JP2013031641A - 放射線撮影装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】演算時間を増大させることなく、断層画像のコントラストが大きい部分でもアーチファクトが発生することのないフィルタ補正処理を行うことができる放射線撮影装置を提供する。
【解決手段】放射線撮影装置は、トモシンセシス撮影により撮影された被検者の複数枚の投影画像から、被検者の所定断面における断層画像を再構成するものであって、投影画像に対応する投影画像信号から、それぞれ周波数応答特性が異なる複数の帯域制限画像信号を作成する周波数フィルタ処理部と、帯域制限画像信号が所定値を超える部分が小さくなるように、帯域制限画像信号を非線形変換する非線形変換処理部と、非線形変換処理部により非線形変換された複数の帯域制限画像信号を積算して変換画像信号を作成する積算処理部と、複数の投影画像に対応する複数の変換画像信号から、被検者の所定断面における断層画像を再構成する逆投影処理部とを備える。
【選択図】図10

Description

本発明は、トモシンセシス撮影により複数枚の投影画像(放射線画像)を撮影し、撮影した複数枚の投影画像から、被検者の所定断面における断層画像を再構成する放射線撮影装置に関するものである。
トモシンセシス撮影では、例えば、放射線源を一方向に移動しながら被検者に異なる角度で放射線を照射し、被検者を透過した放射線を放射線検出器で検出することにより、撮影角度の異なる複数枚の投影画像を連続的に撮影する。そして、撮影した複数枚の投影画像を、注目構造物の位置が一致するようにシフトして対応する画素を重ね合わせることによって、被検者の所定断面における断層画像の再構成を行う。
トモシンセシス撮影では、撮影角度によって投影画像における構造物の重なり方が異なることを利用して、上記のように、投影画像を適切にずらしながら加算することによって、所望の断層面上の注目構造物が強調された画像(断層画像)を得る。
しかしながら、トモシンセシス撮影では、撮影角度の範囲が制限されることにより、奥行き方向の分離能力が制約され、再構成後の断層画像に注目構造物以外の構造物の影響によるアーチファクトが発生する場合があるという問題がある。
ここで、本発明に関連性のあると思われる先行技術文献として、特許文献1には、2枚の被写体の像からその動き量を測定するために、1枚の画像を4×6画素(ピクセル)毎の小領域に分割し、各小領域毎に2枚の画像の類似度を計算することが記載されている。また、特許文献2には、正規化相互相関法を用いて、テンプレート中の画像データとの類似性が高い探索領域中のサブ領域を決定することが記載されている。
また、再構成後の断層画像に対して、診断性能を向上させるために、高周波成分を強調する周波数強調処理や、断層画像に含まれる流れ像等の低周波成分を抑制する周波数抑制処理等の画像処理を施すことが提案されている(特許文献3参照)。
ここで、周波数強調処理は、断層画像の画像信号から、非鮮鋭マスク画像(断層画像の平均画像)の非鮮鋭マスク画像信号を減算して、高周波成分を含む周波数画像の画像信号を作成し、この周波数画像信号に強調係数を乗算して高周波成分を強調したものを、断層画像の画像信号に加算するものである(特許文献4,5参照)。これにより、断層画像における高周波数成分が強調される。
また、流れ像は、撮影対象とする焦点断面以外に存在する放射線透過線量の大きく変化した部分の像が、断層画像において放射線源の移動方向に沿って発生する障害陰影である(特許文献6参照)。周波数抑制処理は、例えば、再構成後の断層画像のうち、流れ像等に対応する低周波成分を除去することにより、流れ像等が除去された画像を生成するものである。
前述の周波数強調処理、周波数抑制処理等の画像処理を行うために、断層画像の再構成時に、フィルタ補正処理を行うフィルタ補正逆投影法(Filtered Back-Projection法)が知られている。このフィルタ補正処理では、図17(A)に示すような線形変換を行うフィルタ特性を有するランプフィルタや、このランプフィルタに、同図(B)に示すハニング窓等の窓関数を掛け合わせたものなどが一般的に使用されている。
フィルタ補正処理は、通常、高周波強調特性を有する線形フィルタで行われるが、高コントラスト信号の過強調により、金属等の周辺にオーバーシュートやアンダーシュートが生じたり、ノイズ成分が強調されたりして、断層画像にアーチファクトが発生するという問題がある。また、トモシンセシスの再構成の他の方法として代数的再構成法などの逐次近似法が知られているが、この方法は、演算時間が増大するという問題がある。
特開平5−49631号公報 特開平7−37074号公報 特許3816151号公報 特開昭55−163472号公報 特開昭55−87953号公報 特開平3−276265号公報
本発明の第1の目的は、演算時間を増大させることなく、断層画像のコントラストが大きい部分でもアーチファクトが発生することのないフィルタ補正処理を行うことができる放射線撮影装置を提供することにある。
また、本発明の第2の目的は、上記第1の目的に加えて、再構成後の断層画像に注目構造物以外の構造物の影響によるアーチファクトが発生することを防止することができる放射線撮影装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、トモシンセシス撮影により撮影された被検者の複数枚の投影画像から、被検者の所定断面における断層画像を再構成する放射線撮影装置であって、
投影画像に対応する投影画像信号から、それぞれ周波数応答特性が異なる複数の帯域制限画像信号を作成する周波数フィルタ処理部と、
帯域制限画像信号が第1の所定値を超える部分の変換係数が、第1の所定値を超えない部分の変換係数よりも小さくなるような非線形変換特性に従って、帯域制限画像信号を非線形変換する非線形変換処理部と、
非線形変換処理部により非線形変換された複数の帯域制限画像信号を積算して変換画像信号を作成する積算処理部と、
複数の投影画像に対応する複数の変換画像信号から、被検者の所定断面における断層画像を再構成する逆投影処理部とを備えることを特徴とする放射線撮影装置を提供する。
ここで、非線形変換処理部は、さらに、投影画像信号の高周波側の成分よりも低周波側の成分になるほど、帯域制限画像信号が小さくなるように非線形変換するものであることが好ましい。
また、非線形変換処理部は、さらに、被検者の正面から撮影した投影画像よりも端部側で撮影した投影画像になるほど、帯域制限画像信号が小さくなるように非線形変換するものであることが好ましい。
また、非線形変換処理部は、さらに、投影画像信号が第2の所定値よりも小さい画素の帯域制限画像信号が小さくなるように非線形変換するものであることが好ましい。
また、周波数フィルタ処理部は、投影画像信号を、放射線源の移動方向に沿って1次元的に帯域制限することにより、複数の帯域制限画像信号を作成するものであることが好ましい。
さらに、1つの変換画像信号に対応する1枚の変換画像を基準変換画像として、断層画像上の同一位置に累積加算される、基準変換画像上の画素と各々の変換画像上の画素との間の類似度を算出する類似度算出部と、
複数枚の変換画像の各画素について、類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数を算出する重み付け係数算出部とを備え、
逆投影処理部は、断層画像上の同一位置に累積加算される、複数枚の変換画像の画素の画素値とこれに対応する重み付け係数との乗算値を累積加算することにより、断層画像を再構成するものであることが好ましい。
ここで、類似度算出部は、断層画像上の同一位置に累積加算される、基準変換画像上の第1領域と各々の変換画像上の第2領域との間の類似度を算出するものであることが好ましい。
また、類似度算出部は、複数枚の変換画像のうち、被検者の真正面から撮影された変換画像を基準変換画像とするものであることが好ましい。
逆投影処理部は、複数枚の変換画像から断層画像を再構成するものであり、
さらに、断層画像上の同一位置に累積加算された複数枚の変換画像上の画素間の類似度を算出する類似度算出部と、
断層画像の各画素について、類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数を算出する重み付け係数算出部と、
断層画像の各画素の画素値とこれに対応する重み付け係数とを乗算して乗算処理画像を作成する乗算処理部とを備えることが好ましい。
また、類似度算出部は、断層画像上の同一位置に累積加算された複数枚の変換画像上の所定の領域間の類似度を算出するものであることが好ましい。
また、類似度算出部は、正規化相互相関によって類似度を算出するものであることが好ましい。
また、重み付け係数算出部は、類似度を重み付け係数として使用するものであることが好ましい。
本発明によれば、演算時間を増大させることなく、断層画像において、金属等の元々コントラストが大きい部分が過強調されアーチファクトが発生したり、ノイズ成分が強調されることを低減することができる。
また、本発明によれば、投影画像間の類似度に応じて、画素値の重み付けを行うため、再構成後の断層画像において、注目構造物を強調するとともに、注目構造物以外の構造物の影響によるアーチファクトが発生することを防止することができる。
本発明の放射線撮影装置の構成を表す一実施形態のブロック図である。 (A)および(B)は、トモシンセシス撮影による断層画像の再構成時の様子を表す一例の概念図である。 第1の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す一実施形態のブロック図である。 トモシンセシス撮影により撮影される構造物と投影画像における構造物との位置関係を表す一例の概念図である。 断層画像の再構成時の様子を表す一例の概念図である。 構造物の位置と放射線源の位置と投影画像上における投影位置との関係を表す一例の概念図である。 第2の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す一実施形態のブロック図である。 第3の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す第1実施形態のブロック図である。 非線形変換処理のフィルタ特性を表す一例のグラフである。 第3の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す第2の実施形態のブロック図である。 非線形変換処理のフィルタ特性を表す一例のグラフである。 第3の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す第3の実施形態のブロック図である。 非線形変換処理のフィルタ特性を表す一例のグラフである。 非線形変換処理のフィルタ特性を表す一例のグラフである。 非線形変換処理のフィルタ特性を表す一例のグラフである。 周波数フィルタ処理部の構成を表す一例のブロック図である。 (A)および(B)は、線形変換処理のフィルタ特性を表す一例のグラフである。
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の放射線撮影装置を詳細に説明する。
図1は、本発明の放射線撮影装置の構成を表す一実施形態のブロック図である。同図に示す放射線撮影装置10は、被検者34をトモシンセシス撮影して、撮影角度の異なる複数枚の投影画像(放射線画像)を撮影し、撮影した複数枚の投影画像から、被検者34の所定高さの断面における断層画像を再構成するものである。放射線撮影装置10は、撮影装置12と、コンソール14とによって構成されている。
撮影装置12は、被検者34をトモシンセシス撮影して、撮影角度の異なる複数枚の投影画像を撮影するものであり、放射線源16と、放射線制御装置18と、撮影台20とを備えている。
放射線源16は、放射線制御装置18の制御により、被検者34の投影画像の撮影時に、所定強度の放射線を所定の時間だけ照射する。つまり、所定の照射量(線量)の放射線を照射する。
放射線制御装置18は、後述するコンソール14の制御装置26の制御により、撮影条件に応じて、放射線源16の動作(放射線の照射、照射位置および照射角度等)を制御する。
図示例の撮影台20は、臥位撮影台であって、投影画像の撮影時に、被検者34を位置決めするための台である。なお、撮影台20として、立位撮影台を使用することもできる。撮影台20の下側には、放射線検出器22が配置されている。
放射線検出器22は、例えば、フラットパネル型のもの(FPD:フラットパネルディテクタ)であって、放射線源16から照射され、被検者34を透過した放射線を検出することによって、被検者34が撮影された投影画像の画像信号(画像データ)を出力する。
続いて、コンソール14は、放射線撮影装置10全体の動作を制御するものであって、入力装置24と、制御装置26と、画像処理装置28と、記録装置30と、表示装置32とを備えている。
入力装置24は、例えば、撮影指示等の各種の指示や、撮影条件等の各種の情報を入力するためのものであって、キーボード、マウス等を例示することができる。
制御装置26は、入力装置24を介して入力される各種の指示や各種の情報に基づいて、放射線制御装置18、画像処理装置28、記録装置30、および、表示装置32の動作を制御する。
画像処理装置28は、制御装置26の制御により、放射線検出器22から入力される複数枚の投影画像(の画像信号)に、画像合成処理やフィルタ補正処理等を含む各種の画像処理を施し、被検者34の所定高さの断面における断層画像(の画像信号)を再構成して出力する。
記録装置30は、制御装置26の制御により、画像処理装置28から出力される断層画像(の画像信号)等を含む各種の情報を記録するものであって、ハードディスク、CD−R,DVD−R、プリンタ等を例示することができる。
表示装置32は、制御装置26の制御により、画像処理装置28から出力される断層画像等を含む各種の情報を表示するものであって、液晶ディスプレイ等を例示することができる。
次に、トモシンセシス撮影時の放射線撮影装置10の動作を説明する。
放射線撮影装置10において、トモシンセシス撮影を行う場合、被検者34が、撮影台20の撮影面上に位置決めされる。その後、入力装置24から撮影開始の指示が与えられると、制御装置26の制御によりトモシンセシス撮影が開始される。
撮影が開始されると、撮影装置12では、放射線制御装置18の制御により、放射線源16を一方向に移動しながら、被検者34の方向に放射線源16の照射角度を変えて、異なる照射角度で放射線が被検者34に照射され、1回の撮影操作で撮影角度の異なる複数枚の投影画像が順次撮影される。そして、被検者34の投影画像の撮影が行われる度に、放射線検出器22から、撮影された投影画像の画像信号が出力される。
この時、コンソール14では、制御装置26の制御により、撮影装置12から入力される複数枚の投影画像の画像信号が記録装置30に順次記憶される。
撮影が終了すると、制御装置26の制御により、記録装置30に記憶された撮影角度の異なる複数枚の投影画像の画像信号から、複数枚の投影画像を位置合わせして重ね合わせる画像合成処理やフィルタ補正処理等を含む各種の画像処理が施され、被検者34の所定断面における断層画像が再構成される。そして、再構成された断層画像は、表示装置32上に表示され、必要に応じてその画像信号が記録装置30に記録される。
以下、断層画像再構成時の動作を説明する。
断層画像の再構成方法としては代表的にシフト加算法が利用される。シフト加算法は、それぞれの投影画像の撮影時における放射線源16の位置に基づいて、注目構造物の位置が合うように、撮影した複数枚の投影画像の位置を順次シフトして対応する画素を加算するものである。
図2(A)および(B)は、トモシンセシス撮影による断層画像の再構成時の様子を表す一例の概念図である。同図(A)に示すように、トモシンセシス撮影時に、放射線源16が位置S1からスタートしてS3まで移動し、S1、S2、S3の各線源位置において被検者34に放射線が照射され、それぞれ、被検者34の放射線画像P1,P2,P3が得られるものとする。
ここで、同図(A)に示すように、被検者34の高さの異なる2つの位置に構造物A,Bが存在するとする。各撮影位置(撮影時の放射線源16の位置)S1,S2,S3において、放射線源16から照射された放射線は、被検者34を透過して放射線検出器22に入射される。その結果、各撮影位置S1,S2,S3に対応する投影画像P1,P2,P3において、2つの構造物A,Bは、それぞれ異なる位置関係で投影される。
例えば、投影画像P1の場合、放射線源16の位置S1が、放射線源16の移動方向に対して、構造物A,Bよりも左側に位置するため、構造物A,Bは、それぞれ、構造物A,Bよりも右側にずれたP1A,P1Bの位置に投影される。同様に、投影画像P2の場合には、ほぼ直下のP2A,P2Bの位置に、投影画像P3の場合には、左側にずれたP3A,P3Bの位置に投影される。
構造物Aが存在する高さの断面における断層画像を再構成する場合、放射線源16の位置に基づいて、注目構造物Aの投影位置P1A,P2A,P3Aが一致するように、例えば、同図(B)に示すように、投影画像P1を左へ、投影画像P3を右にシフトさせて対応する画素を合成する。これにより、注目構造物Aが存在する高さの断層画像が再構成される。同様にして、任意高さの断面における断層画像を再構成することができる。
次に、画像処理装置28における断層画像再構成時の画像処理について説明する。
図3は、第1の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す一実施形態のブロック図である。同図に示す画像処理装置28Aは、類似度算出部136と、重み付け係数算出部138と、逆投影処理部140とを備えている。
類似度算出部136は、トモシンセシス撮影により撮影された複数枚の投影画像のうちの1枚の投影画像、例えば、被検者の真正面から撮影された投影画像を基準投影画像として、断層画像上の同一位置に累積加算される、基準投影画像上の画素の近傍の所定領域(注目画素を含むその周辺のM×Nの画素領域)と各々の投影画像上の対応する画素の近傍の所定領域との間の類似度(もしくは、分散度)を正規化相互関数によって算出する。
重み付け係数算出部138は、複数枚の投影画像の各画素について、類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数を算出する。なお、重み付け係数算出部138は、類似度そのものを重み付け係数として使用してもよい。
そして、逆投影処理部140は、断層画像上の同一位置に累積加算される、複数枚の投影画像上の画素の画素値とこれに対応する重み付け係数との乗算値を累積加算することにより、断層画像を再構成する。
画像処理装置28Aは、断層画像の再構成時に、断層画像上の同一位置に累積加算される、基準投影画像上の画素の近傍の所定領域と各々の投影画像上の対応する画素の近傍の所定領域との間の類似度(相関)に応じて、各々の投影画像の対応する画素の画素値を重み付けして加算することにより、焦点断面内の注目構造物を選択的に強調(焦点断面以外の構造物を抑制)する。
ここで、図4に示すように、トモシンセシス撮影により、注目構造物として、星状構造物および円状構造物を含む、被検者の複数枚(図4の例では3枚)の投影画像が撮影されたとする。
図6に示すように、被検者34の所定断面における注目構造物の座標を(x、y、z)、各々の投影画像の撮影時の放射線源の位置を(sxi、syi、szi)、i番目(iは、−I〜Iまでの整数、被検者34の真正面から撮影された投影画像をP0とする)の投影画像Pi上における注目構造物の投影位置を(ti、si、0)、投影画像Piの各画素の画素値をPi(ti、si)とすると、従来方法による再構成後の断層画像Tzの各画素の画素値Tz(x、y)は、下記式で表される。
Figure 2013031641
上記演算の結果、空間上の点(x、y、z)を透過した各々の投影画像Pi上の画素情報が、断層画像Tz上の対応する画素の画素値Tz(x,y)に累積加算されることになるため、点(x、y、z)の構造が強調された断層画像Tzを得ることができる。例えば、点(x、y、z)が図5に示す星状構造物上の1点であるとすれば、各々の投影画像Piの対応する画素の投影情報が重ね合わされるように作用するため、結果として、星状構造物が強調された断層画像Tzを得ることができる。
これに対し、画像処理装置28Aでは、各々の投影画像Piの各画素(ti、si)に対する重み付け係数をwi(ti、si)とすると、逆投影処理部140により再構成される断層画像Tzの各画素の画素値Tz(x、y)は、下記式で表される。
Figure 2013031641
ここで、画像処理装置28Aにおいて、重み付け係数wi(ti、si)は、以下のようにして算出される。
まず、類似度算出部136により、複数枚の投影画像Piのうち、被検者34の真正面から撮影された投影画像P0を基準投影画像P0として、断層画像Tz上の同一位置に累積加算される、基準投影画像P0上の画素の投影位置P0(t0、s0)の近傍矩形領域と、各々の投影画像Pi上の対応する画素の投影位置Pi(ti、si)の近傍矩形領域との間の類似度が正規化相互相関によって算出される。
そして、重み付け係数算出部138により、複数枚の投影画像の各画素について、類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数wi(ti、si)が算出される。なお、基準投影画像P0の重み付け係数w0(t0、s0)は、正規化自己相関となるため、“1”となる。
この重み付け係数wiによる重み付けは、断層画像Tzの各画素の画素値Tz(x、y)に累積加算される投影画像Piの対応する矩形領域間の類似度に応じて、画素値Tz(x、y)への寄与を変動させるように作用する。そのため、再構成後の断層画像Tzにおいて、注目構造物を強調するとともに、注目構造物以外の構造物の影響によるアーチファクトが発生することを防止することができる。
なお、類似度算出部136は、所定領域ではなく、断層画像Tz上の同一位置に累積加算される、基準投影画像P0上の投影位置P0(t0、s0)の画素と、各々の投影画像Pi上の投影位置Pi(ti、si)の画素との類似度を算出するようにしてもよい。また、被検者の真正面から撮影された投影画像を基準投影画像とすることは必須ではなく、複数枚の投影画像Piのうちの1枚の投影画像を基準投影画像としてもよい。
また、類似度算出部136は、正規化相互相関によって2つの投影画像の所定領域間ないし画素間の類似度を求めることも必須ではなく、各種のテンプレートマッチング(パターンマッチング)により両者の類似度を算出することができる。
また、画像処理装置28Aは、各々の投影画像の各画素を重み付けしてから断層画像を再構成しているが、これに限定されず、再構成後の断層画像の各画素を重み付けすることによっても同様の効果を得ることができる。以下、この場合について説明する。
図7は、第2の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す一実施形態のブロック図である。同図に示す画像処理装置28Bは、逆投影処理部142と、類似度算出部144と、重み付け係数算出部146と、乗算処理部148とを備えている。
逆投影処理部142は、複数枚の投影画像から断層画像を再構成する。
類似度算出部144は、断層画像上の同一位置に累積加算された、複数枚の投影画像上の画素の近傍の所定領域(注目画素を含むその周辺のM×Nの画素領域)間の類似度を正規化相互相関によって算出する。
重み付け係数算出部146は、断層画像の各画素について、類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数を算出する。
そして、乗算処理部148は、断層画像の各画素の画素値とこれに対応する重み付け係数とを乗算することにより、乗算処理後の乗算処理画像を作成する。この乗算処理画像が、表示装置32上に表示される。
画像処理装置28Bは、断層画像の再構成後に、断層画像上の同一位置に累積加算された、複数枚の投影画像上の画素の近傍の所定領域間の類似度に応じて、断層画像の対応する画素の画素値を重み付けすることにより、焦点断面内の注目構造物を選択的に強調(焦点断面以外の構造物を抑制)する。
画像処理装置28Bでは、再構成後の断層画像Tzの各画素Tz(x、y)に対する重み付け係数をwi(x、y)とすると、再構成後の断層画像Tzの各画素の画素値Tz(x、y)は、下記式で表される。
Figure 2013031641
画像処理装置28Bにおいて、重み付け係数wi(x、y)は、以下のようにして算出される。
まず、類似度算出部144により、断層画像Tz上の同一位置に累積加算された、複数枚の投影画像Pi上の画素の投影位置Pi(ti、si)の近傍矩形領域間の類似度が、複数枚のうちの2画像間における正規化相互相関の平均値によって算出される。
そして、重み付け係数算出部146により、断層画像Tzの各画素について、類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数wi(x、y)が算出される。
この重み付け係数wiによる重み付けは、断層画像Tzの各画素の画素値Tz(x、y)に累積加算される投影画像Piの対応する矩形領域間の類似度に応じて、画素値Tz(x、y)の値を変動させるように作用する。そのため、より少ない計算量で、再構成後の断層画像Tzにおいて、注目構造物を強調するとともに、注目構造物以外の構造物の影響によるアーチファクトが発生することを防止することができる。
同様に、類似度算出部144は、断層画像Tz上の同一位置に累積加算される、複数枚の投影画像Pi上の投影位置Pi(ti、si)の画素間の類似度を算出するようにしてもよい。また、類似度算出部144は、正規化相互相関に限らず、各種のテンプレートマッチング(パターンマッチング)により、2つの投影画像の所定領域ないし画素間の類似度を算出することができる。
次に、本発明の第3の態様の放射線撮影装置について説明する。
本発明の第3の態様の放射線撮影装置の構成は、本発明の第1および第2の態様の放射線撮影装置と同じである。つまり、本発明の第3の態様の放射線撮影装置10は、撮影装置12と、コンソール14とによって構成されている。また、トモシンセシス撮影時の第3の態様の放射線撮影装置10の動作は、第1および第2の態様の放射線撮影装置10と同じであるから、ここではその繰り返しの説明を省略する。
次に、画像処理装置28における断層画像再構成時の画像処理について説明する。
図8は、第3の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す第1実施形態のブロック図である。同図に示す画像処理装置28Cは、フィルタ処理部236と、非線形変換処理部238と、逆投影処理部240とを備えている。
フィルタ処理部236は、投影画像に対応する投影画像信号Sorgに対して、フィルタを用いて、周波数強調処理、周波数抑制処理等の画像処理を施して、フィルタ処理後のフィルタ処理画像に対応するフィルタ処理画像信号g(Sorg)を作成する。
非線形変換処理部238は、フィルタ処理画像信号g(Sorg)に対して、コントラスト依存および透過線量依存の非線形変換を行う。非線形変換処理部238からは、フィルタ処理画像信号g(Sorg)が非線形変換処理された後の変換画像に対応する変換画像信号Sprocが出力される。
既に説明したように、金属等の、元々コントラストが大きい部分に対応する画像信号は、上記の画像処理により過強調される場合がある。この場合、フィルタ処理画像の、金属等に対応するコントラストが大きい部分とその周辺部との画素間のフィルタ処理画像信号g(Sorg)にオーバーシュートやアンダーシュートが発生し、その結果、再構成後の断層画像の対応する部分にアーチファクトが発生する場合がある。
コントラスト依存の非線形変換処理は、上記の画像処理により、フィルタ処理画像信号g(Sorg)が所定値を超える場合、つまり、フィルタ処理画像の、コントラストが大きい部分とその周辺部との画素間のフィルタ処理画像信号g(Sorg)にオーバーシュートやアンダーシュートが発生する場合、変換画像信号Sprocに含まれる、フィルタ処理画像信号g(Sorg)の所定値を超える成分が小さくなるように、つまり、オーバーシュートやアンダーシュートが発生しないように、フィルタ処理画像信号g(Sorg)を非線形変換するものである。
また、放射線撮影では、例えば、被検者34の厚さが厚いと、放射線の透過線量が減少して投影画像信号Sorgが小さくなり、投影画像に含まれるノイズ成分が多くなる。逆に、被検者34の厚さが薄いと、透過線量が増大して投影画像信号Sorgが大きくなり、投影画像に含まれるノイズ成分が少なくなる。言い換えると、被検者34の厚さが同じ時、放射線量が少ないと透過線量が減少してノイズ成分が多くなり、放射線量が多いと透過線量が増大してノイズ成分が少なくなる。
透過線量依存の非線形変換処理は、投影画像の各画素に対応する透過線量が所定値よりも小さい場合、つまり、投影画像信号Sorgが小さく、投影画像の各画素に含まれるノイズ成分が多い場合、変換画像信号Sprocに含まれる、フィルタ処理画像信号g(Sorg)の成分が小さくなるように、つまり、変換画像の各画素に含まれるノイズ成分が少なくなるように、フィルタ処理画像信号g(Sorg)を非線形変換するものである。
上記のように、本実施形態の非線形変換処理部238は、コントラスト依存および透過線量依存の非線形変換を行う。非線形変換処理部238で行われる処理を下記式に示す。
Sproc=β(Sorg)・f(g(Sorg))
ここで、gは、周波数強調処理、周波数抑制処理等の画像処理を行う関数、fは、コントラスト依存の非線形変換処理を行う関数であり、βは、透過線量依存の非線形変換処理を行う関数である。
なお、非線形変換処理部238が、透過線量依存の非線形変換を行うことは必須ではなく、コントラスト依存の非線形変換だけを行ってもよい。
フィルタ処理部236および非線形変換処理部238は、フィルタ補正処理を行うフィルタ補正処理部を構成する。つまり、フィルタ補正処理部は、フィルタ処理部236により、投影画像信号Sorgに対して画像処理を施してフィルタ処理画像信号g(Sorg)を作成し、非線形変換処理部238により、フィルタ処理画像信号g(Sorg)に対して非線形変換を施して変換画像信号Sprocを作成する、フィルタ補正処理を行う。
最後に、逆投影処理部240は、フィルタ補正処理が施された複数枚の投影画像に対応する複数枚の変換画像の変換画像信号Sprocから、被検者34の所定高さの断面における断層画像を再構成する。
以下、画像処理装置28Cの動作を説明する。
画像処理装置28Cでは、フィルタ処理部236により、例えば、まず、投影画像信号Sorgがフーリエ変換されて、複数の周波数成分からなる周波数画像信号に変換される。続いて、周波数画像信号に対して、例えば、図17(A)のグラフに示すような高周波成分を強調するフィルタにより画像処理が施された後、逆フーリエ変換されて、フィルタ処理後のフィルタ処理画像に対応するフィルタ処理画像信号g(Sorg)が作成される。
なお、投影画像の高周波成分を強調するためのフィルタは、図17(A)に示すものに限らず、同様の機能を実現する各種のフィルタを利用することができる。また、フィルタ処理部236は、投影画像の低周波成分を抑制するものなどであってもよい。
続いて、非線形変換処理部238により、フィルタ処理画像信号g(Sorg)に対して、コントラスト依存および透過線量依存の非線形変換が施される。
例えば、図9のグラフに示すように、フィルタ処理画像信号g(Sorg)の絶対値が所定値Th1を超えるとき、関数fにより、変換画像信号Sprocに含まれる、フィルタ処理画像信号g(Sorg)の所定値Th1を超える成分の変換係数が、所定値Th1を超えない部分の変換係数よりも小さくなるような非線形変換特性に従って、フィルタ処理画像信号g(Sorg)に対してコントラスト依存の非線形変換が施される。図9は、フィルタ処理画像信号g(Sorg)が±の値を持つ場合の例であって、フィルタ処理画像信号g(Sorg)が±の値を持つことは必須ではない。
また、投影画像の各画素に対応する透過線量が所定値よりも小さい場合、変換画像信号Sprocに含まれる、フィルタ処理画像信号g(Sorg)の成分が小さくなるように非線形変換される。
上記のように、投影画像信号Sorgに対して、フィルタ処理部236による画像処理、および、非線形変換処理部238による非線形変換を合わせたフィルタ補正処理が施された結果、変換画像信号Sprocが作成される。
これにより、演算時間を増大させることなく、金属等の元々コントラストが大きい部分が過強調されたり、ノイズ成分が強調されたりして、再構成された断層画像上にアーチファクトが発生することを低減することができる。
上記のフィルタ補正処理は、全ての投影画像に対応する投影画像信号Sorgに対して順次行われ、記録装置30に記録される。そして、全ての投影画像に対応する投影画像信号Sorgに対してフィルタ補正処理が行われ、変換画像信号Sprocが作成されると、逆投影処理部240により、フィルタ補正処理が施された複数枚の変換画像の変換画像信号Sprocから、被検者34の所定高さの断面における断層画像が再構成され、表示装置32上に表示される。
続いて、図10は、第3の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す第2の実施形態のブロック図である。同図に示す画像処理装置28Dは、周波数フィルタ処理部242と、非線形変換処理部244Bと、積算処理部246Bと、逆投影処理部248とによって構成されている。
周波数フィルタ処理部242は、投影画像に対応する投影画像信号Sorgから、それぞれ周波数応答特性が異なる、複数枚の帯域制限画像に対応する複数の帯域制限画像信号Sbi(i=1〜k、kは2以上の整数)を作成する周波数フィルタ処理を行う。周波数フィルタ処理部242は、同図に示すように、非鮮鋭マスク画像信号作成部250と、帯域制限画像信号作成部252とを備えている。
非鮮鋭マスク画像信号作成部250は、投影画像信号Sorgから、投影画像の平均画像であり、それぞれ周波数応答特性が異なる、複数枚の非鮮鋭マスク画像に対応する複数の非鮮鋭マスク画像信号Susi(i=1〜k、kは2以上の整数)を作成する。本実施形態の場合、非鮮鋭マスク画像信号Sus1が高周波側、非鮮鋭マスク画像信号Suskが低周波側の非鮮鋭マスク画像である。
また、帯域制限画像信号作成部252は、投影画像信号Sorg、および、非鮮鋭マスク画像信号Susiから、それぞれ周波数応答特性が異なる、複数枚の帯域制限画像に対応する複数の帯域制限画像信号Sbiを作成する。帯域制限画像は、投影画像および複数枚の非鮮鋭マスク画像のうち、周波数成分(周波数帯域)が隣接する2つの画像間の差分画像である。
なお、周波数フィルタ処理部242は、投影画像信号Sorgを、放射線源の移動方向に沿って1次元的に帯域制限することにより、複数の帯域制限画像信号Sbiを作成する。放射線源の移動方向に直交する方向を帯域制限する必要はないが、帯域制限してもよい。
続いて、非線形変換処理部244Bは、帯域制限画像信号Sbiに対して、コントラスト依存の非線形変換処理(fi(i=1〜k、kは2以上の整数))を施す。
コントラスト依存の非線形変換処理は、図11に示すように、帯域制限画像信号Sbiが所定値を超える場合に、コントラストを抑制するような変換を各画素に対して行う。これにより、帯域制限画像信号Sbiが過度のコントラストをもつことを防ぎ、オーバーシュートやアンダーシュートの発生を抑制する。
さらに、非線形変換処理部244Bは、コントラスト依存の非線形変換に加えて、投影画像信号Sorgに依存したゲインgi(Sorg)を帯域制限画像信号Sbiごとに乗じる透過線量依存の非線形変換処理を施す(gi(i=1〜k、kは2以上の整数))。giは投影画像信号Sorgが所定値よりも小さい場合に、小さなゲイン値が適用されるような関数形状を有する。これにより、透過線量が少なくノイズ成分が多い画素に対して、ノイズ成分のコントラストを抑制する方向に作用させることができ、ノイズが悪化するのを防ぐことができる。また、金属などの高吸収体によるコントラストを抑制する方向に作用させることができる。
続いて、積算処理部246Bは、非線形変換処理部244Bから出力された複数の帯域制限画像信号Sbiを積算して変換画像信号Sprocを作成する。変換画像信号Sprocは下記式で表すことができる。
Sproc=Σgi(Sorg)・fi(Sbi)
ここで、giは投影画像信号Sorgに依存したゲインを規定する非線形関数、fiはコントラスト依存の非線形変換処理を規定する関数である。
周波数フィルタ処理部242、非線形変換処理部244Bおよび積算処理部246Bは、フィルタ補正処理を行うフィルタ補正処理部を構成する。つまり、フィルタ補正処理部は、周波数フィルタ処理部242により、投影画像信号Sorgから帯域制限画像信号Sbiを作成し、非線形変換処理部244Bにより、帯域制限画像信号Sbiに対して非線形変換処理を施し、積算処理部246Bにより、非線形変換された帯域制限画像信号Sbiを積算して変換画像信号Sprocを作成する、フィルタ補正処理を行う。
逆投影処理部248は、フィルタ補正処理が施された複数枚の投影画像に対応する複数枚の変換画像の変換画像信号Sprocから、被検者34の所定高さの断面における断層画像を再構成する。
以下、画像処理装置28Dの動作を説明する。
画像処理装置28Dでは、周波数フィルタ処理部242により、各々の投影画像に対応する投影画像信号Sorgに対して以下の周波数フィルタ処理が行われる。
まず、非鮮鋭マスク画像信号作成部250により、投影画像信号Sorgから、それぞれ周波数応答特性が異なる、複数枚の非鮮鋭マスク画像に対応する複数の非鮮鋭マスク画像信号Susiが作成される。
非鮮鋭マスク画像信号作成部250は、例えば、投影画像を構成する全ての画素の投影画像信号Sorgについて、非鮮鋭マスクでフィルタ処理を施すことにより、非鮮鋭マスク画像信号Sus1を作成する。そして、このフィルタ処理をフィルタ処理後の非鮮鋭マスク画像信号Susiに対して繰り返し施すことにより、それぞれ周波数応答特性が異なる、複数の非鮮鋭マスク画像信号Sus1、Sus2、Sus3、…、Suskを作成する。
続いて、帯域制限画像信号作成部252により、投影画像信号Sorg、および、非鮮鋭マスク画像信号Susiから、複数の周波数成分の帯域制限画像に対応する複数の帯域制限画像信号Sbiが作成される。
帯域制限画像信号作成部252は、例えば、減算器で投影画像信号Sorgから非鮮鋭マスク画像信号Sus1を減算することにより、帯域制限画像信号Sb1を作成する。以下同様に、隣接する周波数成分の非鮮鋭マスク画像同士の画像信号の減算Sus1-Sus2、Sus2-Sus3、Sus3-Sus4、…、Sus(k-1)-Suskを行うことにより、複数の周波数成分の帯域制限画像に対応する複数の帯域制限画像信号Sb1、Sb2、Sb3、…、Sbkを作成する。
つまり、帯域制限画像信号Sbkは、それぞれ所定の周波数帯域に制限された帯域制限画像の周波数成分のみを含む信号となる。
続いて、非線形変換処理部244Bにより、帯域制限画像信号Sbiに対して、コントラスト依存の非線形変換処理が施される。
非線形変換処理部244Bでは、図11のグラフに示すように、帯域制限画像信号Sbiの絶対値が所定値を超える場合に、関数fiにより、変換画像信号Sprocに含まれる、帯域制限画像信号Sbiの所定値を超える成分が小さくなるように、帯域制限画像信号Sbiに対してコントラストを抑制するような変換が各画素に対して行われる。図11は、帯域制限画像信号Sbiが±の値を持つ場合の例である。
さらに、非線形変換処理部244Bでは、コントラスト依存の非線形変換に加えて、関数giにより、変換画像信号Sprocに含まれる、投影画像信号が所定値よりも小さい画素の帯域制限画像信号が小さくなるように、投影画像信号Sorgに依存したゲインgi(Sorg)が帯域制限画像信号Sbiごとに乗じられる。非線形変換処理部244Bからは、非線形変換された帯域制限画像信号Sbiが出力される。
続いて、積算処理部246Bにより、非線形変換処理部244Bから出力された複数の帯域制限画像信号Sbiが積算され、変換画像に対応する変換画像信号Sprocが作成される。
上記のように、周波数フィルタ処理部242により作成された帯域制限画像信号Sbiに対して、非線形変換処理部244Bによる非線形変換、ならびに、積算処理部246Bによる積算処理を合わせたフィルタ補正処理が施された結果、変換画像信号Sprocが作成される。
これにより、断層画像において、金属等の元々コントラストが大きい部分が過強調されアーチファクトが発生したり、ノイズ成分が強調されることを低減することができる。
上記のフィルタ補正処理は、全ての投影画像に対応する投影画像信号Sorgに対して順次行われ、記録装置30に記録される。そして、全ての投影画像に対応する投影画像信号Sorgに対して上記のフィルタ補正処理が行われ、変換画像信号Sprocが作成されると、逆投影処理部248により、フィルタ補正処理が行われた複数枚の変換画像の変換画像信号Sprocから、被検者の所定高さの断面における断層画像が再構成され、表示装置32上に表示される。
続いて、図12は、第3の態様の放射線撮影装置の画像処理装置の構成を表す第3の実施形態のブロック図である。同図に示す画像処理装置28Eは、図10に示す画像処理装置28Dと同様に、周波数フィルタ処理部242と、非線形変換処理部244Cと、積算処理部246Cと、逆投影処理部248とによって構成されている。画像処理装置28Eと画像処理装置Dとの違いは、非線形変換処理部244Cおよび積算処理部246Cであるから、以下、これらを主として説明する。
非線形変換処理部244Cは、非線形変換処理部244Bと同様に、帯域制限画像信号Sbiに対して、コントラスト依存の非線形変換処理を施す。さらに、非線形変換処理部244Bは、コントラスト依存の非線形変換に加えて、投影画像信号Sorgに依存したゲインgi(Sorg)を帯域制限画像信号Sbiごとに乗じる透過線量依存の非線形変換処理を施す。
非線形変換処理部244Cは、図12に示すように、関数fusおよび関数gusにより、非鮮鋭マスク画像信号作成部250の最終段から出力される非鮮鋭マスク画像信号(最も低周波側の非鮮鋭マスク画像信号)Suskに対してもフィルタ補正処理を施すが、これは必須ではない。
続いて、積算処理部246Cは、非線形変換処理部244Cから出力された複数の帯域制限画像信号Sbiを積算して、積算処理後の変換画像に対応する変換画像信号Sprocを作成する。変換画像信号Sprocは下記式で表すことができる。
Sproc=Σgi(Sorg)・fi(Sbi)
ここで、giは投影画像信号Sorgに依存したゲインを規定する非線形関数、fiはコントラスト依存の非線形変換処理を規定する関数である。
同様に、周波数フィルタ処理部242、非線形変換処理部244Cおよび積算処理部246Cは、フィルタ補正処理を行うフィルタ補正処理部を構成する。つまり、フィルタ補正処理部は、周波数フィルタ処理部242により、投影画像信号Sorgから帯域制限画像信号Sbiを作成し、非線形変換処理部244Cにより、帯域制限画像信号Sbiに対して非線形変換処理を施し、積算処理部246Cにより、非線形変換された帯域制限画像信号Sbiを積算して変換画像信号Sprocを作成する、フィルタ補正処理を行う。
以下、画像処理装置28Eの動作を説明する。
周波数フィルタ処理部242により、複数の周波数成分の帯域制限画像に対応する複数の帯域制限画像信号Sb1、Sb2、Sb3、…、Sbkが作成されるまでの動作は画像処理装置28Dの場合と同様である。
続いて、非線形変換処理部244Cにより、帯域制限画像信号Sbiに対して、コントラスト依存の非線形変換処理、および、透過線量依存の非線形変換処理が施される。
非線形変換処理部244Cでは、図13のグラフに示すように、関数giにより、投影画像信号Sorgが所定値よりも小さい画素、つまり、放射線の吸収が大きく明度の高い(濃度の低い)画素について、変換画像信号Sprocに含まれる、帯域制限画像信号Sbiの成分がより小さくなるように、投影画像信号Sorgに依存したゲインgi(Sorg)を帯域制限画像信号Sbiごとに乗じる非線形変換が施される。特に、投影画像信号Sorgの高周波側の成分よりも低周波側の成分になるほど、投影画像信号Sorgが所定値よりも小さい画素について、変換画像信号Sprocに含まれる、帯域制限画像信号Sbiの成分がより小さくなるように非線形変換処理が施される。
このように、投影画像信号Sorgが所定値よりも小さい画素に対して、特に低周波成分を抑制する特性を持たせることによって、吸収が大きい金属などに起因するコントラストを抑制する方向に作用させ、再構成画像に生じるアーチファクトを低減できる。
また、図14のグラフに示すように、関数giにより、被検者34の正面から撮影した投影画像(撮影角度=0度)よりも、端部側で撮影した投影画像(撮影角度が大きい投影画像)になるほど、投影画像信号Sorgが所定値よりも小さい画素について、変換画像信号Sprocに含まれる、帯域制限画像信号Sbiの成分がより小さくなるように、投影画像信号Sorgに依存したゲインgi(Sorg)を帯域制限画像信号Sbiごとに乗じる非線形変換処理を施してもよい。
また、非線形変換処理部244Cでは、図15のグラフに示すように、帯域制限画像信号Sbiの絶対値が所定値Th1を超える場合、関数fiにより、変換画像信号Sprocに含まれる、帯域制限画像信号Sbiの所定値Th1を超える成分が小さくなるように、帯域制限画像信号Sbiに対してコントラストを抑制するような変換が各画素に対して行われる。図15は、帯域制限画像信号Sbiが±の値を持つ場合の例である。非線形変換処理部244Cからは、非線形変換された帯域制限画像信号Sbiが出力される。
また、関数fiにより、被検者34の正面から撮影した投影画像よりも端部側で撮影した投影画像になるほど、帯域制限画像信号Sbiを非線形変換する関数fiの変換曲線の勾配が緩やかになるように、つまり、帯域制限画像信号Sbiが小さくなるように非線形変換処理を施してもよい。
続いて、積算処理部246Cにより、非線形変換処理部244Bから出力された複数の帯域制限画像信号Sbiが積算され、変換画像に対応する変換画像信号Sprocが作成される。これ以降の動作は画像処理装置28Dの場合と同様である。
上記のように、周波数フィルタ処理部242により作成された帯域制限画像信号Sbiに対して、非線形変換処理部244Cによる非線形変換、ならびに、積算処理部246Cによる積算処理を合わせたフィルタ補正処理が施された結果、変換画像信号Sprocが作成される。
これにより、再構成後の断層画像において、吸収が大きい金属等の元々コントラストが大きい部分を抑制することができるため、アーチファクトが発生したり、ノイズ成分が強調されることを低減することができる。
なお、特許文献3に記載されているように、投影画像の画素を順次間引き、それぞれ解像度の異なる複数枚の非鮮鋭マスク画像を作成することにより、それぞれ周波数応答特性が異なる、複数の非鮮鋭マスク画像信号Susiを作成することもできる。
この方法では、図16に示すように、非鮮鋭マスク画像信号作成部250Bにより、投影画像信号Sorgに対して非鮮鋭マスク画像処理を行うとともに、投影画像の図中縦方向(放射線源の移動方向)の画素を順次1/2に間引くことを繰り返し行って、サイズ(解像度)の異なる複数枚の非鮮鋭マスク画像(ガウシアンピラミッド)を作成する。これにより、縦方向のサイズが、投影画像の1/2、1/4、1/8、…であり、横方向のサイズが投影画像と同じ、複数枚の非鮮鋭マスク画像に対応する非鮮鋭マスク画像信号Sus1、Sus2、Sus3、…、Suskが作成される。
同図に示すように、複数枚の非鮮鋭マスク画像は縦方向のサイズが異なる。このため、このままでは、続く帯域制限画像信号作成部252Bにより、投影画像の画像信号Sorgとこれに隣接する非鮮鋭マスク画像の画像信号Sus1、および、隣接する周波数成分の非鮮鋭マスク画像同士の画像信号の減算Sorg-Sus1、Sus1-Sus2、Sus2-Sus3、Sus3-Sus4、…、Sus(k-1)-Suskを行うことができない。
そこで、帯域制限画像信号作成部252Bにより、各々の非鮮鋭マスク画像の縦方向のサイズを2倍にアップサンプリングして補間した後、投影画像の画像信号Sorgとこれに隣接する非鮮鋭マスク画像の画像信号Sus1、および、隣接する周波数成分の非鮮鋭マスク画像同士の画像信号の減算Sorg-Sus1、Sus1-Sus2、Sus2-Sus3、Sus3-Sus4、…、Sus(k-1)-Suskを行って、複数の周波数成分の帯域制限画像に対応する複数の帯域制限画像信号Sb1、Sb2、Sb3、…、Sbkを作成する。
また、同図に示すように、減算処理後の帯域制限画像も縦方向のサイズが異なる。そのため、図16では図示を省略しているが、帯域制限画像信号作成部252Bの場合と同様に、積算処理部246Bにより、帯域制限画像の縦方向のサイズを2倍にアップサンプリングして補間した後、複数の変換画像信号を積算して変換画像信号Sprocを作成する。
なお、画像の縦方向だけでなく、横方向の画素も同時に間引いて、それぞれ解像度の異なる複数の非鮮鋭マスク画像を作成してもよい。
上記実施形態の放射線撮影装置は、トモシンセシス撮影により、放射線源を直線状の軌道で移動して被検者の投影画像を撮影するものであるが、本発明はこれに限定されず、例えば、放射線源を、被検者を中心とする円弧状の軌道で移動して被検者の投影画像を撮影するものなど、放射線源を直線軌道以外の軌道で移動してトモシンセシス撮影を行う放射線撮影装置にも適用可能である。この場合、対応する画素を求める計算式を撮影の幾何学系に応じて変えれば本発明を適用することができる。
また、上記実施形態の放射線撮影装置は、シフト加算法により、被検者の所定断面における断層画像の再構成を行うものであるが、本発明はこれに限定されず、例えば、フィルタ逆投影法により対応する画素を累積加算して断層画像の再構成を行うものなど、シフト加算法以外の再構成法により断層画像の再構成を行う放射線撮影装置にも適用可能である。例えば、フィルタ逆投影法により断層画像の再構成を行う放射線撮影装置の場合、フィルタ処理後の投影画像を使って本発明を適用することができる。
また、第1または第2態様の放射線撮影装置と、第3態様の第1〜第3実施形態のいずれかの放射線撮影装置とを組み合わせて使用することも可能である。すなわち、第3態様の放射線撮影装置によって作成される複数枚の変換画像の各々に対応する複数の変換画像信号Sprocを、トモシンセシス撮影により撮影された複数枚の投影画像に対応する複数の投影画像信号の代わりに、第1または第2態様の放射線撮影装置に供給し、複数枚の変換画像から断層画像を再構成することができる。
この場合、第3態様の第1実施形態の放射線撮影装置の非線形変換処理部238によって作成される、非線形変換処理後の変換画像に対応する変換画像信号Sproc、ないし、第2実施形態の積算処理部246Bまたは第3実施形態の積算処理部246Cによって作成される、積算処理後の変換画像に対応する変換画像信号Sprocを、第1態様の放射線撮影装置の類似度算出部136、または、第2態様の放射線撮影装置の逆投影処理部142に供給する。
これにより、第3態様の放射線撮影装置の効果と、第1および第2態様の放射線撮影装置の効果の両方を得ることができる。つまり、再構成後の断層画像において、演算時間を増大させることなく、金属等の元々コントラストが大きい部分が過強調されてアーチファクトが発生したり、ノイズ成分が強調されたりすることを低減することができる。さらに、注目構造物を強調するとともに、注目構造物以外の構造物の影響によるアーチファクトが発生することを防止することができる。
本発明は、基本的に以上のようなものである。
以上、本発明について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
10 放射線撮影装置
12 撮影装置
14 コンソール
16 放射線源
18 放射線制御装置
20 撮影台
24 入力装置
26 制御装置
28、28A、28B、28C、28D、28E 画像処理装置
30 記録装置
32 表示装置
34 被検者
136、144 類似度算出部
138、146 重み付け係数算出部
140、142 逆投影処理部
148 乗算処理部
236 フィルタ処理部
238、244B、244C 非線形変換処理部
240、248 逆投影処理部
242 周波数フィルタ処理部
246B、246C 積算処理部
250 非鮮鋭マスク画像信号作成部
252 帯域制限画像信号作成部

Claims (12)

  1. トモシンセシス撮影により撮影された被検者の複数枚の投影画像から、被検者の所定断面における断層画像を再構成する放射線撮影装置であって、
    前記投影画像に対応する投影画像信号から、それぞれ周波数応答特性が異なる複数の帯域制限画像信号を作成する周波数フィルタ処理部と、
    前記帯域制限画像信号が第1の所定値を超える部分の変換係数が、該第1の所定値を超えない部分の変換係数よりも小さくなるような非線形変換特性に従って、該帯域制限画像信号を非線形変換する非線形変換処理部と、
    前記非線形変換処理部により非線形変換された複数の帯域制限画像信号を積算して変換画像信号を作成する積算処理部と、
    複数の前記投影画像に対応する複数の前記変換画像信号から、前記被検者の所定断面における断層画像を再構成する逆投影処理部とを備えることを特徴とする放射線撮影装置。
  2. 前記非線形変換処理部は、さらに、前記投影画像信号の高周波側の成分よりも低周波側の成分になるほど、前記帯域制限画像信号が小さくなるように非線形変換するものである請求項1に記載の放射線撮影装置。
  3. 前記非線形変換処理部は、さらに、前記被検者の正面から撮影した投影画像よりも端部側で撮影した投影画像になるほど、前記帯域制限画像信号が小さくなるように非線形変換するものである請求項1または2に記載の放射線撮影装置。
  4. 前記非線形変換処理部は、さらに、前記投影画像信号が第2の所定値よりも小さい画素の帯域制限画像信号が小さくなるように非線形変換するものである請求項1〜3のいずれかに記載の放射線撮影装置。
  5. 前記周波数フィルタ処理部は、前記投影画像信号を、放射線源の移動方向に沿って1次元的に帯域制限することにより、複数の前記帯域制限画像信号を作成するものである請求項1〜4のいずれかに記載の放射線撮影装置。
  6. さらに、1つの変換画像信号に対応する1枚の変換画像を基準変換画像として、前記断層画像上の同一位置に累積加算される、前記基準変換画像上の画素と各々の前記変換画像上の画素との間の類似度を算出する類似度算出部と、
    複数枚の前記変換画像の各画素について、前記類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数を算出する重み付け係数算出部とを備え、
    前記逆投影処理部は、前記断層画像上の同一位置に累積加算される、複数枚の前記変換画像の画素の画素値とこれに対応する重み付け係数との乗算値を累積加算することにより、前記断層画像を再構成するものである請求項1〜5のいずれかに記載の放射線撮影装置。
  7. 前記類似度算出部は、前記断層画像上の同一位置に累積加算される、前記基準変換画像上の第1領域と各々の前記変換画像上の第2領域との間の類似度を算出するものである請求項6に記載の放射線撮影装置。
  8. 前記類似度算出部は、複数枚の前記変換画像のうち、前記被検者の真正面から撮影された変換画像を前記基準変換画像とするものである請求項6または7に記載の放射線撮影装置。
  9. 前記逆投影処理部は、複数枚の前記変換画像から前記断層画像を再構成するものであり、
    さらに、前記断層画像上の同一位置に累積加算された複数枚の前記変換画像上の画素間の類似度を算出する類似度算出部と、
    前記断層画像の各画素について、前記類似度が高くなるほど大きくなるように重み付け係数を算出する重み付け係数算出部と、
    前記断層画像の各画素の画素値とこれに対応する重み付け係数とを乗算して乗算処理画像を作成する乗算処理部とを備える請求項1〜5のいずれかに記載の放射線撮影装置。
  10. 前記類似度算出部は、前記断層画像上の同一位置に累積加算された複数枚の前記変換画像上の所定の領域間の類似度を算出するものである請求項9に記載の放射線撮影装置。
  11. 前記類似度算出部は、正規化相互相関によって前記類似度を算出するものである請求項6〜10のいずれかに記載の放射線撮影装置。
  12. 前記重み付け係数算出部は、前記類似度を前記重み付け係数として使用するものである請求項6〜11のいずいれかに記載の放射線撮影装置。
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