JPH07125317A - 空間光変調器のための結合変調器方式 - Google Patents

空間光変調器のための結合変調器方式

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JPH07125317A
JPH07125317A JP5765894A JP5765894A JPH07125317A JP H07125317 A JPH07125317 A JP H07125317A JP 5765894 A JP5765894 A JP 5765894A JP 5765894 A JP5765894 A JP 5765894A JP H07125317 A JPH07125317 A JP H07125317A
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JP5765894A
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James M Florence
エム．フローレンス ジェームス
William E Nelson
イー．ネルソン ウィリアム
Vadlammanti Venkateswar
ベンカテスワー バァドラマンティ
Clair James St
セント クレアー ジェームス
Dirk Broddin
ブロディン ダーク
Serge M F Tavernier
エム．エフ．タバーニアー サージ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Agfa Gevaert NV
Texas Instruments Inc
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
Texas Instruments Inc
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    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/40—Picture signal circuits
    • H04N1/40025—Circuits exciting or modulating particular heads for reproducing continuous tone value scales
    • H04N1/40031—Circuits exciting or modulating particular heads for reproducing continuous tone value scales for a plurality of reproducing elements simultaneously
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
    • H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
    • H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
    • H04N1/195—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a two-dimensional array or a combination of two-dimensional arrays

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ２進空間光変調器を用いて、高分解能で高速
の濃度階調印刷を達成する技術を提供する。 【構成】 空間光変調器アレイが部分アレイに分割され
る。これらの部分アレイが、変調された光源の種々のレ
ベルで照射される。さらに、画素のおのおのが、４個の
位相に分割されることができ、および位相の対で印刷す
ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本出願は、名称「ＧＲＡＹ ＳＣ
ＡＬＥ ＰＲＩＮＴＩＮＧ ＵＳＩＮＧ ＳＰＡＴＩＡ
Ｌ ＬＩＧＨＴ ＭＯＤＵＬＡＴＯＲＳ」の出願中特
許、シリアル番号第０８／０３８，３９１号、ＴＩ−１
７６１１と、名称「ＣＯＭＢＩＮＥＤＭＯＤＵＬＡＴＯ
Ｒ ＳＤＨＥＭＥ ＦＯＲ ＳＰＡＴＩＡＬ ＬＩＧＨ
Ｔ ＭＯＤＵＬＡＴＯＲＳ」の出願中特許、シリアル番
号第０８／０３８，３９２号、ＴＩ−１７３３５と、同
時に受け付けられている。
【０００２】本発明は印刷機に関する。さらに詳細にい
えば、本発明は、空間光変調器（ＳＬＭ）を用いた印刷
装置に関する。
【０００３】
【従来の技術およびその問題点】個別素子のアレイは、
典型的には、空間光変調器で構成される。これらのアレ
イの例は、液晶装置（ＬＣＤ）およびディジタル・マイ
クロミラー装置（ＤＭＤ）である。ＳＬＭのあるもの
は、２進である、すなわち、それらのセルはオンまたは
オフのいずれかである。ＳＬＭの他のものは、一定の数
のレベルの組を有する。濃度階調を生成する印刷装置で
は、このことはいくつかの問題点を生ずる。
【０００４】静電写真印刷装置は、典型的には、下記の
工程を利用する。印刷機械は、コンピュータ端子のよう
なソース画像から、または、再生のために画像を走査し
た走査装置から、データを受け取る。印刷装置はそれを
光情報に変換し、そして、この光を感光ドラムの上に正
しいパターンで入射し、それにより、ドラムの上に潜在
する帯電パターンができる。次に、このドラムがトナー
溜めを通過し、それにより、ドラムの表面の潜像にトナ
ー粒子が吸着される。ドラムはこれらのトナー粒子と共
に回転し、そして、これらのトナー粒子を基板、典型的
にはペーパ、に転送する。その後、通常は熱により、ト
ナーがペーパに融着し、そして、ペーパが印刷機械の外
に出る。
【０００５】最近、高品質印刷のために、このような装
置の大部分は、走査を行うレーザ露光装置を利用する。
空間光変調器は好ましい装置である。それは、これらの
装置は、印刷に対して、さらの多くの機能を潜在的に有
しているからである。レーザ走査装置は、ラスタ・ライ
ンに沿ってレーザ・ビームを走査することにより、画素
毎に印刷する。例えば、もし８．５インチ（２１．６セ
ンチメートル）×１１インチ（２８センチメートル）の
ペーパに、６００ドット毎インチ（ｄｐｉ）で、毎分４
０頁で印刷することが要請されるならば、各頁は１１イ
ンチ×６００ｄｐｉ、すなわち、６６００ラインが必要
である。毎分４０頁では、このことは毎秒４４００ライ
ンに等しい。ここで、各ラインは８．５×６００画素、
すなわち、５１００画素を有する。このことは毎秒２
２．４４×１０6 画素が必要であり、これは、画素当た
り４４．６ナノ秒になる。短い画素時間中に濃度階調露
光を提供するために、レーザはアナログ方式で十分高速
に変調することはできない。ＳＬＭは、同時に動作する
ことができる多数個の光変調素子を有するから、印刷情
報の全ラインを一度に印刷するように、それらを構成す
ることができる。毎秒印刷される画素の数は同じままで
あるが、濃度階調変調で個々の画素を印刷するために、
５１００倍長い時間を（５１００×４４．６ナノ秒＝２
２７．５マイクロ秒）が、ＳＬＭ方式で得ることができ
る。
【０００６】けれども、ＳＬＭはそれ自身の問題点を有
している。それらのオン／オフの性質のために、すなわ
ち、モードを動作させるレベルの設定数の性質のため
に、完全オン（黒色）画像とオフ（トナーのない）画像
との間の濃度階調の生成は非常に困難になる。各素子
は、画像を鮮鋭で高品質にすることと矛盾しないスポッ
ト寸法と形状と位置という利点を有する。けれども、容
易に製造できる分解能、例えば、３００ｄｐｉ、を有す
るＳＬＭアレイは、曲線のグラフィックスや微細な特徴
を与えるのに困難を有する。それは、露光のレベルの決
定と画素位置の制限のためである。
【０００７】したがって、前記問題点を解決することに
より、印刷装置を、さらに良い品質にし、さらに低い価
格にし、および、さらに一定の特性を維持するための保
守をより容易にすることができる。
【０００８】
【問題点を解決するための手段】前記で開示された本発
明により、行集積と、パルス振幅変調と、パルス持続時
間変調と、パルス位置変調とを組み合わせて用いた、さ
らに高い品質の印刷を達成するための印刷装置が得られ
る。この装置は、変調することができる光源と、空間光
変調器と、感光媒体とを使用する。感光媒体は、典型的
には、有機物の光受容体であるが、同じ工程はフイルム
媒体に応用することもができる。
【０００９】
【実施例】本発明およびその利点をさらに完全に理解す
るために、添付図面を参照して、下記で詳細な説明が行
われる。
【００１０】空間光変調器は、典型的には、おのおのが
それ自身のアドレス指定装置を備えた素子のアレイを有
する。ディジタル・マイクロミラー装置（ＤＭＤ）のよ
うな変調器は、現在のデータが表示されている間、次の
データを受け取ることができかつ記憶することができ
る、メモリ・セルを有する。このことにより、任意の画
素に対するデータを、異なる素子の間で「移動」するこ
とができる、および、素子の異なる列の間、または、素
子の異なる行の間でさえ「移動」することができる。そ
の際、データが現実に「移動」するのではなく、データ
の次のフレームの中のその現在の表示位置とは異なる位
置に配置される。この特徴により、多くの異なる技術
を、濃度階調印刷のような応用に用いることができる。
【００１１】図１は、行集積印刷のブロック線図であ
る。この行集積印刷は、データの任意の１つの部分の露
光時間を長くするための最新の技術である、ｔ1 におい
て、空間光変調器（ＳＬＭ）アレイ列１１４の第１素子
に対するデータが、素子１１０に示されている。このデ
ータはＡとして表されている。矢印１１２は、感光ドラ
ムのような印刷媒体が、素子１１４の列に対し移動する
方向を示す。データＡは、１つの露光時間間隔の間に、
媒体に転送される。この１つの露光時間間隔が、画像１
１８として示されて表されている。
【００１２】ｔ2 において、Ａに対するデータは、列ア
レイに沿って、素子１１６に進む。このことは、装置の
中で直接に転送されるか、または、新規な位置にシフト
されたデータＡで変調器をリロードすることにより、行
われる。そして、Ｂで記された新規なデータが、素子１
１０に対しロードされる。すると、移動矢印１１２の上
のバー・グラフの分布画像が変わる。Ｂで表される画像
１２０は１露光時間を有するが、Ａの画像１１８は２露
光時間を有する。この工程がｔ3 で繰り返される。ここ
では、Ａの画像１１８は３露光時間を有し、Ｂの画像１
２０は２露光時間を有し、そして、Ｃで記された新規な
データが１露光時間の画像１２２を有する。この工程を
繰り返すことができるが、適切な露光のためには、設計
者が決定する多数回の露光時間が必要である。
【００１３】本発明の１つの実施例では、行集積とバル
ク照射変調とが組み合わされ、それにより、濃度階調画
像を形成することができる。行集積の先行技術の方法で
は、与えられた画素を露光するのに用いられる集積段階
の総数を変えることにより、濃度階調画像形成すること
ができる（すなわち、１６個の濃度階調レベルを、１６
個の集積行で達成することができる）。行集積とバルク
照射変調とを組み合わせる本発明により、さらに少ない
行で（４つの２進加重露光が１６個の濃度階調レベルを
与える）、または、さらに大きな精度で（１５の完全露
光と１つの半分の露光を有する１６個の行は、３２個の
濃度階調レベルを与える）、濃度階調画像を形成するこ
とができる。
【００１４】このことの１つの例が、図２ａ〜図２ｆに
示されている。この実施例では、ディジタル・マイクロ
ミラー装置（ＤＭＤ）のような反射型空間光変調器が用
いられると仮定されている。ただし、高速応答時間を有
する任意の空間光変調器を用いることもできるであろ
う。ＤＭＤは多くの異なる寸法であることができるが、
この実施例では、ＤＭＤは４個の行を有すると仮定され
る。ここでは、ただ１つの４ミラー列だけが時間の進行
と共に示されている。図２ａは、ｔ1 において濃度階調
を生ずるのに用いられる４ミラーの列を示す。ここで、
画像の第１素子が、そのデータを受け取る。ボックスＭ
1 の中の番号１は、印刷される列の中で、印刷される画
像の第１画像素子、すなわち、第１画素、に対するデー
タを表す。
【００１５】ｔ2 において、アレイを照射する発光ダイ
オード（ＬＥＤ）のような光源は、その完全照射の１／
２である。ビット１のペーパ画像は、前記の行集積と同
じように、ミラーＭ2 を有するラインにあるように移動
する。けれども、ここでは、画素１は１個の完全照射パ
ルスを受け取り、および、１個の１／２照射パルスを受
け取る。その合計の累積照射パルスは、印刷された画像
に関して、バー・グラフ２０６により示されている。印
刷された画像の画素１のすぐ下にある画素２は、バー・
グラフ２０８により示されているように、１／２照射パ
ルスを受け取る。
【００１６】ペーパ画像に対する画素１の全照射量は、
１と１／２の照射パルスであることができる、または、
あることができない。ｔ1 におけるミラー１はオンであ
ることができ、それにより、１照射パルスが可能であ
り、そして、ｔ2 におけるミラー２はオフであることが
でき、それにより、ペーパの上の実際の照射は１照射パ
ルスのままである。累積された全照射パルスという用語
は、画素がこのレベルの照射を受け取るチャンスを有す
る、ということを単に意味する。４行のミラーにより可
能な全照射は、最大照射の１．８７５倍である。それ
は、完全照射パルスに対し１であり、第２パルスに対し
０．５であり、第３パルスに対し０．２５であり、およ
び、第４パルスに対し０．１２５であり、合計で１．８
７５である。
【００１７】図２ｃにおいて、光源は、その全出力の１
／４であるように変調される。それにより、現在、ミラ
−Ｍ3 にある画素１は、１．７５の全照射パルスを有す
る。同様に、図２ｄにおいて、画素１は、バー・グラフ
２０６により示されているように、可能なすべての照射
レベルの全部を完成して、完全出力照射の１．８７５倍
の可能な合計照射を有する。画素２は、グラフ２０８に
おけるように、利用可能な合計照射パルスの１／２＋１
／４＋１／８、すなわち、０．８７５、を受け取ること
に注目されたい。図２ｅにおいて、画素２は、ｔ5 にお
いて、完全照射であるパルスを受け取る時、その可能な
組み合わせを完成する。また、既に見えた４個の後、列
の次の画素である画素５が、濃度階調を通して、その移
動を開始することに注目されたい。
【００１８】この方式に従って配列されたデータは、パ
ルス振幅変調に影響を与えるために、既にフォマットさ
れたメモリ・セルに送られたデータと共に、アレイから
出ていく。このことは、図２ｆに示されている。データ
は、図に示されたいるようにフォマットされる。画素１
（上付添字は画素番号である）に対し、時刻ｔ1 におい
てビット０の上の３個の素子のように示されていないデ
ータは（下付添字はデータ・ビット番号である。ここ
で、０＝完全照射に対するデータ・ビット、等）、ゼロ
で満たされるであろう。露光レベルは、完全露光レベル
であるＥF のような一番下の軸に沿って示されている。
【００１９】前記の実施例により、１６個の可能な濃度
階調レベルが得られる。画素のおのおのは、４個の異な
る照射強度を選択的に受け取ることができ、または、受
け取らないことができ、それで、１６（２4 ）個の可能
な組み合わせを得ることができる。濃度階調レベルの数
を３２にまで増大するためには、さらに１個の照射レベ
ルを単に付加することが必要である、すなわち、全照射
の１／１６を単に付加し、５個の画素行を群にすること
が必要である。任意の数の行を群にすることができる
が、それは装置による制限にのみ依存する。さらに、下
記で示すように、４の部分群を繰り返して、もとの分解
能を２倍にすることができる、すなわち、３２個のレベ
ルにすることができる。
【００２０】
【表１】
【００２１】前記の表は、どのように多数個の段階がこ
の工程により到達できるかに、分解能が基づいているこ
とを示す。図２ａ〜図２ｆで説明されたパターンを２倍
にすることにより、出力と分解能との両方が増大する。
装置が出力に対しどの程度に不足しているかにより、お
よび、データを適切にフォマットできなければならない
アドレス指定回路の複雑さに応じて、多くの異なる組み
合わせを達成することができる。大出力で高分解能の場
合、あるものは、データのさらに高度のフォマットを要
求する。また他のものは、大出力を保持しながら、露光
の１つのレベルを消去することにより、中程度の分解能
を達成することができる。下記の表は、このことを示
す。用語「レベル」は、照射のレベルを示していて、濃
度階調レベルを示すものでないことに注意されたい。
【００２２】
【表２】
【００２３】前記では、工程方向の画素幅が均一である
技術が仮定された。異なる幅のセルを生成することがで
きる時、２進空間光変調印刷において、さらに大きな柔
軟性を得ることができる。このことは、２つの方法で達
成することができる。これら２つの方法はいずれも、正
方形の画素で十分であるけれども、長方形の画素を用い
ることにより、利点が得られるであろう。これらの技術
は、パルス持続時間変調と呼ばれる。
【００２４】図３ａは、第１の方法を示す。この例で
は、長方形の画素の縦横比は４：１である。さらに、長
方形の画素は、ボックス３０１により示されているよう
に、３ミラーだけ離れている。ボックス３０１は、ミラ
ー列の４ミラー・セグメントを表す。この例では、列セ
グメント３０１の中から、斜線が付されているミラーだ
けが用いられる。異なる時間間隔に対し光源をオンにす
ることにより、異なる幅のセルを工程方向に発生するこ
とができる。
【００２５】画像３０４は、その画像に対応するアレイ
の素子が全ライン時間の２５％に対し照射された場合、
ペーパの一部分の上の画素の画像の長さ３０６を示す。
このことは、もちろん、その画像により表示されるデー
タは１であることを仮定する。もしそれが０であるなら
ば、画像は存在しないであろう。画像３０８は、時間の
５０％照射された素子に対し、画素の画像の長さ３１０
を示す。同様に、画像３１２および３１６は、それぞ
れ、７５％照射時間および１００％照射時間に対する長
さである。
【００２６】感光媒体の上に全部で４個のパルス持続時
間を生ずるために、活性なミラーは、４：１縦横比に対
し、他のミラーから３行離れているであろう。このこと
は、図２ｆに示されているものと同様な方式が用いられ
るが、下付き添字は、パルス幅よりはむしろ、パルス持
続時間を示すであろう。下付き添字０は２５％持続時間
に対するものであり、５０％振幅に対しては１である。
【００２７】同じ効果は、ただ１つの行のミラーを用い
ることにより、および、光源をスイッチするよりもミラ
ーの上のデータをスイッチすることにより、得ることが
できる。けれども、このことは、１つのライン時間内に
４回、その行の中にデータをロードすることが必要であ
るのに対し、従来の方式は、ライン時間のおのおのに対
してのみ必要である。これらの実施例はいずれも、後者
の方法では物理的にそのように実行することによるか、
または、前者の方法におけるように光でそれらを作動す
ることによるかのいずれかで、素子を作動する、およ
び、素子を作動しない、という概念を共有する。
【００２８】図３ｂは、すべてが同じ長さの照射パルス
で、パルス持続時間変調と同じ効果を達成するための第
２の方法を示す。この方法では、異なる幅の印刷された
スポットを形成するために、多数個の隣接するミラーが
用いられる。縦横比が４：１の例では、このことは４個
のミラーを用いるが、どのミラーをも飛び越すことはし
ない。素子３０１ａをオンにすることにより、印刷され
たスポットは、２５％持続時間変調されたスポットと同
じ幅を有するであろう。３０１ａおよび３０１ｂをオン
にすると、幅は５０％パルス持続時間に等価であり、３
０１ａ〜３０１ｃは７５％持続時間に等価であり、およ
び、３０１ａ〜３０１ｄは１００％持続時間に等価であ
る。正確に１：２：３：４比でかつ殆ど不鮮明さなし
に、このことを達成するために、図３ｂに示されている
ように、光は０％に近いデューティ・サイクルを有しな
ければならない。さらに高いデューティ・サイクルは、
感光表面の移動のために、不鮮明を生じ、および、パル
ス持続時間に対し得られる比に影響を与えるであろう。
【００２９】パルス持続時間変調に対するこれらの方法
はいずれも、長方形の画素を用いることにより、利点が
得られる。長方形の画素は、アイソモルフィック光学装
置を備えた空間光変調器アレイの上の長方形の画素から
得ることができる、または、アナモルフィック光学装置
を備えた正方形の画素から得ることができる。アナモル
フィック光学装置は、ＤＭＤのような正方形の画素の縦
寸法を圧縮し、そして、横寸法をそのままにする。この
ことにより、パルス持続時間変調で説明したものと非常
に似た長方形の画素が形成される。けれども、このこと
を達成するために、画素の寸法とアナモルフィック圧縮
因子との積に等しい幅の間隔だけ分離されたミラー行を
有する、特別のアレイ（例えば、４：１縦横比の場合、
これらの行は４画素幅だけ離れるであろう）が製造され
るであろう。このことにより、印刷された画素が重なら
ない、パルス持続時間印刷が可能であるであろう。この
特別のアレイは、図３ａに示された真のパルス持続時間
変調に対してのみ必要であるであろう。図３ｂは隣接し
たミラ−を使用する。したがって、この特別のアレイを
必要としない。
【００３０】パルス持続時間変調を変更して、パルス位
置変調を得ることができる。この場合には、持続時間が
一定であるが、光源がオンになる時刻が遅延する。図３
ｃはこの例を示す。開始時刻が、４つの異なる時刻に遅
延されているのが示されている。それにより、媒体の上
の異なる位置に、パルスがあることができる。露光３２
０ａ〜３２０ｄは位相と呼ばれる。
【００３１】図４は、位相の実行を示す。それにより、
画素の画像を位相に分割することができる。そして、重
ならない位相を一緒に印刷する。この例は４個の位相を
用いているが、他の個数の位相、例えば、６個の位相を
用いることができる。第１位相、第３位相、および、第
５位相が一緒に印刷され、そして、第２位相、第４位
相、および、第６位相が一緒に印刷される。または、３
個の露光に対し、一度に２個の位相で画素を印刷するこ
とができる。マクロ画素Ｐは、４個の位相φ1 〜φ4 を
有する。ｔ1 において、これらは相互にずれているか
ら、位相φ1 および位相φ3 が長方形の形状に一緒に印
刷される。ｔ2 において、位相φ2 および位相φ4 が一
緒に印刷される。この工程により、マクロ画素Ｐの４個
の位相を、４段階の代わりに２段階で印刷することがで
きる。その結果、ｔ3 に画像が得られる。トナーの密度
レベルに応じて、さらに広いまたはさらに細い画素が濃
度階調として現れることができる。多数個の密度レベル
を有するトナーと、マクロ画素の中の位相を選定する性
能との組み合わせにより、濃度階調を得るのに、さらに
大きな柔軟性を得ることができる。
【００３２】前記技術を組み合わせることにより、２進
空間光変調器を用いて、高い分解能（６００ｄｐｉ）の
濃度階調を得ることができる。パルス振幅変調とパルス
位置変調との組み合わせが、図５に示されている。括弧
５１０、５１２、５１４、５１６、および、５１８の組
のおのおのは、４個の露光レベルの１つを表す。説明の
目的のために、画素１、５２０、が媒体を横切って追跡
されるであろう。垂直方向の移動は媒体の工程方向であ
り、および、水平方向の移動は時間であることに注意さ
れたい。画素対のまわりの点線のボックスは、それらが
印刷される時、位相がどのように重なるかを示す。
【００３３】画素１、５２０、は、括弧５１０の左の列
の中で完全出力で、位相１および位相３として露光され
る。時間軸５３０上の時間間隔ｔ1 により示された１ラ
イン時間の３／４後に、位相２および位相１が完全出力
で露光される。この時間遅延はライン時間の１／４だけ
ずれていなければならなく、それにより、２個の位相対
の間に１／４画素のずれが可能であり、その結果、図４
で説明されたように、１ライン時間の３／４に等しいｔ
1 が生ずる。そこでの説明のように、これらの位相はオ
ンまたはオフであることができ、そして、露光は単に、
光がドラムに転送される可能性を表す。
【００３４】マクロ画素は、完全照射レベルに対し、４
個のすべての位相で、または、両方の位相対で、露光さ
れる。括弧５１２は、完全照射の１／２での露光を表
す。時間軸上の時間間隔ｔ2 により示された括弧５１０
と括弧５１２との間の遅延は、１ライン時間の５／４で
ある。画素は、図２で説明されたように、マクロ画素を
有する次の素子、または、次の素子の組に転送される。
再び、位相対の間のずれを達成するために、余分の１／
４ライン時間が必要である。次に、括弧５１８の中で、
１／８レベルの照射のための位相対を受け取るまで、こ
の特定のマクロ画素に対し、ライン５２４に沿って、こ
の工程が繰り返される。その時点で、その特定のマクロ
画素がその行の組に対し完成する。前記の表で説明され
たように、画素はその行の組の繰り返しを受け取ること
ができる。
【００３５】括弧５１０の右の列において、画素２に対
する位相２が露光されることに注目されたい。括弧５１
８の右の列の位置５２６まで位相４が完全出力の露光を
受け取らない以外は、画素１、５２０、と同じコースを
辿る。このサイクルが、列の中の画素のおのおのの間で
起こる。この技術は、４個の画素にだけ限定されるわけ
ではない。前記で説明したように、設計者が必要とする
多数個の画素に対して実行することができる。アレイと
電子装置との性能によってのみ、この技術が制限を受け
る。
【００３６】前記において、２進空間光変調器を用いて
濃度階調印刷を行う特定の実施例が説明されたけれど
も、このことは、本発明の範囲がこれらの実施例に限定
されることを意味するものではない。
【００３７】以上の説明に関して更に以下の項を開示す
る。 （１）（イ） 予め定められた数の行を備えた部分アレ
イを有する空間光変調器を備える段階と、（ロ） 画素
に対する光源の露光レベルに対応するデータを前記アレ
イの素子に対する、アドレス指定回路にロードする段階
と、（ハ） 感光媒体の上に前記データを選択的に結像
するまたは結像しないために、前記素子を前記露光レベ
ルで露光する段階と、（ニ） 前記光源の次の露光レベ
ルに対応するデータをロードする段階であって、前記部
分アレイの中の前記データの移動を前記媒体の移動と整
合させるために、前記データを異なる素子に対する回路
の中にロードすることができる、前記ロードする段階
と、（ホ） 前記感光媒体の上に前記データを選択的に
結像するまたは結像しないために、前記次の露光レベル
で前記素子を露光する段階と、（ヘ） 予め定められた
数の露光レベルのすべてに対して前記素子が露光される
まで、前記ロード段階および前記露光段階を繰り返す段
階と、を有する、パルス振幅変調の方法。
【００３８】（２） 第１項記載の方法において、前記
空間光変調器がディジタル・マイクロミラー装置を有す
る、前記方法。 （３） 第１項記載の方法において、行の前記予め定め
られた数が４である、前記方法。 （４）（イ） 移動する媒体の上に画素の像を生ずるた
めに、空間光変調器アレイの素子を作動する段階と、
（ロ） 前記作動段階の後予め定められた時間間隔の間
前記素子を作動しない段階であって、前記予め定められ
た時間間隔が移動する前記媒体の移動の方向の前記画素
の寸法を定める、前記素子を作動しない前記段階と、を
有する、パルス持続時間変調の方法。
【００３９】（５） 第４項記載の方法において、前記
作動する段階および前記作動しない段階が、それぞれ、
光源をオンおよびオフにすることにより達成される、前
記方法。 （６） 第４項記載の方法において、前記作動する段階
および前記作動しない段階が、それぞれ、前記素子をオ
ンおよびオフにすることにより達成される、前記方法。 （７）（イ） 空間光変調器アレイの予め定められた数
の素子をマクロ画素が有するように定める段階と、
（ロ） 前記予め定められた数の素子の隣接する部分組
を選定する段階であって、前記パルスの持続時間が前記
予め定められた数の部分組の寸法に比例する、前記段階
と、を有する、パルス持続時間変調の方法。
【００４０】（８） 第７項記載の方法において、前記
空間光変調器がディジタル・マイクロミラー装置を有す
る、前記方法。 （９） 第７項記載の方法において、前記パルスの持続
時間を決定することにより、および、前記パルスをオン
にする時刻を遅延することにより、前記パルスの位置が
定められる、前記方法。 （１０）（イ） 画素を工程方向の位相の数に分割する
段階であって、前記画素の中の位相の前記数の逆数に事
実上等価な長さだけ、前記位相のおのおのが隣接する位
相からずれている、前記分割段階と、（ロ） 前記位相
の部分組を露光する段階であって、少なくとも１つの位
相だけ相互に離れた位相を前記部分組が有する、前記露
光段階と、（ハ） 前記画素に対し与えられた照射レベ
ルで露光を完了するために、以前に露光された位相を露
光する段階と、を有する、パルス位置変調の方法。
【００４１】（１１） ２進空間光変調器で、高分解能
で高速の濃度階調印刷を達成する技術が提供される。空
間光変調器アレイが部分アレイに分割される。これらの
部分アレイが、変調された光源の種々のレベル５１０、
５１２、５１４、５１６で照射される。さらに、画素５
２０のおのおのが、４個の位相に分割されることがで
き、および位相の対で印刷することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】行集積印刷の図。
【図２】パルス振幅変調の例を示した図であって、ａ〜
ｆは順次の段階を示す図。
【図３】パルス持続時間変調の例を示した図であって、
ａ〜ｃは順次の段階を示す図。
【図４】パルス位置変調の概要図。
【図５】パルス位置変調とパルス振幅変調とを組み合わ
せた例の図。
【符号の説明】
１，２，３，４，５ 素子 １１０，１１６ 素子 ３０１ａ，３０１ｂ，３０１ｃ，３０１ｄ 素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/10 Ａ Ｈ０４Ｎ 1/405 4226−5Ｃ Ｈ０４Ｎ 1/40 Ｂ (72)発明者 ジェームス エム．フローレンス アメリカ合衆国テキサス州リチャードソ ン，ウォルナット クリーク プレース ４ (72)発明者 ウィリアム イー．ネルソン アメリカ合衆国テキサス州ダラス，アバロ ン アベニュー 6745 (72)発明者 バァドラマンティ ベンカテスワー アメリカ合衆国テキサス州ダラス，マッカ ラム ブールバード 7825，アパートメン ト ナンバー 1203 (72)発明者 ジェームス セント クレアー アメリカ合衆国テキサス州リチャードソ ン，シャディ ウッド レーン 607 (72)発明者 ダーク ブロディン ベルギー国モルトセル，セップテストラー ト 27 (72)発明者 サージ エム．エフ．タバーニアー ベルギー国モルトセル，セップテストラー ト 27

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 （イ） 予め定められた数の行を備えた
    部分アレイを有する空間光変調器を備える段階と、
    （ロ） 前記アレイの素子に対し、画素に対する光源の
    露光レベルに対応するデータをアドレス指定回路にロー
    ドする段階と、（ハ） 感光媒体の上に前記データを選
    択的に結像するまたは結像しないために、前記素子を前
    記露光レベルで露光する段階と、（ニ） 前記光源の次
    の露光レベルに対応するデータをロードする段階であっ
    て、前記部分アレイの中の前記データの移動を前記媒体
    の移動と整合させるために、前記データを異なる素子に
    対する回路の中にロードすることができる、前記ロード
    する段階と、（ホ） 前記感光媒体の上に前記データを
    選択的に結像するまたは結像しないために、前記次の露
    光レベルで前記素子を露光する段階と、（ヘ） 予め定
    められた数の露光レベルのすべてに対して前記素子が露
    光されるまで、前記ロード段階および前記露光段階を繰
    り返す段階と、を有する、パルス振幅変調の方法。
JP5765894A 1993-03-29 1994-03-28 空間光変調器のための結合変調器方式 Pending JPH07125317A (ja)

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TW (1) TW243518B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013048235A (ja) * 2011-08-24 2013-03-07 Palo Alto Research Center Inc 空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成
JP2013049269A (ja) * 2011-08-24 2013-03-14 Palo Alto Research Center Inc 空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム

Families Citing this family (193)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6219015B1 (en) 1992-04-28 2001-04-17 The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images
US6674562B1 (en) 1994-05-05 2004-01-06 Iridigm Display Corporation Interferometric modulation of radiation
US5459492A (en) * 1993-08-30 1995-10-17 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for printing stroke and contone data together
US8014059B2 (en) 1994-05-05 2011-09-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for charge control in a MEMS device
US5615016A (en) * 1994-11-04 1997-03-25 Texas Instruments Incorporated Exposure scheme for minimizing microbanding inslm-based printers
US6074790A (en) * 1994-11-17 2000-06-13 Texas Instruments Incorporated Black and white defect correction for a digital micromirror printer
US5630027A (en) * 1994-12-28 1997-05-13 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for compensating horizontal and vertical alignment errors in display systems
US5841579A (en) 1995-06-07 1998-11-24 Silicon Light Machines Flat diffraction grating light valve
US5699168A (en) * 1995-06-22 1997-12-16 Texas Instruments Incorporated Grayscale printing with sliding window memory
KR100449129B1 (ko) * 1995-10-25 2005-01-24 인스트루먼츠 인코포레이티드 텍사스 조사시스템
US5841956A (en) * 1996-01-05 1998-11-24 Texas Instruments Incorporated Anti-aliasing for digital printing with dot shape modulation and greyscale
EP0785524A3 (en) 1996-01-05 1999-01-13 Texas Instruments Incorporated Printing with dot shape modulation and greyscale
EP0789482B1 (en) * 1996-02-09 2001-12-19 Xeikon Nv Uniform exposure of photosensitive medium by square intensity profiles for printing
US7471444B2 (en) 1996-12-19 2008-12-30 Idc, Llc Interferometric modulation of radiation
US5982553A (en) 1997-03-20 1999-11-09 Silicon Light Machines Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array
US6421393B1 (en) 1997-10-16 2002-07-16 Clearcube Technology, Inc. Technique to transfer multiple data streams over a wire or wireless medium
US6088102A (en) 1997-10-31 2000-07-11 Silicon Light Machines Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system
EP0933925A3 (en) * 1997-12-31 2002-06-26 Texas Instruments Inc. Photofinishing utilizing modulated light source array
WO1999052006A2 (en) 1998-04-08 1999-10-14 Etalon, Inc. Interferometric modulation of radiation
US8928967B2 (en) 1998-04-08 2015-01-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for modulating light
US6271808B1 (en) 1998-06-05 2001-08-07 Silicon Light Machines Stereo head mounted display using a single display device
US6130770A (en) 1998-06-23 2000-10-10 Silicon Light Machines Electron gun activated grating light valve
US6101036A (en) 1998-06-23 2000-08-08 Silicon Light Machines Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display
US6215579B1 (en) 1998-06-24 2001-04-10 Silicon Light Machines Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
US6215547B1 (en) 1998-11-19 2001-04-10 Eastman Kodak Company Reflective liquid crystal modulator based printing system
US6391245B1 (en) 1999-04-13 2002-05-21 Eom Technologies, L.L.C. Method for creating three-dimensional objects by cross-sectional lithography
WO2003007049A1 (en) 1999-10-05 2003-01-23 Iridigm Display Corporation Photonic mems and structures
US6330018B1 (en) 1999-12-22 2001-12-11 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing high resolution images using reflective LCD modulators
JP4052542B2 (ja) * 2000-02-25 2008-02-27 富士フイルム株式会社 プリンタ
US6500378B1 (en) 2000-07-13 2002-12-31 Eom Technologies, L.L.C. Method and apparatus for creating three-dimensional objects by cross-sectional lithography
US6407766B1 (en) 2000-07-18 2002-06-18 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing to a photosensitive media using multiple spatial light modulators
US6646716B1 (en) 2000-07-27 2003-11-11 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing multiple simultaneous images onto a photosensitive media
US6552740B1 (en) 2000-08-01 2003-04-22 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing monochromatic imaging using a spatial light modulator
US6480259B1 (en) 2000-09-28 2002-11-12 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing monochromatic images using a spatial light modulator having a selectable light source
JP2002120400A (ja) * 2000-10-17 2002-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd 画像記録方法及び装置
US6614462B1 (en) 2000-10-19 2003-09-02 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing high resolution images using reflective LCD modulators
US6580490B1 (en) 2000-10-30 2003-06-17 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing images in multiple formats using a spatial light modulator
EP1206115A3 (en) * 2000-11-14 2004-02-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image recording method and image recording apparatus
US6624880B2 (en) 2001-01-18 2003-09-23 Micronic Laser Systems Ab Method and apparatus for microlithography
US6930797B2 (en) 2001-02-27 2005-08-16 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing high resolution images using multiple reflective spatial light modulators
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6589625B1 (en) 2001-08-01 2003-07-08 Iridigm Display Corporation Hermetic seal and method to create the same
US6829092B2 (en) 2001-08-15 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Blazed grating light valve
US6980321B2 (en) * 2001-08-20 2005-12-27 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing high resolution images using multiple reflective spatial light modulators
US6778290B2 (en) 2001-08-23 2004-08-17 Eastman Kodak Company Printing image frames corresponding to motion pictures
US6980280B2 (en) * 2001-10-12 2005-12-27 Eastman Kodak Company Two level image writer
TW556043B (en) 2001-11-30 2003-10-01 Asml Netherlands Bv Imaging apparatus, device manufacturing method and device manufactured by said method
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
US6855482B2 (en) * 2002-04-09 2005-02-15 Day International, Inc. Liquid transfer articles and method for producing the same using digital imaging photopolymerization
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
KR101087930B1 (ko) * 2002-08-24 2011-11-28 매스크리스 리소그래피 인코퍼레이티드 연속적인 직접-기록 광 리소그래피 장치 및 방법
US6734889B2 (en) 2002-09-10 2004-05-11 Eastman Kodak Company Color printer comprising a linear grating spatial light modulator
US7781850B2 (en) 2002-09-20 2010-08-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Controlling electromechanical behavior of structures within a microelectromechanical systems device
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
US6751005B1 (en) 2002-12-20 2004-06-15 Eastman Kodak Company Compensating for pixel defects by spatial translation of scene content
US7369268B2 (en) * 2003-01-14 2008-05-06 Eastman Kodak Company Light source using large area LEDs
US7417782B2 (en) 2005-02-23 2008-08-26 Pixtronix, Incorporated Methods and apparatus for spatial light modulation
US6917462B2 (en) * 2003-02-24 2005-07-12 Eastman Kodak Company Method and apparatus for translating a spatial light modulator to provide dithering
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US7042483B2 (en) * 2003-03-10 2006-05-09 Eastman Kodak Company Apparatus and method for printing using a light emissive array
US6836284B2 (en) * 2003-04-01 2004-12-28 Tri-Star Technologies Laser marking using a digital micro-mirror device
TW570896B (en) 2003-05-26 2004-01-11 Prime View Int Co Ltd A method for fabricating an interference display cell
US6975339B2 (en) * 2003-05-31 2005-12-13 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Electrostatic-writing mechanism having micromirrors to selectively direct light onto optical photoconductor mechanism
US7307764B2 (en) * 2003-07-16 2007-12-11 Eastman Kodak Company Apparatus and method for controlled movement of pixel imaging device
US7023463B2 (en) * 2003-07-22 2006-04-04 Eastman Kodak Company Method and apparatus for printing images from digital image data
US6999227B2 (en) * 2003-10-31 2006-02-14 Intel Corporation Projection system
JP2007515309A (ja) * 2003-11-03 2007-06-14 パンチ グラフィックス プレプレス ジャーマニー ゲーエムベーハー デジタル露光する装置および方法
US7012726B1 (en) 2003-11-03 2006-03-14 Idc, Llc MEMS devices with unreleased thin film components
US7142346B2 (en) 2003-12-09 2006-11-28 Idc, Llc System and method for addressing a MEMS display
US7161728B2 (en) 2003-12-09 2007-01-09 Idc, Llc Area array modulation and lead reduction in interferometric modulators
US7706050B2 (en) 2004-03-05 2010-04-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Integrated modulator illumination
US7224379B2 (en) * 2004-05-03 2007-05-29 Eastman Kodak Company Printer using direct-coupled emissive array
US7164520B2 (en) 2004-05-12 2007-01-16 Idc, Llc Packaging for an interferometric modulator
US7515147B2 (en) 2004-08-27 2009-04-07 Idc, Llc Staggered column drive circuit systems and methods
US7499208B2 (en) 2004-08-27 2009-03-03 Udc, Llc Current mode display driver circuit realization feature
US7560299B2 (en) 2004-08-27 2009-07-14 Idc, Llc Systems and methods of actuating MEMS display elements
US7551159B2 (en) 2004-08-27 2009-06-23 Idc, Llc System and method of sensing actuation and release voltages of an interferometric modulator
US7889163B2 (en) 2004-08-27 2011-02-15 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Drive method for MEMS devices
US7602375B2 (en) 2004-09-27 2009-10-13 Idc, Llc Method and system for writing data to MEMS display elements
US7289256B2 (en) 2004-09-27 2007-10-30 Idc, Llc Electrical characterization of interferometric modulators
US7345805B2 (en) 2004-09-27 2008-03-18 Idc, Llc Interferometric modulator array with integrated MEMS electrical switches
US7719500B2 (en) 2004-09-27 2010-05-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Reflective display pixels arranged in non-rectangular arrays
US7668415B2 (en) 2004-09-27 2010-02-23 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for providing electronic circuitry on a backplate
US7653371B2 (en) 2004-09-27 2010-01-26 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Selectable capacitance circuit
US8124434B2 (en) 2004-09-27 2012-02-28 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for packaging a display
US7355780B2 (en) 2004-09-27 2008-04-08 Idc, Llc System and method of illuminating interferometric modulators using backlighting
US7372613B2 (en) 2004-09-27 2008-05-13 Idc, Llc Method and device for multistate interferometric light modulation
US7545550B2 (en) 2004-09-27 2009-06-09 Idc, Llc Systems and methods of actuating MEMS display elements
US7684104B2 (en) 2004-09-27 2010-03-23 Idc, Llc MEMS using filler material and method
US7626581B2 (en) 2004-09-27 2009-12-01 Idc, Llc Device and method for display memory using manipulation of mechanical response
US7310179B2 (en) 2004-09-27 2007-12-18 Idc, Llc Method and device for selective adjustment of hysteresis window
US7446927B2 (en) 2004-09-27 2008-11-04 Idc, Llc MEMS switch with set and latch electrodes
US7710629B2 (en) 2004-09-27 2010-05-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for display device with reinforcing substance
US7692839B2 (en) 2004-09-27 2010-04-06 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of providing MEMS device with anti-stiction coating
US20060176487A1 (en) 2004-09-27 2006-08-10 William Cummings Process control monitors for interferometric modulators
US7532195B2 (en) 2004-09-27 2009-05-12 Idc, Llc Method and system for reducing power consumption in a display
US7944599B2 (en) 2004-09-27 2011-05-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Electromechanical device with optical function separated from mechanical and electrical function
US8008736B2 (en) 2004-09-27 2011-08-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Analog interferometric modulator device
US7843410B2 (en) 2004-09-27 2010-11-30 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and device for electrically programmable display
US7415186B2 (en) 2004-09-27 2008-08-19 Idc, Llc Methods for visually inspecting interferometric modulators for defects
US7893919B2 (en) 2004-09-27 2011-02-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Display region architectures
US7136213B2 (en) 2004-09-27 2006-11-14 Idc, Llc Interferometric modulators having charge persistence
US20060076634A1 (en) 2004-09-27 2006-04-13 Lauren Palmateer Method and system for packaging MEMS devices with incorporated getter
US7701631B2 (en) 2004-09-27 2010-04-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Device having patterned spacers for backplates and method of making the same
US7359066B2 (en) 2004-09-27 2008-04-15 Idc, Llc Electro-optical measurement of hysteresis in interferometric modulators
US7724993B2 (en) 2004-09-27 2010-05-25 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS switches with deforming membranes
US7417735B2 (en) 2004-09-27 2008-08-26 Idc, Llc Systems and methods for measuring color and contrast in specular reflective devices
US8310441B2 (en) 2004-09-27 2012-11-13 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for writing data to MEMS display elements
US7675669B2 (en) 2004-09-27 2010-03-09 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for driving interferometric modulators
US7920135B2 (en) 2004-09-27 2011-04-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method and system for driving a bi-stable display
US7583429B2 (en) 2004-09-27 2009-09-01 Idc, Llc Ornamental display device
US7486429B2 (en) 2004-09-27 2009-02-03 Idc, Llc Method and device for multistate interferometric light modulation
US7679627B2 (en) 2004-09-27 2010-03-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Controller and driver features for bi-stable display
US7936497B2 (en) 2004-09-27 2011-05-03 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device having deformable membrane characterized by mechanical persistence
US7813026B2 (en) 2004-09-27 2010-10-12 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of reducing color shift in a display
US7916103B2 (en) 2004-09-27 2011-03-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for display device with end-of-life phenomena
US8878825B2 (en) 2004-09-27 2014-11-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for providing a variable refresh rate of an interferometric modulator display
US7808703B2 (en) 2004-09-27 2010-10-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for implementation of interferometric modulator displays
US7420725B2 (en) 2004-09-27 2008-09-02 Idc, Llc Device having a conductive light absorbing mask and method for fabricating same
US7453579B2 (en) 2004-09-27 2008-11-18 Idc, Llc Measurement of the dynamic characteristics of interferometric modulators
US7424198B2 (en) 2004-09-27 2008-09-09 Idc, Llc Method and device for packaging a substrate
US7289259B2 (en) 2004-09-27 2007-10-30 Idc, Llc Conductive bus structure for interferometric modulator array
US7369150B2 (en) * 2005-02-02 2008-05-06 Infoprint Solutions Company, Llc Method, system and program product for amplitude modulated multiple pel print quality enhancement
US20070205969A1 (en) 2005-02-23 2007-09-06 Pixtronix, Incorporated Direct-view MEMS display devices and methods for generating images thereon
US9082353B2 (en) 2010-01-05 2015-07-14 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US9158106B2 (en) 2005-02-23 2015-10-13 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US8519945B2 (en) 2006-01-06 2013-08-27 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7304786B2 (en) 2005-02-23 2007-12-04 Pixtronix, Inc. Methods and apparatus for bi-stable actuation of displays
US7746529B2 (en) 2005-02-23 2010-06-29 Pixtronix, Inc. MEMS display apparatus
US7755582B2 (en) 2005-02-23 2010-07-13 Pixtronix, Incorporated Display methods and apparatus
US9261694B2 (en) 2005-02-23 2016-02-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US8159428B2 (en) 2005-02-23 2012-04-17 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US8482496B2 (en) 2006-01-06 2013-07-09 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling MEMS display apparatus on a transparent substrate
US8310442B2 (en) 2005-02-23 2012-11-13 Pixtronix, Inc. Circuits for controlling display apparatus
US7999994B2 (en) 2005-02-23 2011-08-16 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US7405852B2 (en) 2005-02-23 2008-07-29 Pixtronix, Inc. Display apparatus and methods for manufacture thereof
US7304785B2 (en) 2005-02-23 2007-12-04 Pixtronix, Inc. Display methods and apparatus
US9229222B2 (en) 2005-02-23 2016-01-05 Pixtronix, Inc. Alignment methods in fluid-filled MEMS displays
US7920136B2 (en) 2005-05-05 2011-04-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method of driving a MEMS display device
US7948457B2 (en) 2005-05-05 2011-05-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods of actuating MEMS display elements
KR20080027236A (ko) 2005-05-05 2008-03-26 콸콤 인코포레이티드 다이나믹 드라이버 ｉｃ 및 디스플레이 패널 구성
US7742148B2 (en) * 2005-06-08 2010-06-22 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method for writing a digital image
EP2495212A3 (en) * 2005-07-22 2012-10-31 QUALCOMM MEMS Technologies, Inc. Mems devices having support structures and methods of fabricating the same
US7355779B2 (en) 2005-09-02 2008-04-08 Idc, Llc Method and system for driving MEMS display elements
US8391630B2 (en) 2005-12-22 2013-03-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for power reduction when decompressing video streams for interferometric modulator displays
US7795061B2 (en) 2005-12-29 2010-09-14 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of creating MEMS device cavities by a non-etching process
US20070153080A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 Eastman Kodak Company High-speed continuous film writer
US7636151B2 (en) 2006-01-06 2009-12-22 Qualcomm Mems Technologies, Inc. System and method for providing residual stress test structures
US7916980B2 (en) 2006-01-13 2011-03-29 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Interconnect structure for MEMS device
US20070182809A1 (en) 2006-02-07 2007-08-09 Eastman Kodak Company Printing image frames corresponding to motion pictures
US8194056B2 (en) 2006-02-09 2012-06-05 Qualcomm Mems Technologies Inc. Method and system for writing data to MEMS display elements
US7547568B2 (en) * 2006-02-22 2009-06-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Electrical conditioning of MEMS device and insulating layer thereof
US8526096B2 (en) 2006-02-23 2013-09-03 Pixtronix, Inc. Mechanical light modulators with stressed beams
US7903047B2 (en) 2006-04-17 2011-03-08 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Mode indicator for interferometric modulator displays
US7711239B2 (en) 2006-04-19 2010-05-04 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Microelectromechanical device and method utilizing nanoparticles
US8049713B2 (en) 2006-04-24 2011-11-01 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Power consumption optimized display update
US7649671B2 (en) 2006-06-01 2010-01-19 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Analog interferometric modulator device with electrostatic actuation and release
US7876489B2 (en) 2006-06-05 2011-01-25 Pixtronix, Inc. Display apparatus with optical cavities
US7702192B2 (en) 2006-06-21 2010-04-20 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Systems and methods for driving MEMS display
US7835061B2 (en) 2006-06-28 2010-11-16 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Support structures for free-standing electromechanical devices
US7777715B2 (en) 2006-06-29 2010-08-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Passive circuits for de-multiplexing display inputs
US7527998B2 (en) 2006-06-30 2009-05-05 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Method of manufacturing MEMS devices providing air gap control
US7388704B2 (en) 2006-06-30 2008-06-17 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Determination of interferometric modulator mirror curvature and airgap variation using digital photographs
US7763546B2 (en) 2006-08-02 2010-07-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods for reducing surface charges during the manufacture of microelectromechanical systems devices
EP2080045A1 (en) 2006-10-20 2009-07-22 Pixtronix Inc. Light guides and backlight systems incorporating light redirectors at varying densities
US7706042B2 (en) 2006-12-20 2010-04-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS device and interconnects for same
US7852546B2 (en) 2007-10-19 2010-12-14 Pixtronix, Inc. Spacers for maintaining display apparatus alignment
US9176318B2 (en) 2007-05-18 2015-11-03 Pixtronix, Inc. Methods for manufacturing fluid-filled MEMS displays
US7719752B2 (en) 2007-05-11 2010-05-18 Qualcomm Mems Technologies, Inc. MEMS structures, methods of fabricating MEMS components on separate substrates and assembly of same
US8248560B2 (en) 2008-04-18 2012-08-21 Pixtronix, Inc. Light guides and backlight systems incorporating prismatic structures and light redirectors
US8169679B2 (en) 2008-10-27 2012-05-01 Pixtronix, Inc. MEMS anchors
US8736590B2 (en) 2009-03-27 2014-05-27 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Low voltage driver scheme for interferometric modulators
KR20120139854A (ko) 2010-02-02 2012-12-27 픽스트로닉스 인코포레이티드 디스플레이 장치를 제어하기 위한 회로
CN102834763B (zh) 2010-02-02 2015-07-22 皮克斯特罗尼克斯公司 用于制造填充冷密封流体的显示装置的方法
EP2545544A1 (en) 2010-03-11 2013-01-16 Pixtronix, Inc. Reflective and transflective operation modes for a display device
JP2013524287A (ja) 2010-04-09 2013-06-17 クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド 電気機械デバイスの機械層及びその形成方法
US9134527B2 (en) 2011-04-04 2015-09-15 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Pixel via and methods of forming the same
US8963159B2 (en) 2011-04-04 2015-02-24 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Pixel via and methods of forming the same
US8749538B2 (en) 2011-10-21 2014-06-10 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Device and method of controlling brightness of a display based on ambient lighting conditions
JP5957993B2 (ja) * 2012-03-16 2016-07-27 ブラザー工業株式会社 制御装置およびプログラム
US9183812B2 (en) 2013-01-29 2015-11-10 Pixtronix, Inc. Ambient light aware display apparatus
US9134552B2 (en) 2013-03-13 2015-09-15 Pixtronix, Inc. Display apparatus with narrow gap electrostatic actuators
CN106545568A (zh) * 2016-08-31 2017-03-29 马鞍山支点传孚智能摩擦工业研究院有限公司 一种滚动推力球轴承
CN112019824B (zh) * 2019-05-30 2023-04-11 深圳光峰科技股份有限公司 显示设备

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2587572B1 (fr) * 1985-03-20 1994-02-18 Canon Kk Appareil et procede de traitement d'images
US4698602A (en) * 1985-10-09 1987-10-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Micromirror spatial light modulator
US5105280A (en) * 1989-01-12 1992-04-14 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Image forming device which can form an image by printing a plurality of pixel unit areas which are composed of multiple sub pixels
JP3155538B2 (ja) * 1989-05-30 2001-04-09 株式会社リコー レーザの多階調書き込み装置
US4978950A (en) * 1989-07-14 1990-12-18 The Boeing Company Grey-scale representation using binary spatial light modulators in coherent optical processor
US5258780A (en) * 1990-05-09 1993-11-02 Ricoh Company, Ltd. Beam recorder forming low density dots
US5357273A (en) * 1991-07-29 1994-10-18 Xerox Corporation Resolution conversion via intensity controlled overscanned illumination for optical printers and the like having high gamma photosensitive recording media
EP0540221B1 (en) * 1991-11-01 1998-12-16 Konica Corporation Image forming apparatus
US5285407A (en) * 1991-12-31 1994-02-08 Texas Instruments Incorporated Memory circuit for spatial light modulator

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013048235A (ja) * 2011-08-24 2013-03-07 Palo Alto Research Center Inc 空間光変調器およびアナモルフィック投影光学系を用いるマルチライン単一パス画像形成
JP2013049269A (ja) * 2011-08-24 2013-03-14 Palo Alto Research Center Inc 空間光変調器およびアナモフィック投影光学を用いた単一通過画像形成システム

Also Published As

Publication number Publication date
EP0620676B1 (en) 2000-05-31
EP0620676A1 (en) 1994-10-19
TW243518B (ja) 1995-03-21
KR940021264A (ko) 1994-10-17
DE69424714T2 (de) 2001-02-01
KR100296067B1 (ko) 2002-03-21
CA2118728A1 (en) 1994-09-30
DE69424714D1 (de) 2000-07-06
US5461411A (en) 1995-10-24
CN1097069A (zh) 1995-01-04
CN1055588C (zh) 2000-08-16

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