP EP20120180981 patent/EP2561994B1/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04278969A (ja) * | 1989-12-21 | 1992-10-05 | Texas Instr Inc <Ti> | 空間光変調装置をアライメントする方法及びその装置 |
JPH04309976A (ja) * | 1990-12-31 | 1992-11-02 | Texas Instr Inc <Ti> | ゼログラフィックシステム及びグレイスケール生成方法 |
JPH086481A (ja) * | 1994-03-31 | 1996-01-12 | Texas Instr Inc <Ti> | 空間光変調器を使用したホログラフィック画像発生方法及びホログラフィック画像ディスプレイシステム |
JP2001071563A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録方法および装置 |
JP2001330912A (ja) * | 2000-05-18 | 2001-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録装置 |
JP2005091660A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Minolta Co Ltd | アナモフィック光学系 |
JP2006128194A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006297792A (ja) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Noritsu Koki Co Ltd | 画像露光装置 |
US20100208329A1 (en) * | 2009-02-16 | 2010-08-19 | Micronic Laser Systems Ab | SLM Device and Method |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013048235A (ja) * | 2011-08-24 | 2013-03-07 | Palo Alto Research Center Inc | 空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成 |
JP2017506358A (ja) * | 2014-02-24 | 2017-03-02 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および方法 |
US10558126B2 (en) | 2014-02-24 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and method |
JP2020046680A (ja) * | 2014-02-24 | 2020-03-26 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置および方法 |
JP2016071357A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | パロ アルト リサーチ センター インコーポレイテッド | レーザラインジェネレータのための導光体ベースの光学システム |
JP2016200808A (ja) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | パロ アルト リサーチ センター インコーポレイテッド | Vcselベースの可変画像光線発生装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US8872875B2 (en) | 2014-10-28 |
EP2561994B1 (en) | 2015-02-25 |
EP2561994A3 (en) | 2014-01-22 |
EP2561994A2 (en) | 2013-02-27 |
US20130050669A1 (en) | 2013-02-28 |
JP6178054B2 (ja) | 2017-08-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6178054B2 (ja) | アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム | |
JP6199544B2 (ja) | 空間光変調器および反射屈折アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム | |
JP5883361B2 (ja) | アナモルフィック光学系を用いる単一パス画像形成システム | |
JP5898588B2 (ja) | 解像度、コントラストおよび露光範囲の改善用に画像データをスクロールする単一通過画像形成装置 | |
JP5898590B2 (ja) | 空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成 | |
JP5952128B2 (ja) | 空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム | |
US20130083303A1 (en) | Multi-Level Imaging Using Single-Pass Imaging System Having Spatial Light Modulator and Anamorphic Projection Optics | |
JP5820347B2 (ja) | 空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム | |
US8477403B2 (en) | Variable length imaging apparatus using electronically registered and stitched single-pass imaging systems | |
JP6546868B2 (ja) | Vcselベースの可変画像光線発生装置 | |
US8670172B2 (en) | Variable length imaging method using electronically registered and stitched single-pass imaging | |
US9630424B2 (en) | VCSEL-based variable image optical line generator | |
US8502853B2 (en) | Single-pass imaging method with image data scrolling for improved resolution contrast and exposure extent |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20131212 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150812 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160629 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160928 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170605 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20170614 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170704 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170713 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6178054 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |