JP2013044041A - スプラインシャフトのdlc被膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空室60内において、柱状のプラズマ70aの周囲に複数のスプラインシャフト10を配置すると共に、柱延在方向に複数のスプラインシャフト10を同軸状に並べて配置する。同軸状に並べて配置された複数のスプラインシャフト10は、それぞれの雄スプライン部16の間に軸方向隙間が形成されるように配置される。複数の雄スプライン部16の軸方向隙間は、プラズマ70aの柱延在方向の中央部に位置するようにする。
【選択図】図5
Description
(請求項3)また、前記スプラインシャフトは、前記雄スプライン部と、他部材と連結可能なU字形状に形成されると共に前記雄スプライン部と別体にて形成された後に前記雄スプライン部に一体的に接合されるヨーク部とを備え、前記真空室内には、前記スプラインシャフトのうち前記雄スプライン部のみを配置し、前記真空室内にて前記柱延在方向に並べて配置される複数の前記雄スプライン部は、4以上であり、前記柱延在方向の中央部寄りに配置された2つの前記雄スプライン部の間には、前記軸方向隙間が形成され、前記柱延在方向の中央部以外に配置された2つの前記雄スプライン部は、当接した状態で配置されるようにしてもよい。
(請求項6)また、前記第一群の前記雄スプライン部と前記第二群の前記雄スプライン部とは、前記柱延在方向に同一位置に配置されるようにしてもよい。
(請求項3)プラズマの柱延在方向の中央部以外に配置された2つのスプラインシャフトの雄スプライン部を当接した状態で配置することで、確実に、多くのスプラインシャフトの雄スプライン部を真空室内に配置することができる。
(プロペラシャフトの構成)
本発明のスプラインシャフトとして、車両のプロペラシャフトの第一シャフトを例に挙げて説明する。プロペラシャフトの構成について、図1〜図4を参照して説明する。プロペラシャフト1は、エンジンからディファレンシャル装置へ動力を伝達するためのシャフトである。このプロペラシャフト1には、駆動方式によって異なるが、フロントプロペラシャフトとリアプロペラシャフトがある。これらは、何れも、エンジンとディファレンシャル装置との間を連結しており、車両前後方向に延びるように配置されている。
次に、第一シャフト10の雄スプライン部16の表面処理を施す熱陰極PIGプラズマ装置50について、図5および図6を参照して説明する。熱陰極PIGプラズマ装置は、熱陰極PIGプラズマを発生させた状態で、雄スプライン部16の基材16aの表面側に、PVD法によって中間層被膜16bを形成すると共に、CVD法によってDLC被膜16cを形成する装置である。
次に、真空室60内において、複数の雄スプライン部16の配置について、図5および図6を参照して説明する。それぞれの支柱114に、4つの雄スプライン部16を挿通させる。つまり、真空室60内において、プラズマ70aの周囲に複数の雄スプライン部16を配置すると共に、プラズマ70aの柱延在方向に複数列の雄スプライン部を同軸状に並べて配置している。
次に、雄スプライン部16の表面処理方法について図7のフローチャートを参照して説明する。まず、モータ113を駆動すると共に、ヒータ140に通電して、被処理物としての雄スプライン部16を加熱する。これによって、雄スプライン部16の脱ガス処理を行う(S1)。
次に、同一の支柱114に並べて配置された第一列から第四列の雄スプライン部16のDLC被膜16cの膜厚について、図8を参照して説明する。図8において、縦軸を真空室60における軸方向(図5の上下方向)の位置とし、横軸を雄スプライン部16のDLC被膜16cの膜厚とする。
第二実施形態におけるDLC被膜16cの形成方法について説明する。本実施形態においては、真空室60内に配置する被処理物は、図2に示す第一シャフト10である。つまり、第一ヨーク部11と雄スプライン部16とが一体的に形成されている第一シャフト10を、真空室60内に配置する。
Claims (6)
- 熱陰極PIGプラズマCVD装置によってスプラインシャフトの雄スプライン部にDLC被膜を形成する方法であって、
前記熱陰極PIGプラズマCVD装置は、
前記スプラインシャフトを配置する真空室と、
プラズマガン、真空室内に配置された反射電極、前記プラズマガンを囲むように配置された第一コイル、および、前記第一コイルに対向し前記反射電極側に配置された第二コイルを含んで構成され、前記真空室に中央部が膨らんだ柱状のプラズマを形成させる熱陰極PIG型プラズマ源と、
前記真空室内へ前記DLC被膜の材料となる材料ガスを導入する材料ガス導入部と、
を備え、
前記真空室内において、前記柱状のプラズマの周囲に複数の前記スプラインシャフトを配置すると共に、前記柱延在方向に複数の前記スプラインシャフトを同軸状に並べて配置し、
同軸状に並べて配置された複数の前記スプラインシャフトは、それぞれの前記雄スプライン部の間に軸方向隙間が形成されるように配置され、
複数の前記雄スプライン部の軸方向隙間は、前記プラズマの前記柱延在方向の中央部に位置するスプラインシャフトのDLC被膜の形成方法。 - 請求項1において、
前記真空室内にて前記柱延在方向に並べて配置される複数の前記スプラインシャフトは、偶数本であるスプラインシャフトのDLC被膜の形成方法。 - 請求項2において、
前記スプラインシャフトは、前記雄スプライン部と、他部材と連結可能なU字形状に形成されると共に前記雄スプライン部と別体にて形成された後に前記雄スプライン部に一体的に接合されるヨーク部とを備え、
前記真空室内には、前記スプラインシャフトのうち前記雄スプライン部のみを配置し、
前記真空室内にて前記柱延在方向に並べて配置される複数の前記雄スプライン部は、4以上であり、
前記柱延在方向の中央部寄りに配置された2つの前記雄スプライン部の間には、前記軸方向隙間が形成され、
前記柱延在方向の中央部以外に配置された2つの前記雄スプライン部は、当接した状態で配置されるスプラインシャフトのDLC被膜の形成方法。 - 請求項1または2において、
前記スプラインシャフトは、前記雄スプライン部と、前記雄スプライン部に一体的に形成され他部材と連結するU字形状のヨーク部とを備え、
前記真空室内にて前記柱延在方向に並べて配置される複数の前記スプラインシャフトは、それぞれの前記ヨーク部を向かい合わせて軸方向に重なり合わせるように配置し、
前記プラズマの前記柱延在方向の中央部に位置するそれぞれの前記雄スプライン部の軸方向隙間には、それぞれの前記ヨーク部が配置されるスプラインシャフトのDLC被膜の形成方法。 - 請求項4において、
それぞれの前記ヨーク部を向かい合わせて前記柱延在方向に並べて配置される複数の前記スプラインシャフトを第一群とし、
それぞれの前記ヨーク部を外方に向けて前記柱延在方向に並べて配置される複数の前記スプラインシャフトを第二群とし、
柱状の前記プラズマの周囲に、前記第一群と前記第二群を周方向に交互に配置するスプラインシャフトのDLC被膜の形成方法。 - 請求項5において、
前記第一群の前記雄スプライン部と前記第二群の前記雄スプライン部とは、前記柱延在方向に同一位置に配置されるスプラインシャフトのDLC被膜の形成方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014176176A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Honda Motor Co Ltd | 動力伝達装置 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5889741B2 (ja) * | 2012-07-12 | 2016-03-22 | 日立オートモティブシステムズ九州株式会社 | アルミニウム合金製プロペラシャフトの摩擦圧接方法 |
JP6201125B2 (ja) * | 2013-04-18 | 2017-09-27 | 日本アイ・ティ・エフ株式会社 | ボールジョイントとその製造方法 |
JP6431303B2 (ja) * | 2014-07-03 | 2018-11-28 | 株式会社Screenホールディングス | エッチング装置およびエッチング方法 |
US9956985B2 (en) * | 2016-02-16 | 2018-05-01 | Steering Solutions Ip Holding Corporation | Steering shaft assembly |
US20180274100A1 (en) * | 2017-03-24 | 2018-09-27 | Applied Materials, Inc. | Alternating between deposition and treatment of diamond-like carbon |
US10882070B2 (en) | 2017-03-28 | 2021-01-05 | Steering Solutions Ip Holding Corporation | Method of manufacturing a steering shaft assembly |
CN108990245B (zh) * | 2018-06-04 | 2021-01-12 | 台州学院 | 一种小型面积可调等离子体源 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006169589A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Shinko Seiki Co Ltd | 表面処理装置 |
JP2011122663A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-06-23 | Jtekt Corp | プロペラシャフト |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007177955A (ja) | 2005-12-28 | 2007-07-12 | Toyota Motor Corp | プロペラシャフト |
JP2010190309A (ja) * | 2009-02-17 | 2010-09-02 | Jtekt Corp | 摺動部材 |
JP2011026660A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | Jtekt Corp | 摺動部材およびその製造方法 |
CN201746583U (zh) * | 2010-06-25 | 2011-02-16 | 合肥科烨电物理设备制造有限公司 | 一种潘宁放电离子源柔性材料真空镀膜电极 |
JP5665409B2 (ja) * | 2010-08-06 | 2015-02-04 | 株式会社ジェイテクト | 被膜の成膜方法 |
-
2011
- 2011-08-26 JP JP2011184372A patent/JP5808198B2/ja active Active
-
2012
- 2012-08-24 CN CN201210305330.2A patent/CN102953044B/zh active Active
- 2012-08-24 EP EP12181627.6A patent/EP2562289B1/en active Active
- 2012-08-24 US US13/594,133 patent/US9217196B2/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006169589A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Shinko Seiki Co Ltd | 表面処理装置 |
JP2011122663A (ja) * | 2009-12-10 | 2011-06-23 | Jtekt Corp | プロペラシャフト |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014176176A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Honda Motor Co Ltd | 動力伝達装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5808198B2 (ja) | 2015-11-10 |
EP2562289B1 (en) | 2017-06-07 |
CN102953044B (zh) | 2016-06-29 |
US20130220798A1 (en) | 2013-08-29 |
US9217196B2 (en) | 2015-12-22 |
EP2562289A1 (en) | 2013-02-27 |
CN102953044A (zh) | 2013-03-06 |
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